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나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치(NANOTRANSFER PRINTING METHOD AND SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING SUBSTRATE, SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING VIAL AND SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING PATCH MANUFACTURED USING THE SAME)
- 기술번호 : KST2017006081
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 일실시예에 따른 나노전사 프린팅 방법은 표면 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계; 상기 고분자 박막 및 접착 필름을 이용하여 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계; 상기 복제 박막 몰드 상에 나노구조체를 형성하는 단계; 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계; 및 상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계를 포함한다. |
|---|---|
| Int. CL | H01L 21/02 (2015.10.21) H01L 29/06 (2015.10.21) H01L 21/027 (2015.10.21) H01L 21/70 (2015.10.21) |
| CPC | H01L 21/02288(2013.01) H01L 21/02288(2013.01) H01L 21/02288(2013.01) H01L 21/02288(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020150129896 (2015.09.14) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | |
| 공개번호/일자 | 10-2017-0032093 (2017.03.22) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2015.09.14) |
| 심사청구항수 | 15 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 정연식 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 정재원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 3 | 백광민 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 4 | 김종민 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 5 | 남태원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 양성보 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2015.09.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0892676-86 |
| 2 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2016.12.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0878854-69 |
| 3 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2017.02.06 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2017-0122750-32 |
| 4 | 등록결정서 Decision to grant |
2017.06.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2017-0431313-10 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 표면 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계; 상기 고분자 박막 및 접착 필름을 이용하여 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계; 상기 복제 박막 몰드 상에 나노구조체를 형성하는 단계; 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계; 및 상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 2 |
2 제1항에 있어서,상기 나노구조체를 형성하는 단계는 기울임 증착법을 이용하여 기능성 물질을 상기 복제 박막 몰드 상에 증착하는 단계를 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 3 |
3 제2항에 있어서,상기 기능성 물질을 상기 복제 박막 몰드 상에 증착하는 단계는 상기 복제 박막 몰드의 증착이 이루어지는 표면 중 도출된 부분에만 상기 기능성 물질을 증착하기 위하여, 상기 복제 박막 몰드의 증착이 이루어지는 표면과 증착 방향이 일정 각도를 가지도록 상기 복제 박막 몰드를 기울여서 상기 기능성 물질을 증착하는 단계를 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 4 |
4 제1항에 있어서,상기 템플릿 기판에는 포토리소그래피(photolithography), 블록 공중합체 자기 조립 기반 리소그래피 또는 E-beam 리소그래피 중 적어도 어느 하나를 포함하는 패터닝 공정 및 RIE(reactive ion etching) 공정을 이용하여 요철 형태의 상기 표면 패턴이 형성되는 나노전사 프린팅 방법 |
| 5 |
5 제1항에 있어서, 상기 고분자 박막을 코팅하는 단계는 단층 박막을 도포하여 상기 고분자 박막을 형성하는 단계; 또는 제1 박막 및 제2 박막을 순차적으로 도포하여 다층 박막으로 상기 고분자 박막을 형성하는 단계중 어느 하나의 단계를 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 6 |
6 제1항에 있어서, 상기 고분자 박막을 코팅하는 단계는 스핀 코팅(spin coating), 딥 코팅(deep coating) 또는 스프레이 코팅(spray coating) 중 적어도 어느 하나의 공정을 이용하여 상기 고분자 박막을 도포하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 7 |
7 제1항에 있어서,상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계는 상기 고분자 박막의 일면에 상기 접착 필름을 균일하게 부착하는 단계; 및 상기 접착 필름이 부착된 상기 고분자 박막을 상기 템플릿 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 8 |
8 제1항에 있어서,상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계는 계면 사이 분리 에너지를 감소시키기 위하여, 유기 용매 증기를 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드 사이에 주입하는 단계를 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 9 |
