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플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법

  • 기술번호 : KST2015160632
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 플라즈마 표시 장치는 한 프레임이 각각의 초기 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고, 복수의 방전 셀의 입력 계조를 복수의 서브필드의 초기 가중치를 이용하여 하프토닝 처리한다. 플라즈마 표시 장치는 하프토닝 처리된 계조로부터 복수의 서브필드에서의 복수의 행 전극의 라인 부하율을 계산하고, 복수의 서브필드에서의 복수의 행 전극의 라인 부하율을 이용하여 복수의 서브필드의 출력 예측 가중치를 결정한다. 다음, 복수의 방전 셀의 입력 계조를 출력 예측 가중치를 이용하여 하프토닝 처리한다. PDP, 방전 셀, 하프토닝, 라인 부하
Int. CL G09G 3/291 (2014.01) G09G 3/296 (2014.01)
CPC G09G 3/2044(2013.01) G09G 3/2044(2013.01) G09G 3/2044(2013.01) G09G 3/2044(2013.01)
출원번호/일자 1020080070737 (2008.07.21)
출원인 삼성에스디아이 주식회사, 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0009909 (2010.01.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성에스디아이 주식회사 대한민국 경기도 용인시 기흥구
2 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진성 대한민국 충청남도 천안시 동남구
2 이혁재 대한민국 서울특별시 관악구
3 김태성 대한민국 충청남도 천안시 서북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.07.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0522660-92
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.03.13 수리 (Accepted) 4-1-2009-5048186-86
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2010-5090730-68
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.10 수리 (Accepted) 4-1-2014-5017230-44
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
복수의 행 전극, 복수의 열 전극, 상기 복수의 행 전극과 상기 복수의 열 전극에 의해 정의되는 복수의 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임이 각각의 초기 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서, 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 상기 초기 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 단계, 상기 하프토닝 처리된 계조로부터 상기 복수의 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율을 계산하는 단계, 상기 복수의 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율을 이용하여 상기 복수의 서브필드의 출력 예측 가중치를 결정하는 단계, 그리고 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 단계 를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 상기 하프토닝 처리된 계조로부터 상기 복수의 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율을 갱신하는 단계, 갱신한 라인 부하율을 이용하여 상기 복수의 서브필드의 출력 예측 가중치를 갱신하는 단계, 그리고 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 갱신한 출력 예측 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 단계 를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 라인 부하율을 갱신하는 단계, 상기 출력 예측 가중치를 갱신하는 단계 및 상기 갱신한 출력 예측 가중치를 이용하여 상기 하프토닝 처리하는 단계를 적어도 1회 반복하는 단계 를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 출력 예측 가중치를 결정하는 단계는, 각 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율과 상기 복수의 서브필드에서의 상기 초기 가중치를 이용하여 상기 각 서브필드에서의 출력 예측 가중치를 결정하는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 복수의 서브필드는 상기 초기 가중치를 크기 순으로 배열되어 있으며, 상기 플라즈마 표시 장치는 발광 조건에 따라 상기 복수의 서브필드 중 발광 서브필드의 조합으로 계조를 표현하고, 상기 발광 조건은 상기 복수의 서브필드에서 발광 서브필드 이전에 연속하는 비발광 서브필드가 N개(N은 0 이상의 정수) 이하로 존재하는 조건을 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 단계는, 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조에 대해 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 제1 및 제2 출력 후보 계조를 각각 계산하는 단계, 그리고 상기 제1 및 제2 출력 후보 계조를 이용하여 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 하프토닝 처리하는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 제1 및 제2 출력 후보 계조를 결정하는 단계는, 상기 복수의 서브필드 중 첫 번째 서브필드부터 Nmsb번째 서브필드의 상기 출력 예측 가중치의 총합이 상기 입력 계조 이상이 되는 Nmsb의 최소값을 구하는 단계, 그리고 상기 발광 조건에 따라 상기 첫 번째 서브필드부터 Nmsb번째 서브필드에 의해 표현되는 복수의 계조 중에서, 상기 입력 계조 이하인 최대 계조와 상기 입력 계조 이상인 최소 계조를 각각 상기 제1 및 제2 출력 후보 계조로 결정하는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
8 8
