요약 | 제시된 발명은 탐침소재의 끝단에 추를 매달아 에칭과정중 탐침소재의 진직도를 높여 에칭균일도를 향상하고 드롭-오프(drop-off)되는 순간 추가 제거됨에 의해 탐침소재내의 잔류응력에 의해 고유굴곡상태로 복원되면서 계면을 벗어나 과에칭되는 것을 방지하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조방법 및 그 장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명은 간소한 장비로 안정적이고 원활한 에칭을 유도하여 좋은 품질의 제품을 생산하고 제조시간을 단축하여 생산성을 향상할 수 있다. 고세장비, 탐침, 전기화학 에칭, 드롭-오프(drop-off), 테플론 추 |
---|---|
Int. CL | G01R 3/00 (2006.01) |
CPC | G01R 3/00(2013.01) G01R 3/00(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020060035315 (2006.04.19) |
출원인 | 광주과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-0766193-0000 (2007.10.04) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20071010) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2006.04.19) |
심사청구항수 | 10 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 광주과학기술원 | 대한민국 | 광주광역시 북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 정성호 | 대한민국 | 광주광역시 광산구 |
2 | 김필규 | 대한민국 | 광주광역시 북구 |
3 | 김준호 | 대한민국 | 서울시 마포구 |
4 | 정문석 | 대한민국 | 광주광역시 광산구 |
5 | 고도경 | 대한민국 | 광주광역시 북구 |
6 | 이종민 | 대한민국 | 광주광역시 광산구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김삼용 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, *층(대치동, 동산빌딩) (인비전 특허법인) |
2 | 김상철 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)(특허법인이상) |
3 | 이재관 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)(특허법인이상) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 광주과학기술원 | 대한민국 | 광주광역시 북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 Patent Application |
2006.04.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0271819-64 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2007.02.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2007.03.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0012810-90 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2007.05.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0283510-79 |
5 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2007.07.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0500811-40 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2007.07.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0538089-15 |
7 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2007.07.25 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0538092-42 |
8 | 등록결정서 Decision to grant |
2007.08.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0471751-75 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.09.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5187089-85 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 용기에 담긴 에칭수용액에 미세 굵기의 금속선의 탐침소재를 수직하게 일정부분 침지하고, 상기 탐침소재를 양전극으로 하여 그 둘레에 음전극을 배치하고 전원공급기로부터 전류를 인가하여 상기 탐침소재를 에칭시켜 탐침을 제조하는 장치에 있어서, 상기 양전극의 하단에 부착되는 추를 구비하고, 에칭과정에 있어 수직 하방으로 잡아당기는 상기 추의 힘에 의해 상기 양전극의 진직도를 높여 에칭의 균일성을 유도하고 드롭-오프(drop-off)되는 순간 상기 추가 제거됨에 의해 에칭되어 절단된 상부측 탐침이 내부잔류응력에 의해 고유굴곡상태로 복원되면서 상기 에칭수용액으로부터 벗어나게 하는 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조장치 |
2 |
2 제 1항에 있어서, 상기 추를 상기 금속선의 양전극 하단에 결합시키는 금속테잎을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조장치 |
3 |
3 제 2항에 있어서, 상기 금속테잎은 알루미늄 테잎인 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조장치 |
4 |
4 제 2항에 있어서, 상기 양전극의 상부측에 설치되어 드롭-오프되는 순간 상기 양전극이 상기 음전극과 충돌하지 않는 범위내에서 움직이도록 상기 절단된 상부측 탐침의 이동을 규제하는 스토퍼를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조장치 |
5 |
5 제 4항에 있어서, 상기 스토퍼는 상기 양전극이 그 중심을 통과하며 상기 음전극의 직경보다 작은 직경으로 되는 환형부와, 이 환형부에서 외측으로 연장되는 지지팔들로 형성된 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조장치 |
6 |
6 제 5항에 있어서, 상기 추 및 상기 스토퍼는 테플론(teflon)으로 제조된 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조장치 |
7 |
7 제 6항에 있어서, 상기 에칭수용액은 에칭에 필요한 수산화음이온을 발생시키는 알카리 수용액인 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조장치 |
8 |