9 제8항에 있어서,상기 유기 용매 증기를 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드 사이에 주입하는 단계는 유기 용매를 함유하는 고분자 패드를 상기 복제 박막 몰드에 접촉시켜 상기 유기 용매 증기를 제공하는 단계; 또는 액체 상태의 유기 용매로부터 기화된 상기 유기 용매 증기를 제공하는 단계중 어느 하나의 단계를 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 10 |
10 삭제 |
| 11 |
11 제1항에 있어서,상기 나노구조체를 대상 물체에 전사 하는 단계는 상기 나노구조체가 고분자 패드와 맞닿도록 상기 나노구조체가 형성된 상기 복제 박막 몰드 및 상기 접착 필름을 상기 고분자 패드에 접촉시키는 단계; 상기 나노구조체가 상기 고분자 패드에 잔여하도록 상기 복제 박막 몰드 및 상기 접착 필름을 상기 고분자 패드로부터 분리하는 단계; 상기 나노구조체가 상기 대상 물체와 맞닿도록 상기 나노구조체가 잔여하는 상기 고분자 패드를 상기 대상 물체에 접촉시키는 단계; 및 상기 나노구조체가 상기 대상 물체에 전사되도록 상기 고분자 패드를 상기 대상 물체로부터 분리하는 단계를 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 12 |
12 제11항에 있어서, 상기 복제 박막 몰드 및 상기 접착 필름을 상기 고분자 패드로부터 분리하는 단계는 상기 고분자 패드에 접촉된 상기 복제 박막 몰드로부터 상기 접착 필름을 분리하는 단계; 및 유기 용매를 이용하여 상기 고분자 패드에 접촉된 상기 복제 박막 몰드를 제거하는 단계를 더 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 13 |
13 제1항에 있어서, 상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계는 상기 나노구조체가 상기 대상 물체와 맞닿도록 상기 나노구조체가 형성된 상기 복제 박막 몰드 및 상기 접착 필름을 상기 대상 물체에 접촉시키는 단계; 및 상기 나노구조체가 상기 대상 물체에 전사되도록 상기 복제 박막 몰드 및 상기 접착 필름을 상기 대상 물체로부터 분리하는 단계를 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 14 |
14 제13항에 있어서, 상기 복제 박막 몰드 및 상기 접착 필름을 상기 대상 물체로부터 분리하는 단계는 상기 대상 물체에 접촉된 상기 복제 박막 몰드로부터 상기 접착 필름을 분리하는 단계; 및 유기 용매를 이용하여 상기 대상 물체에 접촉된 상기 복제 박막 몰드를 제거하는 단계를 더 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 15 |
15 제1항에 있어서, 상기 나노구조체를 상기 대상 물체에 전사하는 단계를 반복적으로 수행하여 상기 나노구조체가 복수 개 적층된 3차원 나노구조체의 구조를 갖는 SERS 장치를 생성하는 단계를 더 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 16 |
16 제1항에 있어서,상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계는 상기 나노구조체를 금속 박막 상에 전사하는 단계를 더 포함하는 나노전사 프린팅 방법 |
| 17 |
17 삭제 |
| 18 |
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| 19 |
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| 20 |
20 삭제 |
| 21 |
21 삭제 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | EP03015918 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
| 2 | EP03015918 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
| 3 | KR101632504 | KR | 대한민국 | FAMILY |
| 4 | US10507604 | US | 미국 | FAMILY |
| 5 | US20160202123 | US | 미국 | FAMILY |
| 6 | WO2016068538 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| DOCDB 패밀리 정보가 없습니다 | ||||
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 미래창조과학부 | 한국과학기술원 | 원천기술개발사업-글로벌프론티어 연구개발사업 | 초저전력 전자융합 소자 |
| 등록사항 정보가 없습니다 |
|---|
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2015.09.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0892676-86 |
| 2 | 의견제출통지서 | 2016.12.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0878854-69 |
| 3 | [명세서등 보정]보정서 | 2017.02.06 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2017-0122750-32 |
| 4 | 등록결정서 | 2017.06.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2017-0431313-10 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345234974 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2015H1A2A1033822 |
| 연구과제명 | 자기조립과 나노전사프린팅에 기반한 고내구성, 고효율을 갖는 다차원구조의 전기화학촉매 디자인 및 제작 연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육부 |
| 연구관리전문기관명 | |
| 연구주관기관명 | |
| 성과제출연도 | 2015 |
| 연구기간 | 201503~201702 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | ET(환경기술) |
| 과제고유번호 | 1345235002 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2015H1A2A1033626 |
| 연구과제명 | 탐지 분야 응용을 위한 고성능 SERS 기판의 제작에 관한 연구 : 새로운 진단 플랫폼의 개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육부 |
| 연구관리전문기관명 | |
| 연구주관기관명 | |
| 성과제출연도 | 2015 |
| 연구기간 | 201503~201702 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1345244306 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 21A20131912234 |
| 연구과제명 | 이머징 소재기반 창조융합형 인재양성사업단 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육부 |
| 연구관리전문기관명 | |
| 연구주관기관명 | |
| 성과제출연도 | 2015 |
| 연구기간 | 201309~202008 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | ST(우주항공기술) |
특허성과
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