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나노 다공성 멤브레인 및 그 제작 방법
- 기술번호 : KST2015089525
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 반도체 공정에서 이용하는 증착 기술을 이용하여 원주상 구조를 가지는 나노 다공성 멤브레인을 제작하고, 그 제작된 나노 다공성 멤브레인의 하면을 식각하거나 시드층 및 나노 비드층을 이용하여 나노 구멍의 크기를 조절함으로써, 원주상 구조를 가지는 나노 다공성 멤브레인을 제작할 때 공정 온도를 낮추고 대면화할 수 있으며 용이하게 나노 구멍 크기를 조절할 수 있다. |
|---|---|
| Int. CL | B01D 69/02 (2011.07.29) B01D 67/00 (2011.07.29) |
| CPC | |
| 출원번호/일자 | 1020110049500 (2011.05.25) |
| 출원인 | 한국전자통신연구원, 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | |
| 공개번호/일자 | 10-2012-0131379 (2012.12.05) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2016.05.25) |
| 심사청구항수 | 10 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 이대식 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 윤준보 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 3 | 최동훈 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 4 | 이병기 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 5 | 정문연 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 6 | 김승환 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 특허법인 고려 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 | |
| 2 | 한국전자통신연구원 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.05.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0391255-67 |
| 2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 3 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2013.09.05 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0811889-03 |
| 4 | [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Resignation of Agent] Report on Agent (Representative) |
2014.11.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1110948-69 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
| 9 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2016.05.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0501149-12 |
| 10 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2016.05.25 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2016-0501145-29 |
| 11 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2016.11.01 | 불수리 (Non-acceptance) | 1-1-2016-1065903-49 |
| 12 | 서류반려이유통지서 Notice of Reason for Return of Document |
2016.11.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2016-0158656-84 |
| 13 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2016.11.08 | 불수리 (Non-acceptance) | 1-1-2016-1092706-84 |
| 14 | 서류반려통지서 Notice for Return of Document |
2016.12.07 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2016-0174868-21 |
| 15 | 서류반려이유통지서 Notice of Reason for Return of Document |
2016.12.14 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2016-0178493-07 |
| 16 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2016.12.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-1235501-97 |
| 17 | [반려요청]서류반려요청(반환신청)서 [Request for Return] Request for Return of Document |
2016.12.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-1235515-25 |
| 18 | 서류반려통지서 Notice for Return of Document |
2016.12.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2016-0183206-38 |
| 19 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2017.01.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 20 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2017.08.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-6-2017-0127557-13 |
| 21 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2017.09.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2017-0615312-24 |
| 22 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2017.11.01 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2017-1082010-71 |
| 23 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2017.11.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-1082009-24 |
