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강유전체 나노도트 소자 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015118633
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 TiO2 나노도트 배열 박막과 PbO 증기를 반응시켜 생성한 PbTiO3 나노도트를 이용한 강유전체 나노도트 소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 절연물질로 이루어진 기판, 기판 상면에 형성된 하부 전극, 하부 전극 상면의 일부 영역에 구 형상으로 형성된 나노도트, 나노도트 표면에 형성된 상부 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.나아가, 구 형상으로 형성된 나노도트는 PbTiO3로 이루어지는 것을 특징으로 하며, Pb(ZrTi)TiO3 또는 BiTiO3로 형성할 수 있다. 이 나노도트는 하부 전극 상면에 점 접촉하는 것을 특징으로 한다.나아가, 본 발명에 따른 강유전체 나노도트 소자의 제조방법은 기판을 준비하는 단계, 기판 상면에 하부 전극을 형성하는 단계, 공중합체(Copolymer) 용액과 졸겔(Sol-gel) 용액을 혼합해 솔루션 용액을 형성하는 단계, 솔루션 용액을 하부 전극 상면에 도포하고, 교질 입자 박막을 형성하는 단계, 교질 입자 박막이 증착된 기판을 건조하고, 템플레이트를 제거하여, TiO2 나노도트를 형성하는 단계, 스퍼터링(Sputtering) 공정으로 템플레이가 제거된 TiO2 나노도트 배열 박막에서 PbTiO3 나노도트를 형성하는 단계 및 PbTiO3 나노도트 상면에 상부 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 21/8247 (2006.01) H01L 29/66 (2006.01)
CPC H01L 28/55(2013.01) H01L 28/55(2013.01) H01L 28/55(2013.01)
출원번호/일자 1020110024685 (2011.03.21)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1231564-0000 (2013.02.04)
공개번호/일자 10-2012-0107166 (2012.10.02) 문서열기
공고번호/일자 (20130215) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.03.21)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 노광수 대한민국 대전광역시 유성구
2 김지윤 대한민국 대전광역시 유성구
3 홍종인 대한민국 대전광역시 유성구
4 박문규 대한민국 대전광역시 유성구
5 김동진 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이준성 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길 **, ***호 준성특허법률사무소 (대치동, 대치빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0202449-30
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.01.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.02.15 수리 (Accepted) 9-1-2012-0009523-82
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.06.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0335154-33
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0647903-62
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.08.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0647804-40
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.12.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0750585-76
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.01.03 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0005899-10
9 등록결정서
Decision to Grant Registration
2013.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0068979-21
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
11 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2013.05.06 수리 (Accepted) 1-1-2013-0395346-86
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
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기판을 준비하는 단계;상기 기판 상면에 하부 전극을 형성하는 단계;공중합체(Copolymer) 용액과 졸겔(Sol-gel) 용액을 혼합해 솔루션 용액을 형성하는 단계;상기 솔루션 용액을 상기 하부 전극 상면에 도포하고, 교질 입자 박막을 형성하는 단계;상기 교질 입자 박막이 증착된 상기 기판을 건조하고, 템플레이트를 제거하여, TiO2 나노도트를 형성하는 단계; 및스퍼터링(Sputtering) 공정으로 템플레이트가 제거된 상기 TiO2 나노도트 배열 박막에서 PbTiO3 나노도트를 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 공중합체(Copolymer) 용액과 졸겔(Sol-gel) 용액을 혼합해 솔루션 용액을 형성하는 단계는,한 종류의 공중합체(Copolymer) 용액과 두 종류의 졸겔 전구체 용액을 마그네틱 스터링 방식으로 혼합하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
