요약 | 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법은 지지체와 접합된 표면 플라즈모닉 도파로가 전송하는 표면 플라즈몬 파의 위상을 정합하는 방법으로서, 표면 플라즈몬 파를 측정하여 측정된 표면 플라즈몬 파의 위상에 대응하는 위상 측정값을 생성하고, 위상 측정값과 미리 설정된 목표치에 해당하는 허용범위를 비교하며, 위상 측정값이 허용범위에 포함되지 않는 경우, 표면 플라즈모닉 도파로의 형상을 변형한다. 이를 통해 표면 플라즈모닉 도파로가 접합된 후에 표면 플라즈몬 파의 위상을 정합한다. |
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Int. CL | G02B 6/12 (2006.01) |
CPC | G02B 6/1226(2013.01) G02B 6/1226(2013.01) G02B 6/1226(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020080039324 (2008.04.28) |
출원인 | 재단법인서울대학교산학협력재단 |
등록번호/일자 | 10-0928335-0000 (2009.11.17) |
공개번호/일자 | 10-2009-0093728 (2009.09.02) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20091126) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 |
대한민국 | 1020080019246 | 2008.02.29
|
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2008.04.28) |
심사청구항수 | 15 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이병호 | 대한민국 | 서울 관악구 |
2 | 한준구 | 대한민국 | 서울 동작구 |
3 | 김 휘 | 대한민국 | 서울 동대문구 |
4 | 임용준 | 대한민국 | 서울 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 유미특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이병호 | 서울특별시 서초구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.04.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0304055-21 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2009.07.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2009.08.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-2009-0047174-37 |
4 | 등록결정서 Decision to grant |
2009.10.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0445920-10 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.08.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5100909-62 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.20 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5036045-28 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 지지체와 접합된 표면 플라즈모닉 도파로가 전송하는 표면 플라즈몬 파의 위상을 정합하는 방법에 있어서, 상기 표면 플라즈몬 파를 측정하여 상기 표면 플라즈몬 파의 위상에 대응하는 위상 측정값을 생성하는 단계; 상기 위상 측정값과 미리 설정된 목표치에 해당하는 허용범위를 비교하는 단계; 및 상기 위상 측정값이 상기 허용범위에 포함되지 않는 경우, 상기 표면 플라즈모닉 도파로의 형상을 변형하는 단계를 포함하는 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 생성하는 단계는 상기 표면 플라즈몬 파의 주파수와 동일하고, 미리 설정된 위상을 가지는 기준파를 생성하는 단계; 및 상기 기준파를 바탕으로 상기 위상 측정값에 대응하는 상기 표면 플라즈몬 파의 상대 위상을 생성하는 단계를 포함하는 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 |
3 |
3 제2항에 있어서, 상기 상대 위상을 생성하는 단계는 상기 기준파와 상기 표면 플라즈몬 파를 결합하여 상기 기준파와 상기 표면 플라즈몬 파간에 발생하는 간섭에 대응하는 간섭파를 생성하는 단계; 및 상기 간섭파를 바탕으로 상기 기준파의 위상과 상기 표면 플라즈몬 파의 위상간의 차이에 대응하는 상기 상대 위상을 생성하는 단계를 포함하는 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 |
4 |
4 제2항에 있어서, 상기 변형하는 단계는 상기 상대 위상에 따라 상기 표면 플라즈모닉 도파로의 형상을 변형하는 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 |
5 |
5 제1항에 있어서, 상기 변형하는 단계는 상기 표면 플라즈모닉 도파로가 상기 지지체에 접합된 위치에서 상기 표면 플라즈모닉 도파로의 형상을 변형하는 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 |
6 |
6 제1항에 있어서, 상기 변형하는 단계는 레이저 광선 또는 이온 밀링 광선을 이용하여 상기 표면 플라즈모닉 도파로의 형상을 변형하는 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 |
7 |
7 제1항에 있어서, 상기 생성하는 단계는 변형된 표면 플라즈모닉 도파로가 전송하는 표면 플라즈몬 파를 측정하는 단계를 포함하는 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 |
8 |
8 제1항에 있어서, 상기 생성하는 단계는 상기 표면 플라즈몬 파를 전반사 시키는 탐침 또는 상기 표면 플라즈몬 파를 전파하는 유전체를 이용하여 상기 표면 플라즈몬 파를 측정하는 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 |
