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커패시터리스 디램 소자
- 기술번호 : KST2015113631
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 반도체 메모리 소자 등에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 커패시터리스 디램 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 커패시터리스 디램은 일함수가 큰 게이트 전극을 이용한다. 이를 통해 낮은 전압으로 게이트 유도 드레인 누설전류(Gate Induced Drain Leakage)를 발생시켜 메모리의 상태를 구분한다. 낮은 전압 구동을 통해 전력 소모를 줄일 수 있을 뿐만 아니라 상태 검출 여유 또한 증가한다. 커패시터리스 디램(Capacitorless 1-T DRAM), 큰 일함수 게이트, 게이트 유도 드레인 누설전류(Gate Induced Drain Leakage), 핀(fin) 구조 부유 바디 |
|---|---|
| Int. CL | H01L 27/108 (2006.01) H01L 27/10 (2006.01) |
| CPC | H01L 27/10802(2013.01) H01L 27/10802(2013.01) H01L 27/10802(2013.01) H01L 27/10802(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020090041183 (2009.05.12) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1064229-0000 (2011.09.05) |
| 공개번호/일자 | 10-2010-0122243 (2010.11.22) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20110914) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2009.05.12) |
| 심사청구항수 | 9 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 최양규 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 문동일 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 3 | 한진우 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 4 | 최성진 | 대한민국 | 대전 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김성호 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.05.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0283332-71 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.05.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.06.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0038824-19 |
| 4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.02.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0074341-30 |
| 5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0257825-72 |
| 6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.04.08 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0257824-26 |
| 7 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.08.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0490430-42 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 기판 상에 형성된 정공 배리어 물질을 포함한 기판; 상기 정공 배리어 물질 상에 형성된 부유 바디; 상기 부유 바디 좌우에 형성된 소오스와 드레인; 및 상기 부유 바디 표면상에 형성된 게이트구조체를 포함하고, 상기 소오스와 드레인은 N형 도펀트가 도핑되어 형성되고, 상기 게이트구조체는 P형 폴리실리콘인, 커패시터리스 디램 소자 |
| 2 |
2 제 1항에 있어서, 정공 배리어 물질은 매립된 산화물(buried oxide), 매립된 n형 우물(buried n-well), 매립된 Si:C(buried Si:C) 또는 매립된 Si:Ge(buried Si:Ge) 중 어느 하나로 이루어진 커패시터리스 디램 소자 |
| 3 |
3 제 1항에 있어서, 상기 기판은 P형 실리콘 기판이고, 상기 게이트구조체는 상기 기판보다 도펀트의 농도가 높은 P형 폴리실리콘인, 커패시터리스 디램 소자 |
| 4 |
4 제 1항에 있어서, 부유 바디는 평면형 부유 바디로 이루어진 커패시터리스 디램 소자 |
| 5 |
5 제 1항에 있어서, 부유 바디는 핀(Fin)형 부유 바디로 이루어진 커패시터리스 디램 소자 |
| 6 |
6 제 4항에 있어서, 상기 평면형 부유 바디 하부의 기판은 백 게이트(back gate)로 작용하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 7 |
7 제 5항에 있어서, 상기 핀(Fin)형 부유 바디의 좌측과 우측에 형성된 독립된 2개의 게이트를 더 포함하는 커패시터리스 디램 소자 |
| 8 |
8 기판 상에 형성된 정공 배리어 물질을 포함한 기판; 상기 정공 배리어 물질 상에 형성된 부유 바디; 상기 부유 바디 좌우에 형성된 소오스와 드레인; 및 상기 부유 바디 표면상에 형성된 게이트구조체를 포함하고, 상기 소오스와 드레인은 N형 도펀트가 도핑되어 형성되며, 상기 게이트구조체는 금속인, 커패시터리스 디램 소자 |
| 9 |
9 제 8항에 있어서, 상기 금속은 Ni, Ti, Au, Ta, W, Ag, TiN, TaN 중 어느 하나로 이루어진 커패시터리스 디램 소자 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1064229-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20090512 출원 번호 : 1020090041183 공고 연월일 : 20110914 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110830 청구범위의 항수 : 9 유별 : H01L 27/108 발명의 명칭 : 커패시터리스 디램 소자 존속기간(예정)만료일 : 20150906 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 198,000 원 | 2011년 09월 06일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 166,600 원 | 2014년 08월 27일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.05.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0283332-71 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.05.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2010.06.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0038824-19 |
| 4 | 의견제출통지서 | 2011.02.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0074341-30 |
| 5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0257825-72 |
| 6 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.04.08 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0257824-26 |
| 7 | 등록결정서 | 2011.08.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0490430-42 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345144879 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0082583 |
| 연구과제명 | 나노원천 융합메모리 소자기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200906~201205 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1345097648 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 과C6A1611 |
| 연구과제명 | 전자통신기술사업단 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200603~201302 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
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