10 10
제 9항에 있어서, 상기 강유전체 나노도트 소자 제조방법은,상기 PbTiO3 나노도트 상면에 상부 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
11 11
제 9항에 있어서, 상기 기판 상면에 하부 전극을 형성하는 단계는,열 증착(thermal evaporator), 전자선증착(e-beam evaporator), 스퍼터(RF or DC sputter), 이 빔(E-beam), 전기도금(Electro-plating) 방식 중 어느 한 방식을 통해 형성하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
12 12
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13 13
제 9항에 있어서, 상기 공중합체(Copolymer) 용액은,PS-b-PEO(Polystyrene-b-PolyEthyleneOxide)를 톨루엔(Toluene)에 용해시켜 생성한 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
14 14
제 9항에 있어서, 상기 졸겔(Sol-gel) 용액은,TTIP(Tetra-Titanium IsoPropoxide)와 염산(HCl)을 IPA(IsoPropyl Alcohol)에 용해시켜 생성한 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
15 15
제 9항에 있어서, 상기 솔루션 용액을 상기 하부 전극 상면에 도포하고, 교질입자 박막을 형성하는 단계는,스핀 코팅(Spin coating) 방식 또는 드로프렛(Droplet) 방식으로 PS(PolyStyrene) 코로나(Corona)와 PEO(PolyEthyleneOxide), TTIP(Tetra-Titanium IsoPropoxide)의 교질 입자 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
16 16
제 9항에 있어서, 상기 교질 입자 박막이 증착된 상기 기판을 건조하고, 템플레이트를 제거하여, TiO2 나노도트를 형성하는 단계는,플라즈마 에칭(Etching) 공정으로 폴리머(Polymer) 템플레이트를 제거하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
17 17
제 9항에 있어서, 상기 스퍼터링(Sputtering) 공정으로 템플레이트가 제거된 상기 TiO2 나노도트 배열 박막에서 PbTiO3 나노도트를 형성하는 단계는,상기 스퍼터링(Sputtering) 공정으로 상기 TiO2 나노도트 배열 박막과 PbO 증기를 반응시켜 PbTiO3 나노도트를 형성하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
18 18
제10항에 있어서, 상기 PbTiO3 나노도트 상면에 상부 전극을 형성하는 단계는,열 증착(Thermal evaporator), 전자선증착(E-beam evaporator), 스퍼터(RF or DC sputter), 전기도금(Electro-plating) 방식 중 어느 한 방식을 통해 형성하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
19 19
기판을 준비하는 단계;상기 기판 상면에 하부 전극을 형성하는 단계;공중합체(Copolymer) 용액, 졸겔(Sol-gel) 용액 및 Zr IsoPropoxide를 혼합해 솔루션 용액을 형성하는 단계;상기 솔루션 용액을 상기 하부 전극 상면에 도포하고, 교질 입자 박막을 형성하는 단계;상기 교질 입자 박막이 증착된 상기 기판을 건조하고, 템플레이트를 제거하여, (ZrTi)O2 나노도트를 형성하는 단계 및스퍼터링(Sputtering) 공정으로 템플레이트가 제거된 상기 (ZrTi)O2 나노도트 배열 박막에서 Pb(ZrTi)O3 나노도트를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
20 20
제 19항에 있어서, 상기 강유전체 나노도트 소자 제조방법은,상기 Pb(ZrTi)O3 나노도트 상면에 상부 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
21 21
제 19항에 있어서, 상기 공중합체(Copolymer) 용액, 졸겔(Sol-gel) 용액 및 Zr IsoPropoxide를 혼합해 솔루션 용액을 형성하는 단계는,한 종류의 공중합체(Copolymer) 용액, 두 종류의 졸겔(Sol-gel) 전구체 용액 및 Zr IsoPropoxide를 마그네틱 스터링 방식으로 혼합하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
22 22
제 19항에 있어서, 상기 스퍼터링(Sputtering) 공정으로 템플레이트가 제거된 상기 (ZrTi)O2 나노도트 배열 박막에서 Pb(ZrTi)O3 나노도트를 형성하는 단계는,상기 스퍼터링(Sputtering) 공정으로 상기 (ZrTi)O2 나노도트 배열 박막과 PbO 증기를 반응시켜 Pb(ZrTi)O3 나노도트를 형성하는 것을 특징으로 하는 강유전체 나노도트 소자 제조방법
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1 교육과학기술부 표준과학연구원 신기술융합형 성장동력사업 인간-기계 인터페이스를 위한 신경모방소자 및 인지시스템 개발