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광유기 플래시 메모리 소자 및 그 제조방법, 광 검출기
- 기술번호 : KST2015115518
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명의 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법은, 채널영역을 갖는 기판 상에 절연층을 형성하는 단계; 상기 절연층 상에 게이트를 형성하는 단계; 상기 절연층 및 상기 게이트를 식각하여 상기 채널영역의 길이를갖도록 하는 단계;상기 채널영역을 사이에 두고 서로 이격된 소스 및 드레인을 상기 기판 내에 형성하는 단계; 상기 절연층의 일부를 제거하여 수평방향의 나노갭을 형성하는 단계; 상기 나노갭 내에 터널링 절연층 및 제어 절연층을 형성하는 단계; 및 상기 나노갭 내에서 상기 터널링 절연층 및 상기 제어 절연층이 형성되지 않은 부위에 광활성 물질을 삽입하는 단계;를 포함한다. |
|---|---|
| Int. CL | H01L 21/8247 (2006.01) H01L 27/115 (2006.01) |
| CPC | H01L 21/28273(2013.01) H01L 21/28273(2013.01) H01L 21/28273(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020110076104 (2011.07.29) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1277052-0000 (2013.06.14) |
| 공개번호/일자 | 10-2013-0014155 (2013.02.07) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20130620) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2011.09.09) |
| 심사청구항수 | 16 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 최양규 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 김청진 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 3 | 최성진 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김성호 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.07.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0590591-50 |
| 2 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2011.09.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0706953-17 |
| 3 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.12.13 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0759060-73 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2013.02.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0127852-14 |
| 6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2013.02.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0127850-12 |
| 7 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.06.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0401170-81 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 채널영역을 갖는 기판 상에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층 상에 게이트를 형성하는 단계; 상기 절연층 및 상기 게이트를 식각하여 상기 채널영역의 길이를갖도록 하는 단계;상기 채널영역을 사이에 두고 서로 이격된 소스 및 드레인을 상기 기판 내에 형성하는 단계;상기 절연층의 일부를 제거하여 수평방향의 나노갭을 형성하는 단계;상기 나노갭 내에 터널링 절연층 및 제어 절연층을 형성하는 단계; 및상기 나노갭 내에서 상기 터널링 절연층 및 상기 제어 절연층이 형성되지 않은 부위에 광활성 물질을 삽입하는 단계;를 포함하는, 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 2 |
2 제1항에 있어서,상기 절연층에서 제거되지 않은 부위는 상기 게이트를 지지하고, 실리콘 산화층인광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 3 |
3 제1항에 있어서,상기 터널링 절연층과 상기 제어 절연층은 각각 상기 나노갭 내의 하부, 상부에 각각 형성되는, 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 4 |
4 기판 상에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층 상에 박막을 형성하는 단계;상기 박막 상에 질화막으로 하드마스크를 형성하고, 상기 박막과 하드마스크으로부터 핀 형태의 채널영역을 형성하는 단계;상기 핀 형태의 채널영역의 측면에 희생 절연층과 게이트를 순차적으로 형성하고, 상기 하드마스크를 식각정지층으로 사용하여 평탄하게 하는 단계;상기 절연층 및 상기 게이트를 식각하여 상기 채널영역의 길이를 갖도록 하는 단계상기 채널영역을 사이에 두고 서로 이격된 소스 및 드레인을 상기 박막 내에 형성하는 단계;상기 게이트와 상기 핀 형태의 채널영역 사이의 희생 절연층을 식각하여 수직방향의 나노갭을 형성하는 단계;상기 나노갭 내에 터널링 절연층 및 제어 절연층을 형성하는 단계; 및상기 나노갭 내에서 상기 터널링 절연층과 상기 제어 절연층 사이에 광활성 물질을 삽입하는 단계;를 포함하는, 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 5 |
5 제4항에 있어서,상기 채널영역은 상기 기판의 면이 향하는 방향으로 상기 절연층과 맞닿아 있고, 상기 게이트와의 사이에 나노갭을 형성하는, 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 6 |
6 제4항에 있어서,상기 터널링 절연층과 상기 제어 절연층은 각각 상기 나노갭 내의 상기 채널영역 측, 상기 게이트 측에 각각 형성되는, 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 7 |
7 제1항 또는 제4항에 있어서,상기 채널영역은 실리콘, 게르마늄, 실리콘 게르마늄, 인장 실리콘, 인장 실리콘 게르마늄, 또는 실리콘 카바이드 중 어느 하나로 형성된, 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 8 |
8 제1항 또는 제4항에 있어서,상기 터널링 절연층 및 제어 절연층은 실리콘 산화층 또는 고유전층인, 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 9 |
9 제1항 또는 제4항에 있어서,상기 광활성 물질은 풀러렌(Fullerene), PCBM(Phenyl-C61-Butyric Acid Methyl Ester), P3HT(poly(3-hexylthiophene)) 또는 이들의 유도체 중 어느 하나인, 광유기 플래시 메모리 소자 제조방법 |
