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절연 나노입자를 이용한 상변화 메모리 소자, 플렉서블 상변화 메모리 소자 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015115772
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 절연 나노입자를 이용한 상변화 메모리 소자, 플렉서블 상변화 메모리 소자 및 그 제조방법이 제공된다.본 발명에 따른 절연 나노입자를 이용한 상변화 메모리 소자는 전극 및 상기 전극과 접촉하며, 상기 전극으로부터 발생한 열에 따라 상변화가 발생하는 상변화층을 포함하는 상변화 메모리 소자에 있어서, 상기 전극과 결정화 및 비정질화가 일어나는 상변화층 사이에는 자기조립 블록공중합체로부터 형성된 절연 나노입자가 구비되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 27/115 (2006.01) H01L 21/8247 (2006.01)
CPC H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01)
출원번호/일자 1020120010649 (2012.02.02)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0095782 (2012.08.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2011-0015021 (2011.02.21)
관련 출원번호 1020110015021;1020160172759
심사청구여부/일자 Y (2015.12.11)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이건재 대한민국 대전 유성구
2 정연식 대한민국 대전 유성구
3 유병국 대한민국 경기 안산시 상록구
4 문범호 대한민국 부산광역시 사하구
5 황건태 대한민국 부산 남구
6 정재원 대한민국 대전 유성구
7 최재석 대한민국 충남 청양군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 다해 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로***, *층(삼성동,고운빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2012.02.02 수리 (Accepted) 1-1-2012-0087354-15
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.12.11 수리 (Accepted) 1-1-2015-1214611-39
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.03.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0172935-00
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.05.09 수리 (Accepted) 1-1-2016-0438607-54
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.05.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0438620-48
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.08.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0583705-34
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2016-0900340-29
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.09.19 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0900341-75
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.10.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0744497-19
14 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2016.11.14 수리 (Accepted) 7-1-2016-0063488-17
15 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2016.12.16 수리 (Accepted) 1-1-2016-1238202-65
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전극 및 상기 전극과 접촉하며, 상기 전극으로부터 발생한 열에 따라 상변화가 발생하는 상변화층을 포함하는 상변화 메모리 소자에 있어서, 상기 전극과 결정화 및 비정질화가 일어나는 상변화층 사이에는 자기조립 블록공중합체로부터 형성된 절연 나노입자가 구비되는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
2 2
제 1항에 있어서, 상기 전극은 상기 상변화층 아래의 하부전극인 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
3 3
제 1항에 있어서, 상기 패터닝은 자기조립된 상기 블록공중합체의 특정 중합체 블록을 제거하는 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
4 4
제 3항에 있어서, 상기 제거된 중합체 블록 영역에서 상기 상변화층과 전극은 접촉하며, 상기 전극에서 발생한 열에 따라 상기 상변화층의 결정형이 변화되는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
5 5
제 1항에 있어서, 상기 블록공중합체는 폴리스티렌-폴리디메틸실록산, 폴리스티렌-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌-폴리(2-비닐피리딘), 폴리(2-비닐피리딘)-폴리디메틸실록산, 폴리스티렌- 폴리페로세이닐실란으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
6 6
제 1항에 있어서, 상기 블록공중합체는 실리콘 함유 블록공중합체이며, 상기 절연 나노입자는 실리콘 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
7 7
제 6항에 있어서, 상기 블록공중합체는 폴리스티렌-폴리디메틸실록산 또는 폴리스티렌- 폴리페로세이닐실란인 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
8 8
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 상변화 메모리 소자가 플렉서블 기판 상에 구비된 플렉서블 상변화 메모리 소자
9 9
상변화층 및 상기 상변화층에 열을 인가하여 상기 상변화층 물질의 결정화 또는 비정질화를 발생시키는 전극을 포함하는 상변화 메모리 소자의 제조방법에 있어서, 전극상에 블록공중합체를 도포한 후, 어닐링하여 자기조립시키는 단계;자기조립된 상기 블록공중합체의 일부 중합체 블록을 제거하여 절연 나노입자를 형성하는 단계; 및상기 전극 및 절연 나노입자상에 상변화층을 적층하는 단계를 포함하며, 여기에서 상기 제거된 블록 영역에서 상기 상변화층과 전극은 서로 접촉하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조방법
10 10
제 9항에 있어서, 상기 방법은상기 전극 상에 브러쉬층을 적층하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조방법
11 11
제 9항에 있어서, 상기 전극은 질화티타늄(TiN), 상기 상변화층은 칼코게나이드 화합물로 이루어진 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자 제조방법
12 12
제 9항에 있어서, 상기 블록공중합체는 폴리스티렌-폴리디메틸실록산 공중합체, 폴리스티렌-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌-폴리(2-비닐피리딘), 폴리(2-비닐피리딘)-폴리디메틸실록산, 폴리스티렌- 폴리페로세이닐실란으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자 제조방법
13 13
제 9항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 다른 방법에 의하여 제조된 상변화 메모리 소자
14 14
플렉서블 상변화 메모리 소자로서, 상기 소자는 플렉서블 기판; 및상기 플레서블 기판에 구비되며, 상변화층 및 하부전극을 포함하는 상변화 메모리 소자를 포함하며, 여기에서 상기 상변화층 및 하부전극 사이에는 블록공중합체로부터 형성된 절연 나노입자가 구비되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 상변화 메모리 소자
15 15
제 14항에 있어서, 상기 상변화 메모리 소자는 유연한 실리콘 반도체; 상기 실리콘 반도체 상에 형성된 소스/드레인 도핑층;상기 소스/드레인 도핑층의 도핑영역에 각각 연결된 워드라인 전극 및 비트라인 전극; 및상기 비트라인 전극 상에 순차적으로 적층된 하부전극과 상변화층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 상변화 메모리 소자
16 16
제 15항에 있어서, 상기 실리콘 반도체는 단결정 실리콘인 것을 특징으로 하는 플렉서블 상변화 메모리 소자
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101202506 KR 대한민국 FAMILY
2 KR101290003 KR 대한민국 FAMILY
3 KR1020160150282 KR 대한민국 FAMILY
4 US08822970 US 미국 FAMILY
5 US20130001502 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
DOCDB 패밀리 정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.