9 |
9 표면 플라즈모닉 도파로를 지지체에 접합하는 단계; 상기 표면 플라즈모닉 도파로에 탐침 연결 소자와 연결된 탐침을 접근시키는 단계; 상기 탐침을 이용하여 상기 표면 플라즈모닉 도파로가 전송하는 표면 플라즈몬 파의 위상을 측정하는 단계; 및 상기 위상에 따라 상기 표면 플라즈모닉 도파로를 상기 지지체에 접합된 상태에서 마름질하는 단계를 포함하는 표면 플라즈모닉 도파로의 마름질 방법 |
10 |
10 제9항에 있어서, 상기 탐침 연결 소자는 상기 표면 플라즈모닉 도파로와 이격 되어 상기 표면 플라즈몬 파를 수신하고, 내부에서 상기 표면 플라즈몬 파가 전파되는 다각형 형상의 유전체; 및 상기 유전체의 복수 개의 면 중 하나의 면에 형성되고, 상기 탐침과 연결되며, 상기 유전체의 내부에서 전파되는 상기 표면 플라즈몬 파를 집속하여 상기 탐침에게 전달하는 광집속부를 포함하는 표면 플라즈모닉 도파로의 마름질 방법 |
11 |
11 제10항에 있어서, 상기 유전체는 직육면체 형상인 표면 플라즈모닉 도파로의 마름질 방법 |
12 |
12 제10항에 있어서, 상기 유전체는 아랫면과 연결되는 빗면을 포함하는 다면체 형상인 표면 플라즈모닉 도파로의 마름질 방법 |
13 |
13 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 접근시키는 단계는 상기 유전체의 아랫면이 상기 표면 플라즈모닉 도파로와 일정한 간격으로 이격 되도록 상기 탐침을 상기 표면 플라즈모닉 도파로에 접근시키는 표면 플라즈모닉 도파로의 마름질 방법 |
14 |
14 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 광집속부는 상기 유전체의 윗면의 일부의 영역에 형성되는 표면 플라즈모닉 도파로의 마름질 방법 |
15 |
15 제9항에 있어서, 상기 마름질하는 단계는 레이저 광선 또는 이온 밀링 광선을 이용하여 상기 표면 플라즈모닉 도파로의 일부를 마름질하는 표면 플라즈모닉 도파로의 마름질 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
패밀리정보가 없습니다 |
---|
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-0928335-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20080428 출원 번호 : 1020080039324 공고 연월일 : 20091126 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20091029 청구범위의 항수 : 15 유별 : G02B 6/12 발명의 명칭 : 표면 플라즈몬 파의 위상 정합 방법 및 표면 플라즈모닉도파로의 마름질 방법 존속기간(예정)만료일 : 20161118 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 재단법인서울대학교산학협력재단 서울특별시 관악구... |
2 |
(권리자) 이병호 서울특별시 서초구... |
2 |
(의무자) 재단법인서울대학교산학협력재단 서울특별시 관악구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 315,000 원 | 2009년 11월 17일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 370,000 원 | 2012년 11월 16일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 370,000 원 | 2013년 11월 06일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 370,000 원 | 2014년 11월 10일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 670,000 원 | 2015년 11월 17일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.04.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0304055-21 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2009.07.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2009.08.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-2009-0047174-37 |
4 | 등록결정서 | 2009.10.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0445920-10 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.08.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5100909-62 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.20 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5036045-28 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1345098832 |
---|---|
세부과제번호 | 2007-0054847 |
연구과제명 | 액티브플라즈모닉스초고속전광스위칭메커니즘을이용한광집적회로,삼차원이미징및근접장바이오/분자매니퓰레이션의연구 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 서울대학교 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200705~201602 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345071105 |
---|---|
세부과제번호 | 과06A1604 |
연구과제명 | 정보기술사업단 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 서울대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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