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커패시터리스 디램 소자
- 기술번호 : KST2014046602
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명의 커패시터리스 디램 소자는 절연층이 형성된 기판; 상기 절연층 위에 형성된 부유바디; 상기 절연층 상에 상기 부유바디를 사이에 두고 이격되어 형성된 소오스 및 드레인; 상기 부유바디 상에 형성된 절연막; 상기 절연막 상에 형성된 게이트; 및 상기 부유바디로 빛을 통과시키고 상기 부유바디 이외의 영역으로 조사되는 빛을 차단하는 금속층을 포함하며, 상기 부유바디로의 빛의 조사에 의해 프로그램 상태로 트리거된다. |
|---|---|
| Int. CL | H01L 27/115 (2006.01) H01L 21/8247 (2006.01) |
| CPC | H01L 21/28273(2013.01) H01L 21/28273(2013.01) H01L 21/28273(2013.01) H01L 21/28273(2013.01) H01L 21/28273(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020100106693 (2010.10.29) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1069559-0000 (2011.09.27) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20111005) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2010.10.29) |
| 심사청구항수 | 24 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 최양규 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 문동일 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 3 | 최성진 | 대한민국 | 대전 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김성호 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.10.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0704621-94 |
| 2 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.09.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0536735-29 |
| 3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 절연층이 형성된 기판;상기 절연층 위에 형성된 부유바디;상기 절연층 상에 상기 부유바디를 사이에 두고 이격되어 형성된 소오스 및 드레인;상기 부유바디 상에 형성된 절연막; 상기 절연막 상에 형성된 게이트; 및 상기 부유바디로 빛을 통과시키고 상기 부유바디 이외의 영역으로 조사되는 빛을 차단하는 금속층을 포함하며, 상기 부유바디로의 빛의 조사에 의해 프로그램 상태로 트리거되는 커패시터리스 디램 소자 |
| 2 |
2 제1항에 있어서, 상기 절연층은 매립된 산화물(buried oxide), 매립된 n형 우물(buried n-well), 매립된 Si:C(buried Si:C) 또는 매립된 Si:Ge(buried Si:Ge) 중 어느 하나를 포함하는 정공 배리어 물질인 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 3 |
3 제1항에 있어서, 상기 소오스 및 상기 드레인은 상기 게이트 영역과 겹치지 않도록 형성된 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 4 |
4 제1항에 있어서, 상기 소오스 및 상기 드레인은 n형 실리콘, p형 실리콘, 또는 금속실리사이드 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 5 |
5 제1항에 있어서, 상기 부유바디는 실리콘, 게르마늄, 또는 실리콘게르마늄(Si:Ge) 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 6 |
6 제1항에 있어서, 상기 게이트는 n형 폴리실리콘, p형 폴리실리콘, 투명한 전극 물질 또는 금속 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 7 |
7 제6항에 있어서, 상기 투명한 전극 물질은 ZnO, ITO, TiO2, In2O3, SnO3 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 8 |
8 제6항에 있어서, 상기 금속은 Ni, Ti, Au, Ta, W, Ag, TiN, TaN 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 9 |
9 제 1항에 있어서, 상기 부유 바디는 평면형 부유 바디, 핀(Fin)형 부유바디, 나노선(nanowire)형 부유바디, 또는 수직형 부유바디 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 10 |
10 제1항에 있어서, 상기 기판은 백 게이트(back gate)로 작용하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램소자 |
| 11 |
11 제1항에 있어서, 상기 부유바디는 핀(Fin)형 부유 바디이고, 상기 게이트는 상기 핀형 부유바디의 양 측면에 형성된 독립된 2개의 게이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램소자 |
| 12 |
12 제1항에 있어서, 상기 부유바디는 나노선(nanowire)형 부유 바디이고, 상기 게이트는 상기 나노선형 부유바디를 완전히 감싸는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램소자 |
| 13 |
13 제1항에 있어서, 상기 부유바디는 수직형 부유 바디이고, 상기 게이트는 상기 수직형 부유바디의 양 측면에 형성된 독립된 2개의 게이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램소자 |
| 14 |
14 제1항에 있어서, 상기 부유바디는 수직형 부유 바디이고, 상기 게이트는 상기 수직형 부유바디를 완전히 감싸는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램소자 |
| 15 |
15 기판 상에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층 상에 부유바디층을 형성하는 단계;상기 부유바디층 상에 절연막을 형성하는 단계;상기 절연막 상에 게이트를 형성하는 단계; 상기 부유바디층의 양 종단에 소오스 및 드레인을 형성하는 단계, 여기서 상기 소오스와 상기 드레인 사이의 상기 부유바디층에 부유바디가 정의되며; 및 상기 부유바디로 빛을 통과시키고 상기 부유바디 이외의 영역으로 조사되는 빛을 차단하는 금속층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 부유바디로의 빛의 조사에 의해 프로그램 상태로 트리거되는 커패시터리스 디램 소자의 제조 방법 |
| 16 |
