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볼로미터용 니켈 산화막 및 그의 제조방법, 니켈 산화막을 이용한 적외선 감지소자
- 기술번호 : KST2015119519
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 볼로미터용 니켈 산화막 및 그의 제조방법, 니켈 산화막을 이용한 적외선 감지소자에 관한 것이다. 본 발명에 따른 볼로미터용 니켈 산화막은, -3%/oC이상의 TCR과 낮은 수준의 노이즈(noise)값, 안정적이고 재현성있는 특성을 가진다. 또한, 볼로미터용 니켈 산화막을 이용한 적외선 감지소자의 제작에 적용될 수 있다. 니켈 산화막, 열처리, TCR, 1/f 노이즈, 볼로미터 |
|---|---|
| Int. CL | H01L 31/09 (2006.01) |
| CPC | |
| 출원번호/일자 | 1020080135149 (2008.12.29) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1078208-0000 (2011.10.25) |
| 공개번호/일자 | 10-2010-0077251 (2010.07.08) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20111101) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2008.12.29) |
| 심사청구항수 | 24 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 이희철 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 김동수 | 대한민국 | 경기도 이천시 |
| 3 | 이용수 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김성호 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.12.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0895715-52 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.03.04 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.04.16 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0025094-92 |
| 4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2010.08.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0346867-56 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.09.03 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0573005-49 |
| 6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2010.09.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0573000-11 |
| 7 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.02.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0092975-88 |
| 8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.03.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0173666-61 |
| 9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.03.10 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0173668-52 |
| 10 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.10.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0600569-82 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 NiOx, Ni1-yO, Ni2O3, Ni(OH)2, NiSiO3, NiSiO4 중 적어도 어느 하나를 포함하고, x는 1≤x≤20, y는 0≤y≤0 |
| 2 |
2 삭제 |
| 3 |
3 제1항에 의한 볼로미터용 니켈 산화막을 제조하는 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법이고, 기판 상에 니켈을 증착하는 제1 단계; 및 상기 니켈이 증착된 기판을 산소분위기에서 설정된 시간동안 300℃ 내지 450℃의 온도로 열처리하여 니켈 산화막을 형성하는 제2 단계를 포함하는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 4 |
4 삭제 |
| 5 |
5 제3항에 있어서, 상기 제1단계에서는, 상기 니켈은 10nm 내지 200nm의 두께로 증착되는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 6 |
6 제3항에 있어서, 상기 제1 단계에서는, 상기 니켈은 DC 스퍼터, rf 스퍼터, 에버퍼레이터(evaporator), MOCVD 중 어느 하나를 이용하는 방법으로 증착되는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 7 |
7 제6항에 있어서, 상기 DC 스퍼터 및 rf 스퍼터는, 아르곤(Ar), 질소(N2) 플라즈마를 이용하는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 8 |
8 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 DC 스퍼터 및 rf 스퍼터의 스퍼터 타겟과 에버퍼레이터(evaporator)의 타겟은 니켈(Ni)을 이용하는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 9 |
9 제3항에 있어서, 상기 제2 단계에서는, 상기 니켈 산화막의 조성비는, 열처리 온도, 열처리 시간, 산소분위기 정도를 변화시켜 조절하는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 10 |
10 삭제 |
| 11 |
11 제1항에 의한 볼로미터용 니켈 산화막을 제조하는 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법이고, 기판 상에 니켈 산화막을 95nm 내지 105nm의 두께로 증착하는 제1 단계; 및 상기 니켈 산화막이 증착된 기판을 질소 또는 산소분위기에서 설정된 시간동안 열처리하는 제2 단계를 포함하는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 12 |
12 삭제 |
| 13 |
13 삭제 |
| 14 |
14 제11항에 있어서, 상기 제1 단계에서는, 상기 니켈 산화막은 DC 스퍼터, rf 스퍼터, 에버퍼레이터(evaporator), MOCVD 중 어느 하나를 이용하는 방법으로 증착되는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 15 |
15 제14항에 있어서, 상기 DC 스퍼터 및 rf 스퍼터는, 아르곤(Ar), 산소(O2), 질소(N2) 플라즈마나 질소(N2) 와 산소(O2) 및 아르곤(Ar) 과 산소(O2)를 혼합한 플라즈마를 이용하는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 16 |