제6항에 있어서, 상기 제1 및 제2 출력 후보 계조를 결정하는 단계는, 상기 복수의 서브필드 중 첫 번째 서브필드부터 Nmsb번째 서브필드의 상기 출력 예측 가중치의 총합이 상기 입력 계조 이상이 되는 Nmsb의 최소값을 구하는 단계, 상기 발광 조건에 따라 상기 첫 번째 서브필드부터 Nmsb번째 서브필드에 의해 표현되는 복수의 계조 중에서, 상기 입력 계조 이하인 최대 계조와 상기 입력 계조 이상인 최소 계조를 각각 제1 및 제2 초기 출력 후보 계조로 결정하는 단계, 그리고 상기 (Nmsb+1)부터 (Nmsb+N)번째 서브필드의 출력 예측 가중치 중 상기 첫 번째 서브필드부터 Nmsb번째 서브필드의 출력 예측 가중치보다 작은 가중치를 가지는 서브필드와 상기 첫 번째 서브필드부터 Nmsb번째 서브필드의 출력 예측 가중치 중 상기 (Nmsb+1)부터 (Nmsb+N)번째 서브필드의 출력 예측 가중치보다 작은 가중치를 가지는 서브필드의 출력 예측 가중치의 총합과 상기 제1 및 제2 초기 출력 후보 중 상기 입력 계조 이하인 최대 계조와 상기 입력 계조 이상인 최소 계조를 각각 상기 제1 및 제2 출력 부호 계조로 결정하는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
9 9
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 N은 1인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
10 10
복수의 방전 셀이 각각 형성되어 있는 복수의 행 전극, 그리고 한 프레임을 각각의 초기 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누어 구동하며, 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 상기 초기 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하고, 상기 하프토닝 처리된 계조로부터 상기 복수의 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율을 계산하며, 상기 복수의 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율을 이용하여 상기 복수의 서브필드의 출력 예측 가중치를 결정하고, 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 제어부 를 포함하는 플라즈마 표시 장치
11 11
제10항에 있어서, 상기 제어부는 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 상기 하프토닝 처리된 게조로부터 상기 복수의 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율을 갱신하고, 갱신한 라인 부하율을 이용하여 상기 복수의 서브필드의 출력 예측 가중치를 갱신하며, 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 갱신한 출력 예측 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 플라즈마 표시 장치
12 12
제11항에 있어서, 상기 제어부는 상기 복수의 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율과 상기 복수의 서브필드에서의 상기 초기 가중치를 이용하여 상기 복수의 서브필드에서의 출력 예측 가중치를 결정하는 플라즈마 표시 장치
13 13
제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 서브필드는 상기 초기 가중치의 크기 순으로 배열되어 있으며, 상기 제어부는 상기 플라즈마 표시 장치는 발광 조건에 따라 상기 복수의 서브필드 중 발광 서브필드의 조합으로 계조를 표현하며, 상기 발광 조건은 상기 복수의 서브필드에서 발광 서브필드 이전에 연속하는 비발광 서브필드가 N개(N은 0이상의 정수) 이하로 존재하는 조건을 포함하는 플라즈마 표시 장치
14 14
제13항에 있어서, 상기 제어부는 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조에 대해 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 제1 및 제2 출력 후보 계조를 각각 결정하고, 상기 제1 및 제2 출력 후보 계조를 이용하여 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 하프토닝으로 처리하는 플라즈마 표시 장치
15 15
행 전극, 복수의 열 전극, 상기 행 전극과 상기 복수의 열 전극에 의해 정의되는 복수의 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임이 각각의 초기 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서, 각 방전 셀의 입력 계조를 상기 초기 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 단계, 상기 복수의 방전 셀의 상기 하프토닝 처리된 계조로부터 각 서브필드에서의 상기 행 전극의 라인 부하율을 계산하는 단계, 상기 각 서브필드에서의 상기 라인 부하율과 상기 초기 가중치를 이용하여 상기 각 서브필드의 출력 예측 가중치를 결정하는 단계, 그리고 상기 각 방전 셀의 입력 계조를 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 단계 를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
16 16
제15항에 있어서, 상기 출력 예측 가중치를 이용하여 상기 하프토닝 처리된 계조로부터 상기 각 서브필드에서의 상기 복수의 행 전극의 라인 부하율을 갱신하는 단계, 갱신한 라인 부하율과 상기 초기 가중치를 이용하여 상기 각 서브필드의 출력 예측 가중치를 갱신하는 단계, 그리고 상기 복수의 방전 셀의 입력 계조를 갱신한 출력 예측 가중치를 이용하여 하프토닝 처리하는 단계 를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
17 17
제16항에 있어서, 상기 라인 부하율을 갱신하는 단계, 상기 출력 예측 가중치를 갱신하는 단계 및 상기 갱신한 출력 예측 가중치를 이용하여 상기 하프토닝 처리하는 단계를 적어도 1회 반복하는 단계 를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
18 18
제15항에 있어서, 상기 복수의 서브필드는 상기 초기 가중치를 크기 순으로 배열되어 있으며, 상기 플라즈마 표시 장치는 발광 조건에 따라 상기 복수의 서브필드 중 발광 서브필드의 조합으로 계조를 표현하고, 상기 발광 조건은 상기 복수의 서브필드에서 발광 서브필드 이전에 연속하는 비발광 서브필드가 N개(N은 0 이상의 정수) 이하로 존재하는 조건을 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
19 19
제15항에 있어서, 상기 하프토닝 처리는 디더링 처리를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.