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자외선 투과 기판 상에 자외선 차단막을 형성하는 단계;상기 자외선 차단막을 패터닝하여 패터닝된 자외선 차단막과 상기 자외선 투과 기판을 포함하는 마스크를 형성하는 단계; 메타물질을 미리 준비하는 단계; 및상기 마스크에 상기 메타물질을 전사하는 단계;를 포함하고,상기 마스크에 상기 메타물질을 전사하는 단계는, 물을 매개체로 하여 상기 메타물질을 상기 마스크로 옮기는 단계; 및 상기 물을 증발시켜 상기 마스크에 상기 메타물질을 전사하는 단계;를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 1 항에 있어서,상기 물은, 유기 용매를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 1 항에 있어서,상기 메타물질을 미리 준비하는 단계는, 기판의 평면에 희생층을 형성하는 단계; 상기 희생층 상에 상기 메타물질을 생성하는 단계; 및 상기 희생층을 제거하는 단계;를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 4 항에 있어서,상기 메타물질 상에 보호막을 형성하는 단계;를 더 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 1 항에 있어서,상기 메타물질을 미리 준비하는 단계는, 기판의 평면에 제1 희생층을 형성하는 단계; 상기 제1 희생층 상에 일종의 메타물질을 생성하는 단계; 상기 제1 희생층을 제거하는 단계; 상기 일종의 메타물질을 제2 희생층에 미리 생성된 동종 또는 이종의 메타물질 상에 전사하는 단계; 및 상기 제2 희생층을 제거하는 단계;를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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자외선 투과 기판 상에 자외선 차단막을 형성하는 단계;상기 자외선 차단막을 패터닝하여 패터닝된 자외선 차단막과 상기 자외선 투과 기판을 포함하는 마스크를 형성하는 단계; 지지층과 메타물질이 포함된 복합체를 미리 준비하는 단계;상기 마스크에 상기 복합체를 전사하는 단계; 및상기 복합체의 지지층을 제거하는 단계;를 포함하고,상기 마스크에 상기 복합체를 전사하는 단계는, 물을 매개체로 하여 상기 복합체의 메타물질을 상기 마스크로 옮기는 단계; 및 상기 물을 증발시켜 상기 마스크에 상기 복합체의 메타물질을 전사하는 단계;를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 7 항에 있어서,상기 지지층과 상기 메타물질이 포함된 상기 복합체를 미리 준비하는 단계는, 기판의 평면에 희생층을 형성하는 단계; 상기 희생층 상에 상기 메타물질을 생성하는 단계; 상기 메타물질 상에 상기 지지층을 형성하는 단계; 및 상기 희생층을 제거하는 단계;를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 메타물질 상에 상기 지지층을 형성하는 단계는, 상기 메타물질 상에 보호막을 형성하는 단계; 및 상기 보호막 상에 상기 지지층을 형성하는 단계;를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 8 항에 있어서,상기 메타물질 상에 상기 지지층을 형성하는 단계는, 고분자 막의 도포(casting 또는 spin coating), 고분자 막의 흡착(absorption), 및 열분리 테이프(thermal release tape) 방법 중 어느 하나의 방법을 사용하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 8 항에 있어서,상기 메타물질 상에 상기 지지층을 형성하는 단계는, 상기 메타물질의 표면의 일부에 상기 지지층을 형성하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 7 항에 있어서,상기 물은, 유기 용매를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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기판의 평면에 희생층을 형성하는 단계;상기 희생층 상에 메타물질을 생성하는 단계;상기 메타물질 상에 자외선 차단막을 형성하는 단계;상기 자외선 차단막을 패터닝하는 단계; 및 상기 희생층을 제거하는 단계;를 포함하는, 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법
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제 1 항, 제 3 항 내지 제 11 항, 제 13 항, 제 14 항 중 어느 한 항의 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법으로 제작된 마스크
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