16 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 DC 스퍼터 및 rf 스퍼터의 스퍼터 타겟과 에버퍼레이터(evaporator)의 타겟은 니켈(Ni)이나 니켈(Ni) 산화막을 이용하는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 17 |
17 제11항에 있어서, 상기 제1 단계에서는, 상기 니켈 산화막의 조성비는, DC 스퍼터 및 r |
| 18 |
18 제11항에 있어서, 상기 제2 단계에서는, 상기 니켈 산화막의 조성비는, 열처리 온도, 열처리 시간, 질소(N2)나 산소(O2)분위기 정도를 변화시켜 조절하는, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 19 |
19 제11항에 있어서, 상기 제2 단계에서는, 상기 열처리하는 온도는 50℃ 내지 450℃인, 볼로미터용 니켈 산화막 제조방법 |
| 20 |
20 볼로미터를 포함하는 적외선 감지소자이고, 상기 볼로미터는, NiOx, Ni1-yO, Ni2O3, Ni(OH)2, NiSiO3, NiSiO4 중 적어도 어느 하나를 포함하고 있고 95nm 내지 105nm의 두께를 가지는 니켈 산화막을 포함하고, x는 1≤x≤20, y는 0≤y≤0 |
| 21 |
21 삭제 |
| 22 |
22 제20항에 있어서, 상기 니켈 산화막은 질소(N2)나 산소(O2)분위기에서 50℃ 내지 450℃의 온도에서 열처리하여 형성된, 적외선 감지소자 |
| 23 |
23 제20항에 있어서, 상기 니켈 산화막은 DC 스퍼터, rf 스퍼터, 에버퍼레이터(evaporator), MOCVD 중 어느 하나를 이용하여 증착되는, 적외선 감지소자 |
| 24 |
24 제23항에 있어서, 상기 DC 스퍼터 및 rf 스퍼터는, 아르곤(Ar), 산소(O2), 질소(N2) 플라즈마나 질소(N2) 와 산소(O2) 및 아르곤(Ar) 과 산소(O2)를 혼합한 플라즈마를 이용하는, 적외선 감지소자 |
| 25 |
25 제23항 또는 제24항에 있어서, 상기 DC 스퍼터 및 rf 스퍼터의 스퍼터 타겟과 에버퍼레이터(evaporator)의 타겟은 니켈(Ni) 또는 니켈(Ni) 산화막을 이용하는, 적외선 감지소자 |
| 26 |
26 제20항에 있어서, 상기 니켈 산화막의 조성비는, DC 스퍼터 및 r |
| 27 |
27 삭제 |
| 28 |
28 제20항에 있어서, 상기 니켈은 DC 스퍼터, rf 스퍼터, 에버퍼레이터(evaporator), MOCVD 중 어느 하나를 이용하여 증착되는, 적외선 감지소자 |
| 29 |
29 제28항에 있어서, 상기 DC 스퍼터 및 rf 스퍼터는, 아르곤(Ar), 질소(N2) 플라즈마를 이용하는, 적외선 감지소자 |
| 30 |
30 제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 DC 스퍼터 및 rf 스퍼터의 스퍼터 타겟과 에버퍼레이터(evaporator)의 타겟은 니켈(Ni)을 이용하는, 적외선 감지소자 |
| 31 |
31 제20항에 있어서, 상기 니켈 산화막의 조성비는, 열처리 온도, 열처리 시간, 산소분위기 정도를 변화시켜 조절하는, 적외선 감지소자 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US08173280 | US | 미국 | FAMILY |
| 2 | US20100167037 | US | 미국 | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US2010167037 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 2 | US8173280 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1078208-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20081229 출원 번호 : 1020080135149 공고 연월일 : 20111101 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20111018 청구범위의 항수 : 24 유별 : H01L 31/09 발명의 명칭 : 볼로미터용 니켈 산화막 및 그의 제조방법, 니켈 산화막을 이용한 적외선 감지소자 존속기간(예정)만료일 : 20171026 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 490,500 원 | 2011년 10월 26일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 397,600 원 | 2014년 09월 30일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 397,600 원 | 2015년 10월 02일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 397,600 원 | 2016년 10월 17일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.12.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0895715-52 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.03.04 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2010.04.16 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0025094-92 |
| 4 | 의견제출통지서 | 2010.08.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0346867-56 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.09.03 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0573005-49 |
| 6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2010.09.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0573000-11 |
| 7 | 의견제출통지서 | 2011.02.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0092975-88 |
| 8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.03.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0173666-61 |
| 9 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.03.10 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0173668-52 |
| 10 | 등록결정서 | 2011.10.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0600569-82 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 17 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
특허성과
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