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그래핀 게이트 전극을 이용한 비휘발성 메모리 소자
- 기술번호 : KST2015117042
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 높은 일함수 가지며 하부 절연막 열화를 유발하지 않는 새로운 물질인 그래핀(Graphene)을 이용하여 비휘발성 메모리 소자의 메모리 특성을 획기적으로 향상시키는 방법에 관한 것이다. |
|---|---|
| Int. CL | H01L 27/115 (2006.01) H01L 21/8247 (2006.01) |
| CPC | H01L 29/7881(2013.01) H01L 29/7881(2013.01) H01L 29/7881(2013.01) H01L 29/7881(2013.01) H01L 29/7881(2013.01) H01L 29/7881(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020110042508 (2011.05.04) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1244768-0000 (2013.03.12) |
| 공개번호/일자 | 10-2012-0124697 (2012.11.14) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20130319) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2011.05.04) |
| 심사청구항수 | 15 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 조병진 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 박종경 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 특허법인충정 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.05.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0333839-72 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2011.12.19 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2012.01.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0005824-26 |
| 4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.10.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0655107-14 |
| 5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.11.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0964508-32 |
| 6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.11.22 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0964509-88 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 8 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.02.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0132955-72 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 기판에 형성된 소스와 드레인 사이의 채널 영역 위로 순차 적층된,전하의 터널링을 위한 터널절연막, 데이터저장막, 전하차단막,그래핀으로 이루어진 게이트 전극, 및 캡핑(capping)을 위한 메탈 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 2 |
2 제1항에 있어서,상기 그래핀으로 이루어진 상기 게이트 전극에 의해,소거 동작 시 상기 게이트 전극으로부터 상기 데이터저장막으로 주입되는 터널링 전류를 낮추며, 프로그램 동작 시 상기 데이터저장막에 주입된 전하의 상기 게이트 전극으로 방출을 방지하여 데이터 보유 특성을 향상시키기 위한 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 3 |
3 제1항에 있어서,상기 게이트전극은 P-type으로 도핑된 그래핀으로 이루어진 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 4 |
4 제1항에 있어서,상기 게이트전극은 1 내지 10nm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 5 |
5 제1항에 있어서,상기 메탈 전극은 상기 게이트전극의 영역 전체 위에 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 6 |
6 제1항에 있어서,상기 메탈 전극은 상기 게이트전극의 중앙 부분의 일부 위에 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 7 |
7 제1항에 있어서,상기 메탈 전극은 3 내지 200nm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 8 |
8 제1항에 있어서,상기 메탈 전극은 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 플래티늄(Pt), 금(Au), 구리(Cu), 크롬(Cr), 루테늄(Ru), 코발트(Co), 납(Pd), 실리콘(Si), 텅스텐(W) 또는 이들의 조합으로 이루어진 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 9 |
9 제1항에 있어서,상기 전하차단막은 SiO2막, Al2O3막, 또는 이들의 조합으로 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 10 |
10 제1항에 있어서,상기 전하차단막은 6 내지 15nm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 11 |
11 제1항에 있어서,상기 데이터저장막은 깊은 준위 트랩 사이트(deep level trap site)에 전하를 트랩시키기 위한 Si3N4막으로 형성된 전하트랩막인 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 12 |
12 제1항에 있어서,상기 데이터저장막은 전도성 밴드(conduction band) 내에 전하를 저장하기 위한 폴리실리콘막으로 형성된 전하저장막인 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 13 |
13 제1항에 있어서,상기 데이터저장막은 1 내지 10nm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 14 |
14 제1항에 있어서,상기 터널절연막은 SiO2막으로 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 15 |
15 제1항에 있어서,상기 터널절연막은 1 내지 10nm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US08638614 | US | 미국 | FAMILY |
| 2 | US20120281484 | US | 미국 | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US2012281484 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1244768-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20110504 출원 번호 : 1020110042508 공고 연월일 : 20130319 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130226 청구범위의 항수 : 15 유별 : H01L 27/115 발명의 명칭 : 그래핀 게이트 전극을 이용한 비휘발성 메모리 소자 존속기간(예정)만료일 : |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 315,000 원 | 2013년 03월 13일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 259,000 원 | 2016년 02월 25일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 259,000 원 | 2017년 02월 24일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 259,000 원 | 2018년 02월 26일 | 납입 |
| 제 7 년분 | 금 액 | 335,000 원 | 2019년 03월 04일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 335,000 원 | 2020년 03월 02일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.05.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0333839-72 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2011.12.19 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2012.01.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0005824-26 |
| 4 | 의견제출통지서 | 2012.10.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0655107-14 |
| 5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.11.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0964508-32 |
| 6 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.11.22 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0964509-88 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 8 | 등록결정서 | 2013.02.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0132955-72 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345154428 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2008-2002744 |
| 연구과제명 | 그래핀 제작방법 및 물성 연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200806~201405 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1345157365 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2010-0029132 |
| 연구과제명 | 고성능 그래핀 소자 집적회로 기술 개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 201009~201508 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
특허성과
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