16 제15항에 있어서, 상기 절연층은 매립된 산화물(buried oxide), 매립된 n형 우물(buried n-well), 매립된 Si:C(buried Si:C) 또는 매립된 Si:Ge(buried Si:Ge) 중 어느 하나를 포함하는 정공 배리어 물질인 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자의 제조 방법 |
| 17 |
17 제15항에 있어서, 상기 소오스 및 상기 드레인은 상기 게이트 영역과 겹치지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자의 제조 방법 |
| 18 |
18 제15항에 있어서, 상기 소오스 및 상기 드레인은 n형 실리콘, p형 실리콘, 또는 금속실리사이드 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자의 제조 방법 |
| 19 |
19 제15항에 있어서, 상기 부유바디는 실리콘, 게르마늄, 또는 실리콘게르마늄(Si:Ge) 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자의 제조 방법 |
| 20 |
20 제15항에 있어서, 상기 게이트는 n형 폴리실리콘, p형 폴리실리콘, 투명한 전극 물질 또는 금속 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자의 제조 방법 |
| 21 |
21 제20항에 있어서, 상기 투명한 전극 물질은 ZnO, ITO, TiO2, In2O3, SnO3 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자의 제조 방법 |
| 22 |
22 제20항에 있어서, 상기 금속은 Ni, Ti, Au, Ta, W, Ag, TiN, TaN 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터리스 디램 소자의 제조 방법 |
| 23 |
23 절연층이 형성된 기판;상기 절연층 위에 형성된 부유바디;상기 절연층 상에 상기 부유바디를 사이에 두고 이격되어 형성된 소오스 및 드레인;상기 부유바디 상에 형성된 절연막; 상기 절연막 상에 형성된 게이트; 및 상기 부유바디로 빛을 통과시키고 상기 부유바디 이외의 영역으로 조사되는 빛을 차단하는 금속층을 포함하며, 상기 부유바디로 입사되는 빛을 전기신호로 변환하는 광전변환기 |
| 24 |
24 절연층이 형성된 기판;상기 절연층 위에 형성된 부유바디;상기 절연층 상에 상기 부유바디를 사이에 두고 이격되어 형성된 소오스 및 드레인;상기 부유바디 상에 형성된 절연막; 상기 절연막 상에 형성된 게이트; 및 상기 부유바디로 빛을 통과시키고 상기 부유바디 이외의 영역으로 조사되는 빛을 차단하는 금속층을 포함하며, 상기 부유바디로의 빛의 조사에 의해 턴온되는 광학 스위치 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
| 공개전문 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1069559-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20101029 출원 번호 : 1020100106693 공고 연월일 : 20111005 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110921 청구범위의 항수 : 24 유별 : H01L 27/115 발명의 명칭 : 커패시터리스 디램 소자 및 그 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20150928 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 490,500 원 | 2011년 09월 28일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 397,600 원 | 2014년 08월 27일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.10.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0704621-94 |
| 2 | 등록결정서 | 2011.09.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0536735-29 |
| 3 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술번호 | KST2014046602 |
|---|---|
| 자료제공기관 | NTB |
| 기술공급기관 | 한국과학기술원 |
| 기술명 | 커패시터리스 디램 소자 |
| 기술개요 |
본 발명의 커패시터리스 디램 소자는 절연층이 형성된 기판; 상기 절연층 위에 형성된 부유바디; 상기 절연층 상에 상기 부유바디를 사이에 두고 이격되어 형성된 소오스 및 드레인; 상기 부유바디 상에 형성된 절연막; 상기 절연막 상에 형성된 게이트; 및 상기 부유바디로 빛을 통과시키고 상기 부유바디 이외의 영역으로 조사되는 빛을 차단하는 금속층을 포함하며, 상기 부유바디로의 빛의 조사에 의해 프로그램 상태로 트리거된다. |
| 개발상태 | 기술개발완료 |
| 기술의 우수성 | |
| 응용분야 | 전자요소 기술 |
| 시장규모 및 동향 | |
| 희망거래유형 | 기술매매,라이센스, |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1345144879 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0082583 |
| 연구과제명 | 나노원천 융합메모리 소자기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200906~201205 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1415115426 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 10035320 |
| 연구과제명 | 차세대 메모리용 3D 적층 신소자 및 핵심소재 공정기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
| 연구주관기관명 | 서울대학교산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 201003~201502 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1345120832 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0082583 |
| 연구과제명 | 나노원천 융합메모리 소자기술 개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2010 |
| 연구기간 | 200906~201205 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415107783 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 10029944 |
| 연구과제명 | 고신뢰성 3차원 NFGM 소자 개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
| 연구주관기관명 | 서울대학교산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2010 |
| 연구기간 | 200708~201107 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 개발연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
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