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영상 처리 기반 리소그래피 시스템 및 표적물 코팅 방법
- 기술번호 : KST2014037023
- 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
- 전화번호 : 02-2155-3662
| 요약 | 리소그래피 시스템에 관한 기술이 개시된다. 일 실시 예에 있어서, 리소그래피 시스템은 기판 위에 배치된 적어도 하나의 표적물(target object), 상기 표적물을 영상 처리하여 상기 표적물의 코팅층을 위한 광 패턴을 정하는 처리기 및 상기 처리기에 의해 정해진 상기 광 패턴을 가지는 광을 상기 기판에 제공하는 노광 장치를 포함한다. |
|---|---|
| Int. CL | H01L 21/027 (2006.01.01) G03F 7/20 (2006.01.01) |
| CPC | G03F 7/70383(2013.01) G03F 7/70383(2013.01) G03F 7/70383(2013.01) G03F 7/70383(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020100005094 (2010.01.20) |
| 출원인 | 서울대학교산학협력단 |
| 등록번호/일자 | 10-1101315-0000 (2011.12.26) |
| 공개번호/일자 | 10-2011-0085349 (2011.07.27) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20111230) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2010.01.20) |
| 심사청구항수 | 20 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 권성훈 | 대한민국 | 서울 관악구 |
| 2 | 정수은 | 대한민국 | 서울 강남구 |
| 3 | 장지성 | 대한민국 | 서울특별시 송파구 |
| 4 | 한상권 | 대한민국 | 인천광역시 남동구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 남정길 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 인화빌딩 *층 (삼성동)(특허법인(유한)아이시스) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.01.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0037682-01 |
| 2 | 보정요구서 Request for Amendment |
2010.02.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2010-0009934-04 |
| 3 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2010.03.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0133062-33 |
| 4 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2011.03.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 5 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2011.04.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0034595-00 |
| 6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.05.16 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0262421-05 |
| 7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.07.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0529402-20 |
| 8 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.07.11 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0529400-39 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5195109-43 |
| 10 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.09.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0550807-47 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
| 16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 리소그래피 시스템에 있어서,기판 위에 배치된 적어도 하나의 표적물(target object);상기 표적물의 영상을 촬영하고 상기 촬영된 영상에 근거하여 상기 표적물의 코팅층을 위한 광 패턴을 정하는 처리기; 및상기 처리기에 의해 정해진 상기 광 패턴을 가지는 광을 상기 기판에 제공하는 노광 장치를 포함하는 리소그래피 시스템 |
| 2 |
2 제1항에 있어서,상기 기판 및 상기 표적물 표면의 적어도 일부 영역에 포토레지스트를 공급하는 제1 코팅 장치를 더 포함하는 리소그래피 시스템 |
| 3 |
3 제2항에 있어서,상기 포토레지스트는 형광체를 포함하는 리소그래피 시스템 |
| 4 |
4 제2항에 있어서,상기 기판 및 상기 표적물 표면의 적어도 일부 영역에 전도성막 또는 절연막을 형성할 수 있는 제2 코팅 장치를 더 포함하는 리소그래피 시스템 |
| 5 |
5 제1항에 있어서,상기 표적물은 세포, 반도체칩, LED 칩, RFID 칩 또는 CMOS 칩을 포함하는 리소그래피 시스템 |
| 6 |
6 제1항에 있어서,상기 코팅층은 3차원 구조물을 포함하는 리소그래피 시스템 |
| 7 |
7 제1항에 있어서,상기 노광 장치는광원; 및상기 처리기에서 제공되는 신호에 따라 상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기를 포함하는 리소그래피 시스템 |
| 8 |
8 제7항에 있어서,상기 공간 광 변조기는 디지털 마이크로미러 어레이를 포함하는 리소그래피 시스템 |
| 9 |
9 표적물 코팅 방법에 있어서,적어도 하나의 표적물이 일면에 배치된 기판을 준비하는 과정;상기 표적물의 영상을 촬영하고 상기 촬영된 영상에 근거하여 상기 표적물의 코팅층을 위한 광 패턴을 정하는 과정; 및정해진 상기 광 패턴을 가지는 광을 상기 기판에 제공하는 과정을 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 10 |
10 제9항에 있어서,상기 기판 및 상기 표적물 표면의 적어도 일부 영역에 포토레지스트를 형성하는 과정을 더 포함하되,상기 포토레지스트는 정해진 상기 광 패턴을 가지는 상기 광에 의하여 선택적으로 경화되는 표적물 코팅 방법 |
| 11 |
11 제10항에 있어서,상기 포토레지스트는 형광체를 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 12 |
12 제10항에 있어서,상기 포토레지스트를 형성하는 과정 이전에 수행되며, 상기 표적물 표면의 적어도 일부 영역에 추가적인 코팅층을 형성하는 과정을 더 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 13 |
13 제10항에 있어서, 상기 포토레지스트를 형성하는 과정을 수행함에 있어서, 내부에 상기 포토레지스트를 포함하는 유체관을 사용하여 상기 기판 및 상기 표적물 표면의 적어도 일부 영역에 포토레지스트를 형성하는 표적물 코팅 방법 |
| 14 |
14 제13항에 있어서,상기 포토레지스트를 형성하는 과정을 수행함에 있어서, 상기 표적물 상면에 위치하는 경화된 상기 포토레지스트의 두께는 상기 유체관의 내측면과 상기 표적물의 상기 상면 사이의 거리에 따라 조절되는 표적물 코팅 방법 |
| 15 |
15 제9항에 있어서,상기 광 패턴을 정하는 과정은상기 표적물 영상을 획득하는 과정; 및획득된 상기 표적물 영상을 흑백영상변환하는 과정을 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 16 |
16 제9항에 있어서,정해진 상기 광 패턴을 가지는 상기 광을 상기 기판에 제공하는 과정은광원을 제공하는 과정; 및정해진 상기 광 패턴에 따라 상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 과정을 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 17 |
