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다준위 메모리 소자 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2021003052
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 2중 전하우물을 가져 다준위(multi-level) 저장이 가능한 다준위 메모리 소자 및 이의 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 다준위 메모리 소자는, 복수개의 메모리 셀을 포함하고, 3 상태 이상의 정보 저장이 가능한 메모리 셀을 적어도 하나 이상 포함하는 다준위 메모리 소자로서, 적어도 하나의 메모리 셀은: 제1 전극과 제2 전극; 상기 제1 전극과 상기 제2 전극의 사이에 적층되고, 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전하 저장층; 및 상기 전하 저장층과 상기 제2 전극의 사이에 적층되고, 상기 제2 전극에 전기적으로 연결되는 전하 장벽층을 포함한다. 상기 전하 저장층은 양자점 및 전하 축적 물질을 포함한다. 본 발명의 실시예에 따른 다준위 메모리 소자는 상기 양자점과 상기 전하 축적 물질 및 상기 전하 장벽층에 의해 2중 양자 우물을 가진다.
Int. CL H01L 29/778 (2006.01.01) H01L 29/66 (2006.01.01) H01L 29/15 (2017.01.01) H01L 21/66 (2006.01.01) H01L 21/324 (2017.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) H01L 21/8234 (2006.01.01)
CPC H01L 29/7782(2013.01) H01L 29/66977(2013.01) H01L 29/152(2013.01) H01L 22/14(2013.01) H01L 21/324(2013.01) H01L 21/02601(2013.01) H01L 21/823493(2013.01) H01L 21/02282(2013.01)
출원번호/일자 1020190099101 (2019.08.13)
출원인 경북대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0020218 (2021.02.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.08.13)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경북대학교 산학협력단 대한민국 대구광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강신원 대구광역시 수성구
2 권진범 대구광역시 수성구
3 김세완 대구광역시 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
2 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2019-0831675-15
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.11.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.12.24 수리 (Accepted) 9-1-2019-0059940-76
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.23 수리 (Accepted) 4-1-2020-5136893-04
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0569577-85
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.09.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-1016450-58
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-1016449-12
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2021.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0159132-66
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.03.23 접수중 (On receiving) 1-1-2021-0337526-25
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.03.23 접수중 (On receiving) 1-1-2021-0337528-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
복수개의 메모리 셀을 포함하고, 3 상태 이상의 정보 저장이 가능한 메모리 셀을 적어도 하나 이상 포함하는 다준위 메모리 소자로서,적어도 하나의 메모리 셀은:제1 전극과 제2 전극;상기 제1 전극과 상기 제2 전극의 사이에 적층되고, 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전하 저장층; 및상기 전하 저장층과 상기 제2 전극의 사이에 적층되고, 상기 제2 전극에 전기적으로 연결되는 전하 장벽층을 포함하고,상기 전하 저장층은 양자점 및 전하 축적 물질을 포함하고, 상기 양자점과 상기 전하 축적 물질 및 상기 전하 장벽층에 의해 2중 양자 우물을 가지는 다준위 메모리 소자
2 2
제1항에 있어서,상기 양자점은 상기 전하 축적 물질 보다 낮은 호모(HOMO) 준위를 가지는 코어/쉘(core/shell) 구조로 제공되는 다준위 메모리 소자
3 3
제2항에 있어서,상기 양자점은 CdSe/ZnS, PbS/CdS, CdSe/ZnSe, CdTe/ZnS, CdTe/CdSe, InP/ZnS 및 InP/ZnSe/ZnS 중의 적어도 하나의 코어/쉘 구조 양자점을 포함하는 다준위 메모리 소자
