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마이크로 수직 구조체의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015084242
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마이크로 수직 구조체의 제조 방법에 관한 것으로, 절연층 패턴 및 중공 공간을 사이에 두고 제1 결정질 실리콘 기판과 제2 결정질 실리콘 기판이 접합된 상태에서, 상기 제2 결정질 실리콘 기판을 상기 제2 결정질 실리콘 기판과 수직한 방향의 (111) 결정면을 따라 딥 반응 이온 식각법으로 식각한 후 식각 측면을 결정성 습식 식각법으로 식각하여 표면 거칠기와 평활도를 개선시킴으로써, 식각 측면에 형상 결함이 발생되지 않는 것을 특징으로 한다. 또한, 절연층 패턴에 의해 식각 엔드 포인트에서 풋팅 현상이 발생되지 않으며, 마이크로 수직 구조체가 공중에 부양되지 않고 제1 결정질 실리콘 기판에 고정되므로 추가 공정시에 유리한 특징이 있다. 결함, 풋팅 현상, 결정질 실리콘, 결정면, 표면 거칠기, 평활도, cavity
Int. CL H01L 29/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020080066015 (2008.07.08)
출원인 한국전자통신연구원, 광주과학기술원
등록번호/일자 10-1001666-0000 (2010.12.09)
공개번호/일자 10-2010-0005908 (2010.01.18) 문서열기
공고번호/일자 (20101215) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.07.08)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이명래 대한민국 부산광역시 사상구
2 이종현 대한민국 광주광역시 북구
3 윤성식 대한민국 광주광역시 북구
4 정대훈 대한민국 광주광역시 북구
5 황건 대한민국 서울 강남구
6 최창억 대한민국 대전 유성구
7 제창한 대한민국 대전광역시 유성구
8 안재용 대한민국 경기도 오산시 운암청구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.07.08 수리 (Accepted) 1-1-2008-0491515-63
2 [공지예외적용대상(신규성, 출원시의 특례)증명서류]서류제출서
[Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)] Submission of Document		 2008.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2008-0493656-38
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.02.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.03.18 수리 (Accepted) 9-1-2010-0017195-62
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.06.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0252197-47
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.08.12 수리 (Accepted) 1-1-2010-0518589-56
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.08.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0518616-02
9 등록결정서
Decision to grant		 2010.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0564978-73
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 제1 결정질 실리콘 기판 상에 절연층을 형성한 후 상기 절연층을 패터닝하여 풋팅(footing) 현상을 방지하기 위한 절연층 패턴 및 중공 공간을 형성하는 단계; (b) 상기 절연층 패턴 상부에 제2 결정질 실리콘 기판을 접합한 후 상기 제2 결정질 실리콘 기판을 딥 반응 이온 식각법(Deep Reactive Ion Etching)으로 식각하되, 상기 제2 결정질 실리콘 기판과 수직한 방향의 결정면을 따라 식각하는 단계; 및 (c) 상기 제2 결정질 실리콘 기판의 식각 측면을 결정성 습식 식각법으로 식각하여 상기 제2 결정질 실리콘 기판과 수직인 측면을 갖는 마이크로 수직 구조체를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 (a) 단계를 통해 형성된 절연층 패턴의 폭은 상기 (b) 단계를 통해 식각된 제2 결정질 실리콘 기판의 폭 보다 작은 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서, 상기 절연층 패턴이 형성된 이후에 상기 제1 결정질 실리콘 기판의 일부 두께를 식각하여 지지체를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 제2결정질 실리콘 기판은 (110) 결정질 실리콘 기판인 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제2 결정질 실리콘 기판과 수직한 방향의 결정면은 (111) 방향의 결정면인 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제2 결정질 실리콘 기판의 딥 반응 이온 식각 공정 중에 발생하는 반응 이온들은 상기 중공 공간으로 방출되는 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
7 7
제 1항에 있어서, 상기 (c) 단계에서, 상기 제2 결정질 실리콘 기판의 결정성 습식 식각 이전에 상기 제2 결정질 실리콘 기판의 상부에 산화막을 증착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 마이크로 수직 구조체는 상기 절연층 패턴에 의하여 상기 제1 결정질 실리콘 기판에 고정되는 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
9 9
제 1항에 있어서, 상기 절연층 패턴을 제거하여 상기 마이크로 수직 구조체가 공중에 부양되도록 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 수직 구조체의 제조 방법
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1 US2010009514 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US7745308 US 미국 DOCDBFAMILY
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