17 표적물 코팅 방법에 있어서,적어도 하나의 표적물이 일면에 배치된 기판을 준비하는 과정;상기 기판 및 상기 표적물 표면의 적어도 일부 영역에 포토레지스트를 형성하는 과정;상기 표적물의 영상을 촬영하고 상기 촬영된 영상에 근거하여 상기 표적물의 코팅층을 위한 둑을 형성하는 과정; 및상기 둑으로 둘러싸인 상기 기판 및 상기 표적물 표면의 적어도 일부 영역에 레진을 제공하는 과정을 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 18 |
18 제17항에 있어서,상기 레진은 형광체를 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 19 |
19 제17항에 있어서,상기 둑을 형성하는 과정은상기 표적물의 영상을 획득하는 과정; 및획득된 상기 표적물의 상기 영상을 사용하여 상기 둑에 해당하는 광 패턴을 가지는 광을 기판에 제공하는 과정을 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 20 |
20 제9항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판을 준비하는 과정 이후에 수행되며, 상기 표적물의 배치를 변경하는 과정을 더 포함하는 표적물 코팅 방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | CN102668024 | CN | 중국 | FAMILY |
| 2 | CN104360583 | CN | 중국 | FAMILY |
| 3 | EP02485247 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
| 4 | EP02485247 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
| 5 | EP03073322 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
| 6 | EP03073322 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
| 7 | EP03073322 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
| 8 | KR101156073 | KR | 대한민국 | FAMILY |
| 9 | US09323159 | US | 미국 | FAMILY |
| 10 | US09856564 | US | 미국 | FAMILY |
| 11 | US20120236278 | US | 미국 | FAMILY |
| 12 | US20160145744 | US | 미국 | FAMILY |
| 13 | WO2011040745 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
| 14 | WO2011040745 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | CN102668024 | CN | 중국 | DOCDBFAMILY |
| 2 | CN102668024 | CN | 중국 | DOCDBFAMILY |
| 3 | CN104360583 | CN | 중국 | DOCDBFAMILY |
| 4 | CN104360583 | CN | 중국 | DOCDBFAMILY |
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1101315-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20100120 출원 번호 : 1020100005094 공고 연월일 : 20111230 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110927 청구범위의 항수 : 20 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 영상 처리 기반 리소그래피 시스템 및 표적물 코팅 방법 존속기간(예정)만료일 : |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 412,500 원 | 2011년 12월 26일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 336,000 원 | 2014년 12월 10일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 336,000 원 | 2015년 11월 26일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 336,000 원 | 2016년 02월 22일 | 납입 |
| 제 7 년분 | 금 액 | 602,000 원 | 2017년 11월 24일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 430,000 원 | 2018년 12월 03일 | 납입 |
| 제 9 년분 | 금 액 | 430,000 원 | 2019년 12월 03일 | 납입 |
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.01.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0037682-01 |
| 2 | 보정요구서 | 2010.02.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2010-0009934-04 |
| 3 | [출원서등 보정]보정서 | 2010.03.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0133062-33 |
| 4 | 선행기술조사의뢰서 | 2011.03.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 5 | 선행기술조사보고서 | 2011.04.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0034595-00 |
| 6 | 의견제출통지서 | 2011.05.16 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0262421-05 |
| 7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.07.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0529402-20 |
| 8 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.07.11 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0529400-39 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5195109-43 |
| 10 | 등록결정서 | 2011.09.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0550807-47 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
| 16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
| 기술번호 | KST2014037023 |
|---|---|
| 자료제공기관 | NTB |
| 기술공급기관 | 서울대학교 |
| 기술명 | 영상 처리 기반 리소그래피 시스템 및 표적물 코팅 방법 |
| 기술개요 |
리소그래피 시스템에 관한 기술이 개시된다. 일 실시 예에 있어서, 리소그래피 시스템은 기판 위에 배치된 적어도 하나의 표적물(target object), 상기 표적물을 영상 처리하여 상기 표적물의 코팅층을 위한 광 패턴을 정하는 처리기 및 상기 처리기에 의해 정해진 상기 광 패턴을 가지는 광을 상기 기판에 제공하는 노광 장치를 포함한다. |
| 개발상태 | 기술개발진행중 |
| 기술의 우수성 | |
| 응용분야 | |
| 시장규모 및 동향 | |
| 희망거래유형 | 라이센스 |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1415109192 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 10030573 |
| 연구과제명 | Photonic CMOS 기반의 Intelligent Silicon Bead 기술개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
| 연구주관기관명 | 서울대학교산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2010 |
| 연구기간 | 200709~201108 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | BT(생명공학기술) |
특허성과
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