| 24 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2018.03.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2018-0202839-32 |
| 25 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2018.05.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2018-0506640-59 |
| 26 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2018.05.23 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2018-0506641-05 |
| 27 | 등록결정서 Decision to grant |
2018.09.14 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2018-0632311-67 |
| 28 | [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정) |
2019.02.19 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2019-5004615-50 |
| 29 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 30 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 31 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 기판 양면에 제1 보호층을 형성하는 제1 보호층 형성 단계; 상기 기판의 상면에 형성된 제1 보호층 상에 금속물질, 산화물, 질화물 및 플루오린화물 중 어느 하나의 증착 물질을 물리적 기상 증착법(PVD: Physical Vapor Deposition)을 통해 증착하여 주상 구조(Columnar Structure)의 박막을 형성하는 박막 형성 단계; 상기 박막 상에 제2 보호층을 형성하는 제2 보호층 형성 단계; 상기 기판의 하면의 일부분이 드러나도록 상기 기판의 하면에 형성된 제1 보호층을 패터닝하는 패터닝 단계; 및상기 제2 보호층을 제거하는 제2 보호층 제거 단계;를 포함하고,상기 박막 형성 단계는:상기 증착 물질의 표면 확산을 방지하여 서로 이격된 복수개의 주상 그레인들을 상기 제1 보호층 상에 수직적으로 성장시키는 것 및 상기 주상 그레인들 사이에 나노 구멍을 형성시키는 것을 포함하는 나노 다공성 멤브레인 제작 방법 |
| 2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 드러난 일부분의 기판 및 상기 기판의 상면에 형성된 제1 보호층을 식각하는 제1 보호층 식각 단계;를 더 포함하는 나노 다공성 멤브레인 제작 방법 |
| 3 |
3 제 1 항에 있어서, 상기 드러난 일부분의 기판 및 기판 상면에 형성된 제1 보호층을 식각하여 상기 나노 구멍이 형성된 박막을 드러나도록 하는 제1 보호층 식각 단계; 및 상기 드러난 일부분의 나노 구멍이 형성된 박막의 일부분을 식각하여 나노 구멍 크기를 조절하는 크기 조절 단계;를 더 포함하는 나노 다공성 멤브레인 제작방법 |
| 4 |
4 제 1 항에 있어서, 상기 박막은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 및 실리콘 카바이드 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 다공성 멤브레인 제작 방법 |
| 5 |
5 제 1 항에 있어서, 상기 박막 형성 단계에서 상기 물리적 기상 증착법은, 스퍼터링(Sputtering) 증착 방법 또는 열증착(Thermal Evaporation) 방법을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 다공성 멤브레인 제작 방법 |
| 6 |
6 삭제 |
| 7 |
7 제 1 항에 있어서, 상기 박막 형성 단계에서 상기 금속물질은, 니켈(Ni), 크롬(Cr), 코발트(Co), 철(Fe), 티탄(Ti), 백금(Pt) 및 알루미늄(Al) 중 하나 이상을 포함하고, 상기 산화물은, ITO(indium tin oxide), 산화아연(ZnO), 실리콘 산화물(SiO) 및 이산화티타늄(TiO2) 중 하나 이상을 포함하고, 상기 질화물은, 질화티타늄(TiN), 질화크롬(CrN) 및 질화나아이븀(NbN) 중 하나 이상을 포함하고, 상기 플루오린화물은, 플루오린화 칼슘(CaF2) 및 플루오린화 마그네슘(MgF2) 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 다공성 멤브레인 제작방법 |
| 8 |
8 제 1 항에 있어서, 상기 제2 보호층 형성 단계에서 제2 보호층은, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 및 실리콘 카바이드 및 전기 도금된 금, 구리, 니켈 중 하나 이상을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 다공성 멤브레인 제작방법 |
| 9 |
9 기판 양면에 제1 보호층을 형성하는 제1 보호층 형성 단계; 상기 기판의 상면에 시드층을 형성하는 단계;상기 기판의 상면에 형성된 시드층 상에 금속물질, 산화물, 질화물 및 플루오린화물 중 어느 하나의 증착 물질을 물리적 기상 증착법(PVD: Physical Vapor Deposition)을 통해 증착하여 주상 구조(Columnar Structure)의 박막을 형성하는 박막 형성 단계; 상기 박막 상에 제2 보호층을 형성하는 제2 보호층 형성 단계; 상기 기판의 하면의 일부분이 드러나도록 상기 기판의 하면에 형성된 제1 보호층을 패터닝하는 패터닝 단계; 및상기 드러난 일부분의 기판 및 기판 상면에 형성된 제1 보호층을 식각하여 상기 시드층을 드러나도록 하는 제1 보호층 식각 단계; 상기 드러난 일부분의 시드층을 식각하여 나노 구멍을 가지는 박막을 드러나게 하는 시드층 식각 단계; 및 상기 제2 보호층을 제거하는 제2 보호층 제거 단계;를 포함하고,상기 박막 형성 단계는:상기 증착 물질의 표면 확산을 방지하여 서로 이격된 복수개의 주상 그레인들을 상기 시드층 상에 수직적으로 성장시키는 것 및 상기 주상 그레인들 사이에 나노 구멍을 형성시키는 것을 포함하는 나노 다공성 멤브레인 제작 방법 |
| 10 |
10 기판 양면에 제1 보호층을 형성하는 제1 보호층 형성 단계; 상기 기판의 상면에 나노 비드층을 형성하는 단계; 상기 기판의 상면에 형성된 나노 비드층 상에 금속물질, 산화물, 질화물 및 플루오린화물 중 하나의 증착 물질을 물리적 기상 증착법을 통해 증착하여 주상 구조의 박막을 형성하는 박막 형성 단계;상기 박막 상에 제2 보호층을 형성하는 제2 보호층 형성 단계; 상기 기판의 하면의 일부분이 드러나도록 상기 기판의 하면에 형성된 제1 보호층을 패터닝하는 패터닝 단계; 상기 드러난 일부분의 기판 및 기판 상면에 형성된 제1 보호층을 식각하여 상기 나노 비드층을 드러나도록 하는 제1 보호층 식각 단계; 상기 드러난 일부분의 나노 비드층을 식각하여 나노 구멍을 가지는 박막을 드러나게 하는 나노 비드층 식각 단계; 및 상기 제2 보호층을 제거하는 제2 보호층 식각 단계를 포함하고,상기 박막 형성 단계는:상기 증착 물질의 표면 확산을 방지하여 서로 이격된 복수개의 주상 그레인들을 상기 비드층 상에 수직적으로 성장시키는 것 및 상기 주상 그레인들 사이에 나노 구멍을 형성시키는 것을 포함하는 나노 다공성 멤브레인 제작 방법 |
