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유기 박막 트랜지스터용 조성물, 이를 이용하여 형성된 유기 박막 트랜지스터 및 그 형성방법

  • 기술번호 : KST2015101234
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 안트라세닐 그룹을 포함하는 물질 및 말레이미드 그룹을 갖는 가교제를 포함하는 유기 박막 트랜지스터용 조성물(Composition for Manufacturing Organic Thin Film Transistor), 이를 이용하여 형성된 유기 박막 트랜지스터 및 그 형성방법이 개시된다. 안트라세닐, 말레이미드, 유기 절연막, 유기 박막 트랜지스터, 가교반응
Int. CL H01L 29/786 (2006.01) C08L 33/00 (2006.01) C08K 5/16 (2006.01)
CPC H01L 51/052(2013.01) H01L 51/052(2013.01) H01L 51/052(2013.01) H01L 51/052(2013.01) H01L 51/052(2013.01) H01L 51/052(2013.01) H01L 51/052(2013.01) H01L 51/052(2013.01) H01L 51/052(2013.01)
출원번호/일자 1020080107801 (2008.10.31)
출원인 한국전자통신연구원, 광주과학기술원
등록번호/일자 10-0975913-0000 (2010.08.09)
공개번호/일자 10-2010-0048576 (2010.05.11) 문서열기
공고번호/일자 (20100813) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.10.31)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 노용영 대한민국 대전광역시 유성구
2 구재본 대한민국 대전 유성구
3 유인규 대한민국 대전 유성구
4 백강준 대한민국 광주광역시 북구
5 김동유 대한민국 광주광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)(특허법인 고려)
2 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
3 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
2 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2008-0758825-41
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.05.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0295950-03
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2009-0493913-13
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2009-0495130-16
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.01.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.02.11 수리 (Accepted) 9-1-2010-0009040-62
8 등록결정서
Decision to grant
2010.07.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0319051-95
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1
화학식 I 또는 화학식 II 로 표현되는 물질; 및 말레이미드 그룹을 갖는 가교제를 포함하는 유기 박막 트랜지스터용 조성물(Composition for Manufacturing Organic Thin Film Transistor)
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 말레이미드 그룹을 갖는 가교제는 화학식 III, 화학식 IV, 화학식 V 또는 화학식 VI 중 어느 하나인 유기 박막 트랜지스터용 조성물
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 가교제의 양은 상기 물질 100 중량부에 대해 10 내지 100 중량부인 유기 박막 트랜지스터용 조성물
4 4
제 1 항에 있어서, 유기 용매를 더 포함하는 유기 박막 트랜지스터용 조성물
5 5
화학식 I 또는 화학식 II 로 표현되는 물질 및 말레이미드 그룹을 갖는 가교제의 가교 결합에 의해 형성된 유기 절연막을 포함하는 유기 박막 트랜지스터
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 유기 절연막은 기판 상에 형성되고, 상기 기판 상의 소오스 전극, 드레인 전극, 유기 활성층 및 게이트 전극을 더 포함하는 유기 박막 트랜지스터
7 7
화학식 I 또는 화학식 II 로 표현되는 물질 및 말레이미드 그룹을 갖는 가교제를 포함하는 용액을 제조하는 단계; 기판 상에 상기 용액을 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 기판을 열처리하여 상기 기판 상에 유기 절연막을 형성하는 단계를 포함하는 유기 박막 트랜지스터 형성방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 열처리에 의해 상기 물질과 상기 가교제가 디엘스-알더 반응하는 유기 박막 트랜지스터 형성방법
9 9
제 7 항에 있어서, 상기 용액을 코팅하는 단계 전에, 상기 기판 상에 게이트 전극을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 유기 절연막을 형성하는 단계 후에, 상기 유기 절연막 상에 유기 활성층을 형성하는 단계; 및 소오스 및 드레인을 형성하는 단계를 포함하는 유기 박막 트랜지스터 형성방법
10 10
제 7 항에 있어서, 상기 용액을 코팅하는 단계 전에, 상기 기판 상에 소오스 및 드레인을 형성하는 단계; 및 상기 기판 상에 유기 활성층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 유기 절연막을 형성하는 단계 후에, 상기 유기 절연막 상에 게이트 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 유기 박막 트랜지스터 형성방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP02182012 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 US07960724 US 미국 FAMILY
3 US20100108996 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP2182012 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
2 US2010108996 US 미국 DOCDBFAMILY
3 US7960724 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 및 정보통신연구진흥원 한국전자통신연구원 IT원천기술개발 개별물품 단위 응용을 위한 차세대 RFID 기술 개발