8 용기에 담긴 에칭수용액에 미세 굵기의 금속선의 탐침소재를 수직하게 일정부분 침지하고, 상기 탐침소재를 양전극으로 하여 그 둘레에 음전극을 배치하고 전원공급기로부터 전류를 인가하여 상기 탐침소재를 에칭시켜 탐침을 제조하는 방법에 있어서, 상기 양전극의 하단에 추를 매달아서, 에칭과정에 있어 수직 하방으로 잡아당기는 상기 추의 힘에 의해 상기 양전극의 진직도를 높여 에칭의 균일성을 유도하고 드롭-오프(drop-off)되는 순간 상기 추가 제거됨에 의해 에칭되어 절단된 상부측 탐침이 내부잔류응력에 의해 고유굴곡상태로 복원되면서 위쪽으로 이동하여 상기 에칭수용액으로부터 벗어나 과에칭이 방지되는 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조방법 |
9 |
9 제 8항에 있어서, 상기 에칭수용액은 수산화칼륨 수용액이 그리고 상기 양전극은 텅스텐 선이 사용되며, 상기 추를 알루미늄 테잎으로 상기 텅스텐 선에 부착함에 의해, 에칭과정중 상기 알루미늄 테잎이 상기 수산화칼륨 수용액과 화학반응하여 수산화알루미늄 음이온이 발생되어 많은 전류가 상기 텅스텐 선으로 흐르게 하는 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조방법 |
10 |
10 제 9항에 있어서, 상기 텅스텐 선이 수평방향으로 이동시 일정범위를 벗어나지 않도록 규제하는 스토퍼를 상기 텅스텐 선의 상부측에 설치하여, 상기 텅스텐 선이 드롭-오프되는 순간 상기 텅스턴 선의 절단된 상부측 탐침 부분이 상기 음전극과 충돌하는 것이 방지되는 것을 특징으로 하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
패밀리정보가 없습니다 |
---|
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-0766193-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20060419 출원 번호 : 1020060035315 공고 연월일 : 20071010 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20070830 청구범위의 항수 : 10 유별 : G01R 3/00 발명의 명칭 : 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조방법 및 그장치 존속기간(예정)만료일 : 20131005 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 광주과학기술원 광주광역시 북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 310,500 원 | 2007년 10월 04일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2010년 09월 27일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2011년 09월 29일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2012년 09월 28일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 | 2006.04.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0271819-64 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2007.02.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2007.03.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0012810-90 |
4 | 의견제출통지서 | 2007.05.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0283510-79 |
5 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2007.07.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0500811-40 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2007.07.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0538089-15 |
7 | [명세서등 보정]보정서 | 2007.07.25 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0538092-42 |
8 | 등록결정서 | 2007.08.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0471751-75 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.09.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5187089-85 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1350011948 |
---|---|
세부과제번호 | 212-01 |
연구과제명 | 첨단산업기술기초연구 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 과학기술부 |
연구주관기관명 | 광주과학기술원 |
성과제출연도 | 2006 |
연구기간 | 199701~201712 |
기여율 | 0.1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1410030576 |
---|---|
세부과제번호 | b0008643 |
연구과제명 | 특허경비지원 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가원 |
연구주관기관명 | 한국산업기술진흥협회 |
성과제출연도 | 2006 |
연구기간 | 200604~201103 |
기여율 | 0.9 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1355051566 |
---|---|
세부과제번호 | gist-03 |
연구과제명 | 첨단산업기술기초연구 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 과학기술부 |
연구주관기관명 | 광주과학기술원 |
성과제출연도 | 2007 |
연구기간 | 199701~201712 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1355052282 |
---|---|
세부과제번호 | gist-08 |
연구과제명 | 과학기술응용연구단운영 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 과학기술부 |
연구주관기관명 | 광주과학기술원 |
성과제출연도 | 2007 |
연구기간 | 200501~201412 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1415079027 |
---|---|
세부과제번호 | B0008381 |
연구과제명 | 극초단광양자빔연구시설설치운영사업 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가원 |
연구주관기관명 | 광주과학기술원 |
성과제출연도 | 2007 |
연구기간 | 200308~201206 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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