| 10 |
10 채널영역을 갖는 기판 상에 형성된 절연층;상기 절연층 상에 형성된 게이트; 및상기 기판 내에 상기 채널영역을 사이에 두고 서로 이격되어 형성된 소스 및 드레인;을 포함하고,상기 절연층은 상기 게이트의 일부분의 하부에 형성되고, 상기 게이트와 상기 절연층과 상기 기판 사이에 수평 방향의 나노갭이 형성되고,상기 나노갭 내에 형성된 터널링 절연층 및 제어 절연층; 및상기 나노갭 내에서 상기 터널링 절연층과 상기 제어 절연층 사이에 삽입된 광활성 물질;을 더 포함하는,광유기 플래시 메모리 소자 |
| 11 |
11 기판 상에 형성된 절연층; 및상기 절연층 상에 형성된 박막;을 포함하고,상기 박막에는 핀 형태의 채널영역과 상기 채널영역을 사이에 두고 서로 이격된 소스 및 드레인이 형성되고,게이트가 희생 절연층을 사이에 두고 상기 채널영역의 측면으로 이격되어, 상기 채널영역과 상기 게이트 사이에 수직방향의 나노갭이 형성되며,상기 나노갭 내부에 형성된 터널링 절연층 및 제어 절연층; 및상기 터널링 절연층과 상기 제어 절연층 사이에 삽입된 광활성 물질;을 더 포함하는,광유기 플래시 메모리 소자 |
| 12 |
12 제10항 또는 제11항의 광유기 플래시 메모리 소자의 게이트에, 음의 게이트 전압과 광신호가 동시에 인가될 때, 양의 문턱전압 변화 또는 쓰기 동작이 구현되는, 광유기 플래시 메모리 소자 |
| 13 |
13 제10항 또는 제11항에 있어서,상기 광유기 플래시 메모리 소자의 게이트에, 양의 게이트 전압과 광신호가 동시에 인가될 때, 음의 문턱전압 변화 또는 지우기 동작이 구현되는, 광유기 플래시 메모리 소자 |
| 14 |
14 제10항 또는 제11항에 있어서,상기 광유기 플래시 메모리 소자의 소스 전압, 게이트 전압, 및 드레인 전압이 광신호와 동시에 인가될 때, 소스 사이드 및 드레인 사이드 각각에 2비트의 광유기 메모리 동작이 구현되는, 광유기 플래시 메모리 소자 |
| 15 |
15 제11항에 있어서,상기 광유기 플래시 메모리 소자의 소스 전압, 게이트 전압, 및 드레인 전압이 광신호와 동시에 인가될 때, 상기 채널의 일측과 타측의 소스 사이드 및 드레인 사이드 각각에, 4비트의 광유기 메모리 동작이 구현되는, 광유기 플래시 메모리 소자 |
| 16 |
16 제10항 또는 제11항의 광유기 플래시 메모리 소자의 게이트에 인가되는 광신호와 전기신호의 조합을 통한 문턱전압의 변화를 이용하여 광을 검출하는, 광 검출기 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1277052-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20110729 출원 번호 : 1020110076104 공고 연월일 : 20130620 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130612 청구범위의 항수 : 16 유별 : H01L 21/8247 발명의 명칭 : 광유기 플래시 메모리 소자 및 그 제조방법, 광 검출기 존속기간(예정)만료일 : |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 334,500 원 | 2013년 06월 17일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 274,400 원 | 2016년 05월 26일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 274,400 원 | 2017년 05월 30일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 196,000 원 | 2018년 05월 25일 | 납입 |
| 제 7 년분 | 금 액 | 354,000 원 | 2019년 06월 03일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 354,000 원 | 2020년 05월 25일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.07.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0590591-50 |
| 2 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2011.09.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0706953-17 |
| 3 | 의견제출통지서 | 2012.12.13 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0759060-73 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 | 2013.02.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0127852-14 |
| 6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2013.02.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0127850-12 |
| 7 | 등록결정서 | 2013.06.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0401170-81 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345144879 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0082583 |
| 연구과제명 | 나노원천 융합메모리 소자기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200906~201205 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1345151486 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2007-0056950 |
| 연구과제명 | 나노소자를 위한 trans-scale 융합 기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200707~201206 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415131531 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 10035320 |
| 연구과제명 | 차세대 메모리용 3D 적층 신소자 및 핵심소재 공정기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 미래창조과학부 |
| 연구관리전문기관명 | |
| 연구주관기관명 | |
| 성과제출연도 | 2013 |
| 연구기간 | 201003~201502 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1345151486 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2007-0056950 |
| 연구과제명 | 나노소자를 위한 trans-scale 융합 기술 개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200707~201206 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
특허성과
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