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반도체 메모리 소자 및 그 구동방법
- 기술번호 : KST2015113343
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 반도체 메모리 소자 및 그 구동방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 비휘발성 메모리 소자와 휘발성 메모리 소자의 동작이 가능한 융합 메모리 소자 및 그 구동방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 융합 메모리 소자는, 기판상에 형성된 제1 절연층, 제1 절연층상에 형성된 부유바디셀, 부유바디셀 양측에 각각 형성된 소오스 및 드레인, 부유바디셀상에 형성된 제2 절연층, 제2 절연층 사이에 형성되고, 비휘발성 메모리 소자로 동작할 경우, 전체영역에서 전자가 축적 및 축출 될 수 있고, 커패시터리스 디램 소자로 동작할 경우, 전체영역 중 드레인과 인접한 국부적인 영역에서 전자를 트랩 할 수 있는 부유게이트, 및 제2 절연층상에 형성된 제어게이트를 포함한다. 본 발명에 따르면, 융합 메모리의 기능 중 커패시터리스 디램 소자 및 단일 커패시터리스 디램 소자에 있어서, 저전력으로 센싱 마진을 증가시킬 수 있고, 고속 동작이 가능하며, 데이터 유지 시간을 증가시킬 수 있다. 융합 메모리(unified random access memory), 커패시터리스 디램(capacitorless DRAM), 밴드간 터널링(band to band tunneling), 게이트 누설 전류(gate induced leakage current) |
|---|---|
| Int. CL | H01L 27/115 (2006.01) H01L 21/8247 (2006.01) H01L 27/108 (2006.01) H01L 21/8242 (2006.01) |
| CPC | H01L 21/28273(2013.01)H01L 21/28273(2013.01)H01L 21/28273(2013.01)H01L 21/28273(2013.01)H01L 21/28273(2013.01)H01L 21/28273(2013.01)H01L 21/28273(2013.01)H01L 21/28273(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020090033877 (2009.04.17) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1027907-0000 (2011.04.01) |
| 공개번호/일자 | 10-2010-0115240 (2010.10.27) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20110412) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2009.04.17) |
| 심사청구항수 | 18 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 최양규 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 최성진 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 3 | 한진우 | 대한민국 | 대전 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김성호 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.04.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0235162-46 |
| 2 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2010.11.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0537612-56 |
| 3 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2011.01.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0055786-07 |
| 4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.02.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0121244-55 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.02.21 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0121243-10 |
| 6 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.03.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0177362-26 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 비휘발성 메모리 소자와 커패시터리스 디램 소자의 동작이 가능한 융합 메모리 소자로서, 기판상에 형성된 제1 절연층; 상기 제1 절연층상에 형성된 부유바디셀; 상기 부유바디셀 양측에 각각 형성된 소오스 및 드레인; 상기 부유바디셀상에 형성된 터널링 절연층; 상기 터널링 절연층 상에 형성되고, 상기 비휘발성 메모리 소자로 동작할 경우, 전체영역에서 전자가 축적 및 축출될 수 있고, 상기 커패시터리스 디램 소자로 동작할 경우, 전체영역 중 상기 드레인과 인접한 국부적인 영역에는 전자를 트랩할 수 있는 전하트랩층이 형성된 부유게이트; 상기 부유게이트상에 형성된 제어절연층; 및 상기 제어절연층상에 형성된 제어게이트; 를 포함하는 융합 메모리 소자 |
| 2 |
2 제1항에 있어서, 상기 기판은, 부분 공핍형 절연층 매몰 실리콘(Partially Depleted Silicon On Insulator, PD SOI) 기판인, 융합 메모리 소자 |
| 3 |
3 제1항에 있어서, 상기 제1 절연층은, 게르마늄 또는 N형 불순물이 상기 기판에 이온주입 되어 형성된 이온주입층인, 융합 메모리 소자 |
| 4 |
4 제1항에 있어서, 상기 제1 절연층은, 상기 기판의 물질과 밴드갭의 차이가 있는 물질을 포함하여 형성된, 융합 메모리 소자 |
| 5 |
5 제1항에 있어서, 상기 부유게이트는, 폴리 실리콘, 비정질 실리콘, 금속 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 나노결정물질, 및 금속 산화물 나노결정물질 중 하나를 포함하고, 상기 전하트랩층은 채널 열전자 주입을 통해 주입된 열전자를 트랩하는, 융합 메모리 소자 |
| 6 |
6 제1항에 있어서, 상기 제어게이트는, 폴리 실리콘, 비정질 실리콘 및 금속물질 중 어느 하나인 제1 물질을 포함하고, 상기 제어게이트의 전체영역 중 상기 드레인과 인접한 국부적인 영역에 형성되며, 제2 물질로 구성된 제2 물질부를 포함하고, 상기 제2 물질은, 상기 제1 물질의 일함수보다 크며, 서로 다른 일함수를 갖는 금속물질들 또는 p타입으로 도핑된 폴리 실리콘을 포함하는, 융합 메모리 소자 |
| 7 |
7 게이트 누설 전류를 이용하는 커패시터리스 디램 소자로서, 기판상에 형성된 제1 절연층; 상기 제1 절연층상에 형성된 부유바디셀; 상기 부유바디셀 양측에 각각 형성된 소오스 및 드레인; 상기 부유바디셀상에 형성된 제2 절연층; 상기 드레인과 인접한 상기 제2 절연층 사이에 국부적으로 형성되고, 주입된 전자를 트랩 할 수 있는 전하트랩층; 및 상기 제2 절연층상에 형성된 제어게이트 를 포함하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 8 |
