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마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템

  • 기술번호 : KST2015159595
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템으로서,본 발명의 일측면은 광원; 상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및 내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템을 제공한다.
Int. CL H01L 21/027 (2011.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020070055934 (2007.06.08)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0875900-0000 (2008.12.18)
공개번호/일자 10-2008-0107744 (2008.12.11) 문서열기
공고번호/일자 (20081226) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.06.08)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권성훈 대한민국 서울 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남정길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 인화빌딩 *층 (삼성동)(특허법인(유한)아이시스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 권성훈 인천광역시 연수구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.06.08 수리 (Accepted) 1-1-2007-0416411-97
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.04.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.05.14 수리 (Accepted) 9-1-2008-0028642-79
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.06.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0333305-67
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2008.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0595537-73
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.09.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0663036-39
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.09.22 수리 (Accepted) 1-1-2008-0663037-85
9 보정요구서
Request for Amendment		 2008.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0116193-07
10 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2008-0691457-48
11 등록결정서
Decision to grant		 2008.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0606326-41
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광원;상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기;내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관;상기 마이크로유체관의 이미지에 대응하는 전기적인 이미지 신호를 출력하는 카메라; 및상기 마이크로유체관에 비축 조명을 제공하는 조명기를 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
광원;상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 포함하되,상기 공간 광 변조기는 상기 변조된 광을 상기 광경화성 액체에 지속적으로 노광함으로써, 상기 공간 광 변조기의 노광 가능한 면적보다 큰 구조의 마이크로구조물-상기 마이크로구조물은 상기 광경화성 액체의 경화에 의하여 생성됨-을 생성하는 광유체적 리소그래피 시스템
7 7
제6항에 있어서,상기 마이크로구조물은 상기 마이크로유체관을 따라 길게 형성되는 광유체적 리소그래피 시스템
8 8
제6항에 있어서,상기 공간 광 변조기에 의하여 상기 광경화성 액체에 지속적으로 제공되는 상기 변조된 광의 모양 또는 크기를 연속적으로 바꿈으로써, 상기 마이크로구조물의 높이-상기 높이는 상기 마이크로유체관의 내부에 흐르는 유체의 흐름에 수직 방향의 상기 마이크로구조물의 길이임-가 상기 마이크로유체관을 따라 변화하는 광유체적 리소그래피 시스템
9 9
삭제
10 10
광원;상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 포함하되,반도체 나노입자, 일반 나노입자, 무기물 구조물, 미세한 반도체 회로칩 및 이종의 폴리머 비드 중 적어도 어느 하나를 상기 광경화성 액체와 함께 상기 마이크로 유체관에 흘림으로써, 상기 광경화성 액체의 경화에 의하여 생성되는 마이크로구조물이 상기 반도체 나노입자, 상기 일반 나노입자, 상기 무기물 구조물, 상기 미세한 반도체 회로칩 및 상기 이종의 폴리머 비드 중 적어도 어느 하나를 내부에 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
11 11
광원;상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 포함하되,상기 공간 광 변조기는 마이크로구조물-상기 마이크로구조물은 상기 광경화성 액체의 경화에 의하여 생성됨-에 추가적인 변조된 광-상기 추가적인 변조된 광은 상기 공간 광 변조기에서 제공됨-을 제공함으로써, 상기 마이크로구조물의 내부에 추가적인 마이크로구조물-상기 추가적인 마이크로구조물은 상기 마이크로구조물 내부에 위치하는 경화되지 않은 상기 광경화성 액체의 경화에 의하여 생성됨-을 생성하는 광유체적 리소그래피 시스템
12 12
광원;상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및내부에 복수의 광경화성 액체들이 서로 계면을 형성하며 흐르고, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 복수의 광경화성 액체들을 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
13 13
제12항에 있어서,상기 마이크로유체관의 일단은 Y 모양으로 생긴 분지된 관을 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
14 14
제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 공간 광 변조기는 디지털 마이크로미러 어레이를 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
15 15
제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 공간 광 변조기는 프로그램 가능한(programmable) 공간 광 변조기를 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
16 16
제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로유체관은 이를 둘러싼 PDMS에 의하여 형성된 광유체적 리소그래피 시스템
17 17
제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로유체관의 4면에는 산소 금지 층들이 형성된 광유체적 리소그래피 시스템
18 18
제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광을 축소하여 상기 마이크로유체관에 제공하는 축소 렌즈를 더 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
19 19
제18항에 있어서,상기 마이크로유체관의 이미지에 대응하는 전기적인 이미지 신호를 출력하는 카메라; 및상기 공간 광 변조기로부터 제공되는 상기 변조된 광을 상기 축소 렌즈를 경유하여 상기 마이크로유체관에 제공하고, 상기 마이크로유체관으로부터 상기 축소 렌즈를 경유하여 전달된 상기 마이크로유체관의 상기 이미지를 상기 카메라에 제공하는 빔 분리기를 더 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
20 20
제19항에 있어서,상기 마이크로유체관에 비축 조명을 제공하는 조명기를 더 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템
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1 WO2008150140 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
2 WO2008150140 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2008150140 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
2 WO2008150140 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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