요약 | 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계; 상기 고분자 박막에 접착 필름을 접착시켜 상기 템프릿 기판으로부터 떼어냄으로써 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계; 상기 복제 박막 몰드 상에 기능성 물질을 증착하여 나노구조체를 형성하는 단계; 및 유기 용매 증기를 이용하여 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 제조방법이 제공된다. |
---|---|
Int. CL | B82B 3/00 (2006.01) B41M 5/00 (2006.01) |
CPC | B82B 3/00(2013.01) B82B 3/00(2013.01) B82B 3/00(2013.01) B82B 3/00(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020140159159 (2014.11.14) |
출원인 | 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-1632504-0000 (2016.06.15) |
공개번호/일자 | 10-2016-0051487 (2016.05.11) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20160621) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 |
대한민국 | 1020140148502 | 2014.10.29
|
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2014.11.14) |
심사청구항수 | 20 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 정연식 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 정재원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
3 | 양세련 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
4 | 김종민 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인 다해 | 대한민국 | 서울시 서초구 서운로**, ***호(서초동, 중앙로얄오피스텔) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2014.11.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1100635-05 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
5 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2015.07.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
6 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2015.09.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2015-0059764-98 |
7 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2015.10.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0723565-44 |
8 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2015.12.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1249252-50 |
9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2016.01.15 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2016-0048796-72 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2016.01.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0048784-24 |
11 | 등록결정서 Decision to grant |
2016.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0370658-46 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계;상기 고분자 박막에 접착 필름을 접착시켜 상기 템프릿 기판으로부터 떼어냄으로써 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계;상기 복제 박막 몰드 상에 기능성 물질을 증착하여 나노구조체를 형성하는 단계;유기 용매 증기를 이용하여 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 제조방법 |
2 |
2 제 1항에 있어서, 상기 기능성 물질을 증착하여 나노구조체를 형성하는 단계는 기울임 증착법으로 진행되는 것을 특징으로 하는 나노구조체 제조방법 |
3 |
3 제 1항에 있어서,상기 템플릿 기판은 포토리소그래피(photolithography), 블록 공중합체 자기 조립 기반 리소그래피, E-beam 리소그래피로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상의 패터닝 공정을 이용하여 원하는 크기의 패턴을 형성하고 RIE (reactive ion etching) 공정으로 표면 식각을 진행함으로써 요철 형태의 표면 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 나노구조체 제조방법 |
4 |
4 제 3항에 있어서,상기 템플릿 기판의 표면 패턴 너비는 1 nm 내지 1 cm, 깊이는 1 nm 내지 1 cm인 나노구조체 제조방법 |
5 |
5 제 3항에 있어서,상기 템플릿 기판의 표면은 표면 에너지는 30 mJ/m2 이하의 표면 에너지인 나노구조체 제조방법 |
6 |
6 제 3항에 있어서,상기 요철 형태의 표면 패턴 있는 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계는,20 내지 40 MPa1/2의 용해도 파라미터 (solubility parameter) 값을 가지며 유리 전이 온도가 상온 (25˚C) 보다 높은 고분자를 이용하는 나노구조체 제조방법 |
7 |
7 제 1항에 있어서,상기 고분자 박막을 코팅하는 단계는,단층 박막으로 도포하거나, 제 1 박막을 도포한 후 제 2 박막을 순차적으로 도포함으로써 다층 박막으로 형성하는 나노구조체 제조방법 |
8 |
8 제 1항에 있어서,상기 접착 필름으로 고분자 박막을 떼어냄으로써 복제 박막 몰드를 제작하는 단계는,상기 고분자 박막의 일면에 상기 접착 필름을 균일하게 부착하여 상기 템플릿 기판으로부터 떼어냄으로써, 상기 복제 박막 몰드에 상기 접착 필름을 부착시킨 채로 진행되는 나노구조체 제조방법 |
9 |
9 제 2 항에 있어서,상기 기울임 증착법으로 증착하여 기능성 나노 구조체를 형성하는 단계는, 증착이 이루어지는 몰드 표면과 증착 방향이 일정 각도를 가지도록 몰드를 기울여서 증착함으로써 표면에 도출된 부분에만 물질의 증착이 이루어져 나노 구조체를 형성하는 나노구조체 제조방법 |
10 |
10 제 1 항에 있어서,상기 유기 용매 증기를 이용하여 복제 박막 몰드-접착 필름간 접착력을 약화시키는 단계는,상기 유기 용매 증기를 접착 필름과 복제 박막 몰드 사이에 주입하여 계면 사이 분리 에너지를 감소시키는 방식으로 진행되는 나노구조체 제조방법 |