8 제7항에 있어서, 상기 기판은, 부분 공핍형 절연층 매몰 실리콘(Partially Depleted Silicon On Insulator, PD SOI) 기판인, 커패시터리스 디램 소자 |
| 9 |
9 제7항에 있어서, 상기 제1 절연층은, 게르마늄 또는 N형 불순물이 상기 기판에 이온주입 되어 형성된 이온주입층인, 커패시터리스 디램 소자 |
| 10 |
10 제7항에 있어서, 상기 제1 절연층은, 상기 기판의 물질과 밴드갭의 차이가 있는 물질을 포함하여 형성된, 커패시터리스 디램 소자 |
| 11 |
11 제7항에 있어서, 상기 전하트랩층은, 폴리 실리콘, 비정질 실리콘, 금속 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 나노결정물질, 및 금속 산화물 나노결정물질 중 하나를 포함하고, 채널 열전자 주입을 통해 주입된 열전자를 트랩하는, 커패시터리스 디램 소자 |
| 12 |
12 제7항에 있어서, 상기 제어게이트는, 폴리 실리콘, 비정질 실리콘 및 금속물질 중 어느 하나인 제1 물질을 포함하고, 상기 제어게이트의 전체영역 중 상기 드레인과 인접한 국부적인 영역에 형성되며, 제2 물질로 구성된 제2 물질부를 포함하고, 상기 제2 물질은, 상기 제1 물질의 일함수보다 크며, 서로 다른 일함수를 갖는 금속물질들 또는 P타입으로 도핑된 폴리 실리콘을 포함하는, 커패시터리스 디램 소자 |
| 13 |
13 제1항의 융합 메모리 소자의 동작 중 상기 커패시터리스 디램 소자의 동작을 위한 융합 메모리 소자의 구동 방법에 있어서, 상기 비휘발성 메모리 소자의 동작을 통해 상기 부유게이트에 축적된 전자를 제거하는 전자제거단계; 상기 전자제거단계를 통해 전자가 제거된 상기 부유게이트의 전하트랩층에 전자를 국부적으로 주입하는 전자주입단계; 및 게이트 누설 전류를 이용하여 상기 부유바디셀에 홀을 축적하는 데이터쓰기단계; 를 포함하는 융합 메모리 소자의 구동방법 |
| 14 |
14 제13항에 있어서, 상기 전자주입단계는, 상기 제어게이트와 상기 드레인에 양의 전압을 인가하는 채널 열전자 주입 방식을 이용하여 상기 부유게이트에 열전자를 국부적으로 주입하는, 융합 메모리 소자의 구동방법 |
| 15 |
15 제13항에 있어서, 상기 데이터쓰기단계는, 상기 소오스에 접지전압, 상기 제어게이트에 음의 전압 또는 접지전압, 상기 드레인에 양의 전압을 각각 인가하여 상기 부유바디셀에 홀을 축적하는, 융합 메모리 소자의 구동방법 |
| 16 |
16 제7항의 커패시터리스 디램 소자의 동작을 위한 구동 방법에 있어서, 상기 전하트랩층에 전자를 주입하는 전자주입단계; 및 게이트 누설 전류를 이용하여 상기 부유바디셀에 홀을 축적하는 데이터쓰기단계; 를 포함하는 커패시터리스 디램 소자의 구동방법 |
| 17 |
17 제16항에 있어서, 상기 전자주입단계는, 상기 제어게이트와 상기 드레인에 양의 전압을 인가하는 채널 열전자 주입 방식을 이용하여 상기 전하트랩층에 열전자를 주입하는, 커패시터리스 디램 소자의 구동방법 |
| 18 |
18 제16항에 있어서, 상기 데이터쓰기단계는, 상기 소오스에 접지전압, 상기 제어게이트에 음의 전압 또는 접지전압, 상기 드레인에 양의 전압을 각각 인가하여 상기 부유바디셀에 홀을 축적하는, 커패시터리스 디램 소자의 구동방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1027907-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20090417 출원 번호 : 1020090033877 공고 연월일 : 20110412 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110331 청구범위의 항수 : 18 유별 : H01L 27/115 발명의 명칭 : 반도체 메모리 소자 및 그 구동방법 존속기간(예정)만료일 : |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 373,500 원 | 2011년 04월 04일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2014년 03월 28일 | 납입 |
| 제 5 - 7 년분 | 금 액 | 1,324,680 원 | 2015년 03월 26일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 548,800 원 | 2018년 04월 03일 | 납입 |
| 제 9 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2019년 04월 02일 | 납입 |
| 제 10 년분 | 금 액 | 615,000 원 | 2020년 03월 26일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.04.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0235162-46 |
| 2 | 의견제출통지서 | 2010.11.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0537612-56 |
| 3 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2011.01.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0055786-07 |
| 4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.02.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0121244-55 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.02.21 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0121243-10 |
| 6 | 등록결정서 | 2011.03.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0177362-26 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345144879 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0082583 |
| 연구과제명 | 나노원천 융합메모리 소자기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200906~201205 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1345151486 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2007-0056950 |
| 연구과제명 | 나노소자를 위한 trans-scale 융합 기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200707~201206 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1345097648 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 과C6A1611 |
| 연구과제명 | 전자통신기술사업단 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200603~201302 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
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