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분말형 탄소구조체의 정제 방법

  • 기술번호 : KST2015174828
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탄소나노튜브와 같은 분말형 탄소구조체의 비정질 불순물 제거를 위한 분말형 탄소구조체의 정제 방법에 관한 것으로서, 산소가 포함된 분위기에서 처리대상 분말형 탄소구조체에 고에너지의 전자빔을 조사하여 비정질 불순물을 제거하는 정제과정을 수행한다. 이러한 분말형 탄소구조체의 정제 방법에 의하면, 강한 산화제와 같은 화학용매를 사용하지 않으면서도 비정질 불순물을 용이하게 제거할 수 있어 산성 화공 약품에 의한 오염성 부산물이 발생되지 않고, 대량 처리가 가능하며, 수율을 높일 수 있는 장점을 제공한다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) C01B 31/02 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC C01B 32/17(2013.01) C01B 32/17(2013.01) C01B 32/17(2013.01)
출원번호/일자 1020050045693 (2005.05.30)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-0611644-0000 (2006.08.04)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20060811) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.05.30)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신관우 대한민국 광주 북구
2 이종오 대한민국 광주 북구
3 에브라힘 나자피 이란 광주 북구
4 김재용 대한민국 서울 성동구
5 이병철 대한민국 대전 유성구
6 한영환 대한민국 대전 대덕구
7 임영경 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이재량 대한민국 광주광역시 광산구 하남산단*번로 ***, *층(도천동, 광주경제고용진흥원)(가온특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2005-0286597-28
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.05.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.06.13 수리 (Accepted) 9-1-2006-0038878-46
4 등록결정서
Decision to grant
2006.07.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0418416-73
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2007.08.02 수리 (Accepted) 1-1-2007-0565347-12
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
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번호 청구항
1 1
분말형 탄소구조체에 포함된 비정질 탄소불순물을 제거하기 위한 분말형 탄소구조체의 정제방법에 있어서,산소가 포함된 분위기에서 전자빔을 처리대상 분말형 탄소구조체에 조사시키는 전자빔 조사 처리단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 분말형 탄소구조체의 정제 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 전자빔의 전자 에너지는 300keV 내지 5MeV 인 것을 특징으로 하는 분말형 탄소구조체의 정제 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 전자빔은 전자빔 전류가 10mA 내지 50mA가 되게 적용하는 것을 특징으로 하는 분말형 탄소구조체의 정제 방법
4 4
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 분말형 탄소구조체는 탄소나노튜브, 탄소섬유, 플러렌 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 분말형 탄소구조체의 정제 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 전자빔 조사 처리단계 이전 또는 이후에 상기 처리대상 분말형 탄소구조체를 산성 수용액에 처리하는 습식처리단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분말형 탄소구조체의 정제 방법
6 6
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 전자빔 조사 처리단계 이전 또는 이후에 상기 처리대상 분말형 탄소구조체를 산화기체 분위기에서 550℃ 내지 800℃로 건식처리단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분말형 탄소구조체의 정제 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.