11 |
11 제 1 항에 있어서,상기 유기 용매 증기를 이용하여 복제 박막 몰드-접착필름간 접착력을 약화시키는 단계는,유기 용매를 함유하는 고분자 패드를 복제 박막 몰드에 접촉시키거나, 액체 상태의 유기 용매로부터 기화된 증기를 제공하여 주입시키는 나노구조체 제조방법 |
12 |
12 제 11 항에 있어서,상기 유기 용매를 함유하는 고분자 패드를 복제 박막 몰드에 접촉시켜 유기 용매를 주입하는 방법은,유기 용매에 의하여 팽창하여 유기 용매를 흡수하는 고분자 패드를 이용하는 나노구조체 제조방법 |
13 |
13 제 12 항에 있어서,상기 고분자 패드는,유기 용매의 종류에 따라 용해도 파라미터가 10 내지 40 MPa1/2 범위인 가교 고분자를 이용하여 제작하는 나노구조체 제조방법 |
14 |
14 제 12항에 있어서,상기 유기 용매가 흡수된 고분자 패드는, 상기 유기 용매에 상기 고분자 패드를 침지시킴으로써 흡수되어, 포화 팽창율까지 팽창하는 나노구조체 제조방법 |
15 |
15 제 14항에 있어서, 상기 유기 용매의 용해도 파라미터와 상기 복제 박막 몰드를 구성하는 고분자의 용해도 파라미터 차이는 10 MPa1/2이내인 나노구조체 제조방법 |
16 |
16 제 14항에 있어서, 상기 유기 용매의 용해도 파라미터와 상기 접착 필름를 구성하는 고분자의 용해도 파라미터 차이는 10 MPa1/2이내인 나노구조체 제조방법 |
17 |
17 제 1 항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 따른 나노구조체 제조방법에 의하여 제조된 나노구조체 |
18 |
18 제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 따른 나노구조체 제조방법에 의하여 나노구조체를 제조하는 단계; 및 상기 제조된 나노구조체를 기판에 전사하는 단계를 포함하는 나노 전사 프린팅 방법 |
19 |
19 제 18항에 있어서, 상기 나노 구조체를 기판에 전사 하는 단계는, 상기 나노 구조체가 형성된 복제 박막 몰드와 접착 필름을, 나노 구조체와 고분자 패드가 맞닿도록 접촉시킨 후 소정 시간 후에 떼어내는 단계; 상기 나노 구조체와 기판이 접촉하도록 상기 고분자 패드를 기판 상에 균일하게 접촉시킨 후 떼어냄으로써 상기 나노 구조체를 기판 상에 전사 시키는 나노 전사 프린팅 방법 |
20 |
20 제 19 항에 있어서, 상기 나노 전사 프린팅 방법은, 상기 나노 구조체가 형성된 복제 박막 몰드와 접착 필름을, 나노 구조체와 고분자 패드가 맞닿도록 접촉시킨 후 소정 시간 후에 떼어내는 단계 후, 유기 용매를 이용하여 복제 박막 몰드를 제거하는 단계를 더 포함하는 나노 전사 프린팅 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | EP03015918 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
2 | EP03015918 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
3 | KR101761010 | KR | 대한민국 | FAMILY |
4 | US10507604 | US | 미국 | FAMILY |
5 | US20160202123 | US | 미국 | FAMILY |
6 | WO2016068538 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
DOCDB 패밀리 정보가 없습니다 |
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 미래창조과학부 | 한국과학기술원 | 원천기술개발사업-글로벌프론티어 연구개발사업 | 초저전력 전자융합 소자 |
특허 등록번호 | 10-1632504-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20141114 출원 번호 : 1020140159159 공고 연월일 : 20160621 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20160523 청구범위의 항수 : 20 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 유기 용매 증기를 이용한 접착력 제어 방식의 나노 구조체 제조 방법 및 나노 전사 프린팅 방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 412,500 원 | 2016년 06월 15일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 240,000 원 | 2019년 06월 03일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 240,000 원 | 2020년 05월 25일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2014.11.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1100635-05 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
5 | 선행기술조사의뢰서 | 2015.07.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
6 | 선행기술조사보고서 | 2015.09.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2015-0059764-98 |
7 | 의견제출통지서 | 2015.10.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0723565-44 |
8 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2015.12.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1249252-50 |
9 | [명세서등 보정]보정서 | 2016.01.15 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2016-0048796-72 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2016.01.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0048784-24 |
11 | 등록결정서 | 2016.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0370658-46 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1711002831 |
---|---|
세부과제번호 | 2011-0031848 |
연구과제명 | 초저전력 전자융합 소자 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201109~202008 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1711014794 |
---|---|
세부과제번호 | 2011-0031848 |
연구과제명 | 초저전력 전자융합 소자 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2014 |
연구기간 | 201109~202008 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | 기타 |
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