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물질 특성 측정 방법 및 장치, 물질 영상화 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015174082
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 물질 특성 측정 방법 및 장치, 물질 영상화 방법 및 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 물질 특성 측정 방법은, 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 본 발명에 의하면, 형광체의 주입으로 인한 세포의 사멸이나 광탈색 현상 없이 특정 분자나 조직의 미세한 변화를 관찰할 수 있다.
Int. CL G01N 3/38 (2011.01) G01N 21/00 (2011.01) G01N 33/48 (2011.01) B82Y 15/00 (2011.01)
CPC G01N 3/38(2013.01) G01N 3/38(2013.01) G01N 3/38(2013.01) G01N 3/38(2013.01)
출원번호/일자 1020080009161 (2008.01.29)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-0960130-0000 (2010.05.19)
공개번호/일자 10-2009-0083162 (2009.08.03) 문서열기
공고번호/일자 (20100527) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.29)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김덕영 대한민국 광주광역시 북구
2 이지용 대한민국 광주광역시 북구
3 김동욱 대한민국 광주광역시 북구
4 신인희 대한민국 광주광역시 북구
5 이승락 대한민국 광주광역시 북구
6 배윤성 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인우인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 중평빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2008-0075541-04
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.02.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.03.13 수리 (Accepted) 9-1-2009-0013590-87
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0320773-41
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2009-0604528-19
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.09.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0604571-62
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2010.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0009080-71
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.03.08 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2010-0145275-87
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.03.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0145266-76
10 등록결정서
Decision to grant		 2010.05.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0203208-24
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
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번호 청구항
1 1
삭제
2 2
삭제
3 3
(a) 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; (b) 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하고, 상기 나노입자는 특정 주파수에서 강한 흡수특성을 나타내며, 상기 외부 자극은 상기 특정 주파수를 가지는 광원에 해당하고, 상기 반응은 상기 특정 주파수 근처의 주파수에서의 굴절률 변화로 인한 위상차인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 반응은 상기 특정 주파수보다 작은 제1 주파수에서의 굴절률 변화로 인한 위상차 및 상기 특정 주파수보다 큰 제2 주파수에서의 굴절률 변화로 인한 위상차의 차이인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
5 5
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6 6
(a) 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; (b) 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극은 전기장 또는 자기장의 변화에 해당하고, 상기 반응은 상기 전기장 또는 자기장의 변화에 따른 상기 나노입자의 회전 또는 이동으로 인한 편광 특성의 변화인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 외부 자극은 상기 전기장 또는 자기장의 변화와 더불어 특정 주파수를 가지는 광원에 해당하고, 상기 반응은 상기 전기장 또는 자기장의 변화 및 상기 특정 주파수의 광원에 따른 상기 나노입자의 회전 또는 이동으로 인한 편광 특성의 변화인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
8 8
(a) 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; (b) 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극은 전기장 또는 자기장의 변화에 해당하고, 상기 외부 자극은 소정 주파수를 가지는 정현파 형태의 전기장 또는 자기장에 해당하고, 상기 반응은 상기 샘플의 각 위치에서의 상기 나노입자의 회전에 대한 진폭 및 상기 전기장 또는 자기장과의 위상차인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
9 9
(a) 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; (b) 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극은 전기장 또는 자기장의 변화에 해당하고, 상기 외부 자극은 서로 다른 주파수를 가지는 정현파 형태의 제1 및 제2 전기장에 해당하고, 상기 반응은 상기 샘플의 각 위치에서의 상기 제1 전기장에 의한 상기 나노입자의 회전 및 상기 제1 전기장과의 위상차와 상기 제2 전기장에 의한 상기 나노입자의 회전 및 상기 제2 전기장과의 위상차의 차이인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
10 10
(a) 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; (b) 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극은 전기장 또는 자기장의 변화에 해당하고, 상기 외부 자극은 서로 다른 주파수를 가지는 정현파 형태의 제1 및 제2 자기장에 해당하고, 상기 반응은 상기 샘플의 각 위치에서의 상기 제1 자기장에 의한 상기 나노입자의 회전 및 상기 제1 자기장과의 위상차와 상기 제2 자기장에 의한 상기 나노입자의 회전 및 상기 제2 자기장과의 위상차의 차이인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
11 11
(a) 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; (b) 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극은 전기장 또는 자기장의 변화에 해당하고, 상기 외부 자극은 시간에 따라 변화하는 주파수를 가지는 정현파 형태의 전기장 또는 자기장에 해당하고, 상기 반응은 시간에 따른 상기 나노입자의 회전을 나타내는 그래프인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
12 12
(a) 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; (b) 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극은 전기장 또는 자기장의 변화에 해당하고, 상기 외부 자극은 펄스 형태의 전기장 또는 자기장에 해당하고, 상기 반응은 시간에 따른 상기 나노입자의 회전을 나타내는 그래프인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
13 13
(a) 측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 단계; (b) 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 단계를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극은 전기장 또는 자기장의 변화에 해당하고, 상기 외부 자극은 계단파 형태의 전기장 또는 자기장에 해당하고, 상기 반응은 상기 계단파에 의한 상기 나노입자의 회전의 상승 구간 및 복원 구간 각각에서의 시정수인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 방법
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측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 나노입자 부착부; 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 외부 자극 인가부; 및 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 반응 측정부를 포함하고, 상기 나노입자는 특정 주파수에서 강한 흡수특성을 나타내며, 상기 외부 자극 인가부는 특정 주파수를 가지는 광원을 포함하고, 상기 반응 측정부는 상기 반응으로서 상기 특정 주파수 근처의 주파수에서의 굴절률 변화로 인한 위상차를 측정하기 위한 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 장치
18 18
제17항에 있어서, 상기 반응 측정부는 상기 특정 주파수보다 작은 제1 주파수를 가지는 광원 및 상기 특정 주파수보다 큰 제2 주파수를 가지는 광원을 포함하고, 상기 반응은 상기 제1 주파수에서의 굴절률 변화로 인한 위상차 및 상기 제2 주파수에서의 굴절률 변화로 인한 위상차의 차이인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 장치
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측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 나노입자 부착부; 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 외부 자극 인가부; 및 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 반응 측정부를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극 인가부는 상기 샘플에 변화하는 전기장 또는 자기장을 인가하는 전기장 발생 장치 또는 자기장 발생 장치를 포함하고, 상기 반응 측정부는 상기 반응으로서 상기 전기장 또는 자기장의 변화에 따른 상기 나노입자의 회전 또는 이동으로 인한 편광 특성의 변화를 측정하기 위한 광원 및 편광판을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 장치
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측정하고자 하는 샘플의 소정 부위에 나노입자를 부착시키는 나노입자 부착부; 상기 나노 입자 또는 상기 나노입자의 주변에 외부 자극을 인가하는 외부 자극 인가부; 및 상기 인가된 외부 자극에 따른 상기 나노입자 또는 상기 샘플의 상기 나노입자 주변의 반응을 측정하는 반응 측정부를 포함하고, 상기 나노입자는 전기적인 다이폴 또는 전하를 띠거나 자기적인 다이폴을 띠며, 상기 외부 자극 인가부는 상기 샘플에 변화하는 전기장 또는 자기장을 인가하는 전기장 발생 장치 또는 자기장 발생 장치를 포함하고, 상기 반응 측정부는 특정 주파수를 가지는 광원을 더 포함하고, 상기 반응은 상기 전기장 또는 자기장의 변화 및 상기 특정 주파수의 광원에 따른 상기 나노입자의 회전 또는 이동으로 인한 편광 특성의 변화인 것을 특징으로 하는 물질 특성 측정 장치
22 22
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.