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반도체 기판(780);
상기 반도체 기판(780) 상에 적층되는 복수의 반도체 칩들(710, 720, 730, 740);
상기 복수의 반도체 칩들(710, 720, 730, 740)의 제1 위치 상에 형성되어 상기 반도체 칩들(710, 720, 730, 740)을 관통하며 고주파 신호를 전송하는 복수의 제1 관통 웨이퍼 비아들(713); 및
상기 복수의 제1 웨이퍼 비아들(713)이 위치한 상기 제1 위치와 다른 제2 위치 상에 형성되어 상기 반도체 칩들(710, 720, 730, 740)을 관통하며 이산화규소(SiO2)막(712a, 712b)으로 둘러싸여 저주파 신호를 전송하는 복수의 제2 관통 웨이퍼 비아들(711a, 711b)을 포함하며,
상기 고주파 신호는 1GHz 이상의 주파수를 가지는 신호이고, 상기 저주파 신호는 1GHz 미만의 주파수를 가지는 신호이며, 상기 복수의 제2 관통 웨이퍼 비아들(711a, 711b)과 상기 이산화규소막(712a, 712b) 사이에는 밀착력을 증가시키는 탄탈막이 배치되는 적층 칩 패키지(700)
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제1항에 있어서, 상기 반도체 칩들 사이에 위치하는 복수의 인터포저(interposer)들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지
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반도체 기판(890);
상기 반도체 기판(890) 상에 적층되는 복수의 반도체 칩들(810, 820, 830, 840);
상기 복수의 반도체 칩(810, 820, 830, 840)들의 동일 좌표 상에 형성되어 상기 반도체 칩들(810, 820, 830, 840)을 관통하며 이산화규소막(812a, 812b)으로 둘러싸여 저주파 신호를 전달하는 복수의 관통 웨이퍼 비아들(811a, 811b); 및
상기 복수의 반도체 칩들(810, 820, 830, 840)과 상기 반도체 기판(890)을 각각 연결하고 고주파 신호를 전달하는 복수의 와이어 본드(wire-bond)들(813a)을 포함하며,
상기 고주파 신호는 1GHz 이상의 주파수를 가지는 신호이고, 상기 저주파 신호는 1GHz 미만의 주파수를 가지는 신호이며, 상기 복수의 제2 관통 웨이퍼 비아들(811a, 811b)과 상기 이산화규소막(812a, 812b) 사이에는 밀착력을 증가시키는 탄탈막이 배치되는 적층 칩 패키지(800a)
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제3항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들은 동일한 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지
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제3항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들은 상이한 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지
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제5항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들은 크기가 큰 순서대로 적층되는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지
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제5항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들은 크기가 작은 순서대로 적층되는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지
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제3항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들 사이에 위치하는 복수의 인터포저들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지
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복수의 반도체 칩들(710, 720, 730, 740)의 동일 좌표 상에 상기 복수의 반도체 칩들(710, 720, 730, 740)을 각각 관통하는 복수의 관통 웨이퍼 비아들(711a, 711b, 713)을 형성하는 단계;
상기 복수의 관통 웨이퍼 비아들 중 일부의 관통 웨이퍼 비아들(711a, 711b)을 둘러싸는 이산화규소(SiO2)막(712a, 712b)을 형성하는 단계; 및
반도체 기판(780) 위에 상기 복수의 반도체 칩들(710, 720, 730, 740)을 순서대로 적층하는 단계를 포함하며, 상기 일부의 관통 웨이퍼 비아들(711a, 711b)은 저주파 신호를 전송하고, 상기 복수의 관통 웨이퍼 비아들 중 상기 일부의 관통 웨이퍼 비아들을 제외한 관통 웨이퍼 비아들(713)은 고주파 신호를 전송하며, 상기 고주파 신호는 1GHz 이상의 주파수를 가지는 신호이고, 상기 저주파 신호는 1GHz 미만의 주파수를 가지는 신호이며, 상기 일부의 관통 웨이퍼 비아들(711a, 711b)과 상기 이산화규소막(712a, 712b) 사이에는 밀착력을 증가시키는 탄탈막이 배치되는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지 생산 방법
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제9항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들을 적층하는 단계는 상기 복수의 반도체 칩들 사이에 복수의 인터포저들을 적층하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지 생산 방법
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복수의 반도체 칩들(810, 820, 830, 840)의 동일 좌표 상에 상기 복수의 반도체 칩들(810, 820, 830, 840)을 각각 관통하는 복수의 관통 웨이퍼 비아들(811a, 811b)을 형성하는 단계;
상기 복수의 관통 웨이퍼 비아들(811a, 811b)을 둘러싸는 이산화규소막(812a, 812b)을 형성하는 단계;
반도체 기판(890) 위에 상기 복수의 반도체 칩들(810, 820, 830, 840)을 순서대로 적층하는 단계; 및
상기 복수의 반도체 칩들(810, 820, 830, 840) 각각과 상기 반도체 기판(890)을 복수의 와이어 본드들(813a)로 연결하는 단계를 포함하며, 상기 복수의 관통 웨이퍼 비아들(811a, 811b)은 저주파 신호를 전송하며 상기 복수의 와이어 본드들(813a)은 고주파 신호들을 전송하며, 상기 고주파 신호는 1GHz 이상의 주파수를 가지는 신호이고, 상기 저주파 신호는 1GHz 미만의 주파수를 가지는 신호이며, 상기 일부의 관통 웨이퍼 비아들(811a, 811b)과 상기 이산화규소막(812a, 812b) 사이에는 밀착력을 증가시키는 탄탈막이 배치되는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지 생산 방법
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제11항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들은 동일한 크기인 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지 생산 방법
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제11항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들을 적층하는 단계는 상기 복수의 반도체 칩들 사이에 위치하는 복수의 인터포저들을 적층하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지 생산 방법
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제11항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들을 서로 상이한 크기이며, 상기 반도체 기판위에 크기가 큰 순서대로 적층되는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지 생산 방법
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제11항에 있어서, 상기 복수의 반도체 칩들을 서로 상이한 크기이며, 상기 반도체 기판위에 크기가 작은 순서대로 적층되는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지 생산 방법
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