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동축 관통 실리콘 비아 구조체 및 그 제조방법(COAXIAL THROUGH SILICON VIA STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF)

  • 기술번호 : KST2015225608
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 동축 관통 실리콘 비아 구조체에 관한 것이다. 본 발명은 중심 폴(pole)의 측벽을 둘러싸는 캐버티(cavity)가 형성되어 있는 기판, 상기 중심 폴의 측벽과 상면에 형성되어 있는 내부 도전체, 상기 캐버티의 측벽과 상기 캐버티의 측벽 상부에서 외곽으로 연장되는 기판의 일부에 형성된 외부 도전체 및 상기 내부 도전체와 상기 외부 도전체를 전기적으로 절연시키도록 상기 캐버티를 포함하는 영역에 형성된 충전 절연층을 포함하여 구성된다. 본 발명에 따르면, 고 단차비를 갖는 실리콘 구조를 TSV 코어 메탈(core metal)의 일부분으로 사용함으로써, 고 단차비 도금 공정의 어려움을 해결하고, 도금 시간을 단축시켜 쉽고 빠르게 동축 관통 실리콘 비아 구조체를 제조할수 있다.
Int. CL H01L 23/48 (2006.01) H01L 21/60 (2006.01)
CPC H01L 23/481(2013.01) H01L 23/481(2013.01) H01L 23/481(2013.01)
출원번호/일자 1020140052324 (2014.04.30)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1582612-0000 (2015.12.29)
공개번호/일자 10-2015-0125272 (2015.11.09) 문서열기
공고번호/일자 (20160105) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.04.30)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김준철 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 김동수 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 박세훈 대한민국 경기도 용인시 수지구
4 육종민 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 다래 대한민국 서울 강남구 테헤란로 ***, **층(역삼동, 한독타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.04.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0414970-82
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.09.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.11.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2014-0037031-62
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0568691-41
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.09.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0909838-74
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.18 수리 (Accepted) 1-1-2015-0909837-28
7 등록결정서
Decision to grant
2015.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0899978-13
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
동축 관통 실리콘 비아 구조체에 있어서,중심 폴(pole)의 측벽을 둘러싸는 캐버티(cavity)가 형성되어 있는 기판;상기 중심 폴의 측벽과 상면에 형성되어 있는 내부 도전체;상기 캐버티의 측벽과 상기 캐버티의 측벽 상부에서 외곽으로 연장되는 기판의 일부에 형성된 외부 도전체; 및상기 내부 도전체와 상기 외부 도전체를 전기적으로 절연시키도록 상기 캐버티를 포함하는 영역에 형성된 충전 절연층을 포함하고,상기 충전 절연층은 상기 외부 도전체의 두께와 실질적으로 동일한 두께를 가지며 상기 외부 도전체로부터 연장되어 상기 기판의 표면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체
2 2
제1항에 있어서,상기 충전 절연층은 상기 내부 도전체와 상기 외부 도전체를 덮도록 상기 기판 상에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체
3 3
제2항에 있어서,상기 충전 절연층에는 상기 내부 도전체와 상기 외부 도전체를 외부와 전기적으로 연결하기 위한 배선용 도전 물질을 충전하기 위한 배선용 비아홀들이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서,상기 충전 절연층, 상기 내부 도전체 및 상기 외부 도전체를 덮도록 형성된 제1 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 동축 실리콘 비아 구조체
6 6
제5항에 있어서,상기 제1 절연층에는 상기 내부 도전체와 상기 외부 도전체를 외부와 전기적으로 연결하기 위한 배선용 도전 물질을 충전하기 위한 배선용 비아홀들이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체
7 7
동축 관통 실리콘 비아 구조체 제조방법에 있어서,기판의 일면을 식각하여 중심 폴(pole)과 상기 중심 폴의 측벽을 둘러싸는 캐버티(cavity)를 형성하는 기판 형성단계;상기 중심 폴과 상기 캐버티 및 상기 캐버티의 측벽 상부에서 연장되는 기판의 일부에 도전층을 형성하는 도전층 형성단계;상기 캐버티를 포함하는 영역에 충전 절연층을 형성하는 충전 절연층 형성단계; 및상기 캐버티의 하면에 형성되어 있는 도전층이 제거되도록 상기 기판의 타면을 연마하여 상기 도전층을 상기 중심 폴에 형성된 내부 도전체와 상기 캐버티의 측벽에 형성된 외부 도전체로 분리시키는 전극 분리단계를 포함하고,상기 충전 절연층 형성단계에서는, 오가닉 라미네이션(Organic Lamination) 공정을 이용하여 상기 충전 절연층을 형성하는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체 제조방법
8 8
삭제
9 9
제7항에 있어서,상기 오가닉 라미네이션 공정은 진공 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체 제조방법
10 10
제7항에 있어서,상기 충전 절연층 형성단계에서는, 상기 도전층을 덮도록 상기 충전 절연층을 상기 기판 상에 형성하는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체 제조방법
11 11
제10항에 있어서,상기 충전 절연층 형성단계 이후,상기 충전 절연층에 배선용 비아홀들을 형성하는 비아홀 형성단계; 및상기 배선용 비아홀들에 외부와의 전기적 연결을 위한 배선용 도전물질을 충진하여 전극 패드를 형성하는 전극 패드 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체 제조방법
12 12
제10항에 있어서,상기 충전 절연층 형성단계 이후,상기 도전층이 노출되도록 상기 충전 절연층을 평탄화하는 평탄화 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체 제조방법
13 13
제12항에 있어서,상기 평탄화 단계 이후, 상기 기판 상에는 상기 도전층의 두께와 실질적으로 동일한 두께를 갖는 충전 절연층이 잔류하는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체 제조방법
14 14
제13항에 있어서,상기 충전 절연층 및 상기 도전층을 덮도록 제1 절연층을 형성하는 제1 절연층 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 동축 실리콘 비아 구조체 제조방법
15 15
제14항에 있어서,상기 제1 절연층 형성단계 이후,상기 제1 절연층에 배선용 비아홀들을 형성하는 비아홀 형성단계; 및상기 배선용 비아홀들에 외부와의 전기적 연결을 위한 배선용 도전물질을 충진하여 전극 패드를 형성하는 전극 패드 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 동축 관통 실리콘 비아 구조체 제조방법
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업자원통상부 전자부품연구원 지식경제 기술혁신사업 (국제공동기술개발사업) IPD Si-기판을 이용한 이종 시스템 IC 집적화 공정기술 개발