4 4
제1항에 있어서,상기 전하 장벽층은 산화아연을 포함하는 다준위 메모리 소자
5 5
제2항에 있어서,상기 전하 축적 물질은 상기 전하 장벽층 및 상기 양자점 보다 높은 호모(HOMO) 준위를 가지고,상기 전하 축적 물질은 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 간에 인가되는 전압에 따라 호모(HOMO) 레벨에 전하를 축적하는 다준위 메모리 소자
6 6
제5항에 있어서,상기 양자점은 상기 코어/쉘 구조에 의해 상기 2중 양자 우물 중의 제1 양자 우물을 가지고,상기 전하 축적 물질은 상기 전하 장벽층 및 상기 양자점과의 에너지 준위차에 의해 상기 2중 양자 우물 중의 제2 양자 우물을 가지는 다준위 메모리 소자
7 7
제5항에 있어서,상기 전하 축적 물질은 상기 제1 전극으로부터의 전자 주입을 억제하여 전자를 구속시키는 전자주입 억제 기능을 가지는 다준위 메모리 소자
8 8
제5항에 있어서,상기 전하 축적 물질은 PVK(Poly(9-vinylcarbazole)), P3HT(Poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl)), PCBM(Phenyl-C61-butyric acid methyl ester), Poly-TPD(Poly(N,N'-bis-4-butylphenyl-N,N'-bisphenyl)benzidine), 및 PVP(Polyvinylpyrrolidone) 중의 적어도 하나를 포함하는 다준위 메모리 소자
9 9
제1항에 있어서,상기 제1 전극과 상기 제2 전극 간에 전압을 인가하는 전압 인가부를 더 포함하고,상기 적어도 하나의 메모리 셀에 저장되는 상태 정보는 상기 전압 인가부에 의해 인가되는 상기 전압에 따라 변화되는 다준위 메모리 소자
10 10
제9항에 있어서,상기 전압 인가부는 서로 다른 제1 상태, 제2 상태 및 제3 상태 중의 어느 하나를 상기 메모리 셀에 저장하기 위해 상기 전압을 인가하고,상기 전압 인가부는:상기 메모리 셀에 상기 제1 상태를 저장하기 위해 미리 설정된 제1 기준 전압 보다 낮은 제1 전압을 인가하고;상기 메모리 셀에 상기 제2 상태를 저장하기 위해 상기 제1 기준 전압 보다 높고 미리 설정된 제2 기준 전압 보다 낮은 제2 전압을 인가하고; 그리고상기 메모리 셀에 상기 제3 상태를 저장하기 위해 상기 제2 기준 전압 보다 높은 제3 전압을 인가하도록 구성되는 다준위 메모리 소자
11 11
제9항에 있어서,상기 전압 인가부가 상기 제1 전압을 인가하면, 상기 제2 전극에서 주입된 정공이 터널링(tunneling)을 통해 상기 전하 저장층으로 주입되고, 상기 양자점에 형성되는 제1 양자 우물 및 상기 전하 축적물질에 형성되는 제2 양자 우물에 정공이 축적되어 상기 메모리 셀에 상기 제1 상태가 저장되는 다준위 메모리 소자
12 12
제9항에 있어서,상기 전압 인가부가 상기 제2 전압을 인가하면, 상기 전하 축적 물질에서의 전하 축적이 완료되어 축적 현상이 발생하지 않고 상기 양자점의 상기 제1 양자 우물에 전하가 축적되어 상기 메모리 셀에 상기 제2 상태가 저장되는 다준위 메모리 소자
13 13
제9항에 있어서,상기 전압 인가부가 상기 제3 전압을 인가하면, 상기 제2 전극에서 주입된 정공이 상기 전하 저장층을 통과하고, 상기 전하 저장층에 전하가 축적되지 않은 채로 상기 제1 전극으로 흐르게 되어 상기 메모리 셀에 상기 제3 상태가 저장되는 다준위 메모리 소자
14 14
제9항에 있어서,상기 메모리 셀에 저장된 상태를 읽는 읽기 동작을 수행하는 읽기 동작부를 더 포함하고,상기 전압 인가부는 상기 읽기 동작 시에 상기 제1 기준 전압 보다 낮은 미리 설정된 읽기 전압을 인가하고,상기 읽기 동작부는 상기 읽기 동작 시에 상기 메모리 셀로부터 출력되는 전류값에 따라 상기 메모리 셀에 저장된 상태를 판단하는 다준위 메모리 소자
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제1항에 있어서,상기 전하 저장층은 상기 양자점과 상기 전하 축적 물질이 혼합된 층을 포함하는 다준위 메모리 소자
16 16
제1항에 있어서,상기 전하 저장층은 상기 양자점을 포함하는 제1 전하 저장층; 및상기 제1 전하 저장층과 상기 제2 전극의 사이에 적층되고, 상기 전하 축적 물질을 포함하는 제2 전하 저장층을 포함하는 다준위 메모리 소자
17 17
제16항에 있어서,상기 제1 전하 저장층과 상기 제1 전극 사이에 적층되고, 상기 제1 전극으로부터의 전자 주입을 억제하여 전자를 구속시키는 전자주입 억제층을 더 포함하고,상기 전자주입 억제층은 PVK(Poly(9-vinylcarbazole))를 포함하는 다준위 메모리 소자
18 18
3 상태 이상의 정보 저장이 가능한 메모리 셀을 제조하는 다준위 메모리 소자 제조 방법으로서,기판 상에 상기 전하 장벽층을 형성하는 단계;상기 전하 장벽층 상에 양자점과 전하 축적 물질을 포함하는 전하 저장층을 형성하는 단계; 및상기 전하 저장층 상에 전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 양자점과 상기 전하 축적 물질 및 상기 전하 장벽층에 의해 2중 양자 우물을 형성하는 다준위 메모리 소자 제조 방법
19 19
제18항에 있어서,상기 전하 장벽층을 형성하는 단계는 산화아연 나노입자를 포함하는 용액을 스핀 코팅한 후 어닐링하여 상기 전하 장벽층을 형성하는 단계를 포함하는 다준위 메모리 소자 제조 방법
20 20
제18항에 있어서,상기 전하 저장층을 형성하는 단계는 PVK(Poly(9-vinylcarbazole)) 및 코어/쉘(core/shell) 구조 양자점이 분산된 용액을 스핀 코팅한 후 어닐링하여 상기 전하 저장층을 형성하는 단계를 포함하는 다준위 메모리 소자 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업체 경북대학교 산업체연구과제 나노결정 양자점 기반 비휘발성 메모리소자 제작