| 11 |
11 기판;상기 기판 양면에 형성된 제 1 보호층;및상기 기판의 상면에 형성된 제1 보호층 상에 물리적 기상 증착을 통해 형성된 주상 구조의 박막;을 포함하고,상기 기판의 하면에 형성된 제1 보호층의 일부분이 패터닝 되어 상기 기판 및상기 제1 보호층의 일부분이 식각되고,상기 박막은 서로 이격되어 수직적으로 성장되는 주상 그레인들 및 상기 주상 그레인들 사이의 나노 구멍을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 다공성 멤브레인 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US08834730 | US | 미국 | FAMILY |
| 2 | US20120298625 | US | 미국 | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US2012298625 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 2 | US8834730 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
| 등록사항 정보가 없습니다 |
|---|
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.05.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0391255-67 |
| 2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 3 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2013.09.05 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0811889-03 |
| 4 | [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2014.11.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1110948-69 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
| 9 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2016.05.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0501149-12 |
| 10 | [명세서등 보정]보정서 | 2016.05.25 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2016-0501145-29 |
| 11 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2016.11.01 | 불수리 (Non-acceptance) | 1-1-2016-1065903-49 |
| 12 | 서류반려이유통지서 | 2016.11.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2016-0158656-84 |
| 13 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2016.11.08 | 불수리 (Non-acceptance) | 1-1-2016-1092706-84 |
| 14 | 서류반려통지서 | 2016.12.07 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2016-0174868-21 |
| 15 | 서류반려이유통지서 | 2016.12.14 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2016-0178493-07 |
| 16 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2016.12.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-1235501-97 |
| 17 | [반려요청]서류반려요청(반환신청)서 | 2016.12.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-1235515-25 |
| 18 | 서류반려통지서 | 2016.12.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2016-0183206-38 |
| 19 | 선행기술조사의뢰서 | 2017.01.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 20 | 선행기술조사보고서 | 2017.08.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-6-2017-0127557-13 |
| 21 | 의견제출통지서 | 2017.09.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2017-0615312-24 |
| 22 | [명세서등 보정]보정서 | 2017.11.01 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2017-1082010-71 |
| 23 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2017.11.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-1082009-24 |
| 24 | 의견제출통지서 | 2018.03.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2018-0202839-32 |
| 25 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2018.05.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2018-0506640-59 |
| 26 | [명세서등 보정]보정서 | 2018.05.23 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2018-0506641-05 |
| 27 | 등록결정서 | 2018.09.14 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2018-0632311-67 |
| 28 | [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정) | 2019.02.19 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2019-5004615-50 |
| 29 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 30 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 31 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
특허성과
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