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비휘발성 메모리 소자

  • 기술번호 : KST2015142633
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 비휘발성 메모리 소자에 관한 것으로, 서로 이격된 제 1 및 제 2 전극과, 제 1 및 제 2 전극 사이에 마련된 적어도 한층의 나노 크리스탈층과, 제 1 및 제 2 전극과 나노 크리스탈층 사이에 각각 마련되며 쌍안정 도전성 특성을 갖는 제 1 및 제 2 물질층을 포함하고, 제 1 및 제 2 물질층은 비대칭적으로 형성된 비휘발성 메모리 소자가 제시된다.
Int. CL H01L 27/115 (2006.01) H01L 21/8247 (2006.01) H01L 21/312 (2006.01)
CPC H01L 27/11507(2013.01)
출원번호/일자 1020140128312 (2014.09.25)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1485507-0000 (2015.01.16)
공개번호/일자 10-2014-0135919 (2014.11.27) 문서열기
공고번호/일자 (20150126) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2011-0087856 (2011.08.31)
관련 출원번호 1020110087856
심사청구여부/일자 Y (2014.09.25)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박재근 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 서성호 대한민국 서울 중랑구
3 남우식 대한민국 서울특별시 성동구
4 이종선 대한민국 부산광역시 사하구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남승희 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 청보빌딩)(아인특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2014.09.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0912910-01
2 등록결정서
Decision to grant
2014.12.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0897890-13
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
서로 이격된 제 1 및 제 2 전극;상기 제 1 및 제 2 전극 사이에 마련된 적어도 한층의 나노 크리스탈층; 및 상기 제 1 및 제 2 전극과 상기 나노 크리스탈층 사이에 각각 마련되며, 쌍안정 도전성 특성을 갖는 제 1 및 제 2 물질층을 포함하고,상기 나노 크리스탈층을 기준으로 상기 제 1 및 제 2 물질층은 버퍼층 포함 여부에 따라 비대칭적으로 형성되며,상기 제 1 물질층은 제 1 전도성 유기물층을 포함하며,상기 제 2 물질층은 제 2 전도성 유기물층과, 적어도 하나의 버퍼층을 포함하는 비휘발성 메모리 소자
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 나노 크리스탈층은 복수의 나노 크리스탈과 상기 나노크리스탈을 감싸는 배리어층을 포함하는 비휘발성 메모리 소자
3 3
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 나노 크리스탈층과 제 2 전도성 유기물층 사이에 형성된 제 1 버퍼층과, 상기 제 2 전도성 유기물층과 상기 제 2 전극 사이에 형성된 제 2 버퍼층 중 적어도 하나를 포함하는 비휘발성 메모리 소자
4 4
청구항 3에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 버퍼층은 금속 화합물을 이용하여 형성된 비휘발성 메모리 소자
5 5
청구항 4에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 버퍼층은 각각 0
6 6
청구항 5에 있어서, 상기 제 2 버퍼층이 상기 제 1 버퍼층보다 두껍게 형성된 비휘발성 메모리 소자
7 7
청구항 3에 있어서, 상기 제 2 전도성 유기물층이 상기 제 1 전도성 유기물층보다 두껍게 형성된 비휘발성 메모리 소자
8 8
청구항 3에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 버퍼층은 상기 제 1 및 제 2 전극에 각각 고전압 및 저전압이 인가되는 순방향 바이어스에서 전하 이동을 촉진하고, 상기 제 1 및 제 2 전극에 각각 저전압 및 고전압이 인가되는 역방향 바이어스에서 전하 이동을 억제하는 비휘발성 메모리 소자
9 9
청구항 3에 있어서, 상기 제 1 전극 및 제 2 전극 사이에 인가되는 전위차에 따라 전류량이 급격히 증가하는 문턱 전압 영역과, 상기 제 1 및 제 2 전극 사이에 인가되는 전위차가 증가할수록 전류가 감소하는 부저항 영역을 포함하는 비휘발성 메모리 소자
10 10
청구항 9에 있어서, 상기 문턱 전압 이하의 제 1 전압 레벨에서 읽기 동작이 수행되고, 상기 문턱 전압 이상부터 상기 부저항 영역까지의 제 2 전압 레벨에서 프로그램 동작이 수행되며, 상기 제 2 전압 레벨보다 큰 제 3 전압 레벨에서 소거 동작이 수행되는 비휘발성 메모리 소자
11 11
청구항 10에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 전극에 순방향 바이어스를 인가하는 경우와 상기 제 1 및 제 2 전극에 역방향 바이어스를 인가하는 경우 비대칭적으로 동작하는 비휘발성 메모리 소자
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1 KR101460165 KR 대한민국 FAMILY

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