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필기 입력 장치와 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014047268
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 입력 장치가 개시된다. 상기 입력 장치는 제1도선에 접속된 제1접속 단자와 제2도선에 접속된 제2 접속단자를 포함하는 PCB와, 상기 PCB의 상부에 노출된 상기 제1접속 단자와 상기 제2접속 단자 사이에 형성된 평탄화 층과, 상기 평탄화 층의 상부에 형성되고 상기 제1접속 단자의 일부와 상기 제2접속 단자의 일부를 접속하기 위한 도체 박막을 포함한다.
Int. CL G06F 3/047 (2013.01) G06F 3/041 (2013.01) G06F 3/0354 (2013.01)
CPC G06F 3/041(2013.01) G06F 3/041(2013.01) G06F 3/041(2013.01) G06F 3/041(2013.01)
출원번호/일자 1020100007219 (2010.01.27)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1049770-0000 (2011.07.11)
공개번호/일자 10-2011-0079412 (2011.07.07) 문서열기
공고번호/일자 (20110719) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020090135394   |   2009.12.31
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.02.22)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정성관 대한민국 대전광역시 유성구
2 김상식 대한민국 대전광역시 대덕구
3 장진혁 대한민국 대전광역시 서구
4 이원겸 대한민국 경기도 고양시 일산서구
5 신재규 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한지희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** 한국지식재산센터 *층 (공익변리사 특허상담센터)(한국지식재산보호원)
2 권영규 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *** (역삼동, 재승빌딩 *층)(프라임특허법률사무소)
3 윤재석 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 **(서초동) *층(정석국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2010-0055029-28
2 보정요구서
Request for Amendment
2010.02.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0011916-85
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2010.02.19 수리 (Accepted) 1-1-2010-0108830-16
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.02.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0114372-92
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2010.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2010-0862252-11
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.04.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.05.20 수리 (Accepted) 9-1-2011-0045431-89
8 등록결정서
Decision to grant
2011.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0363160-74
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1도선에 접속된 제1접속 단자와 제2도선에 접속된 제2 접속단자를 포함하는 PCB;상기 PCB의 상부에 노출된 상기 제1접속 단자와 상기 제2접속 단자 사이에 형성된 평탄화 층; 및상기 평탄화 층의 상부에 형성되고 상기 제1접속 단자의 일부와 상기 제2접속 단자의 일부를 접속하기 위한 도체 박막을 포함하는 입력 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 제1도선과 상기 제2도선은 상기 PCB 내의 동일한 층 또는 서로 다른 층에 형성되는 입력 장치
3 3
제1항에 있어서, 상기 평탄화 층은 절연 물질 또는 코팅 물질인 입력 장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 입력 장치는 전자 메모지인 입력 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 입력 장치는,상기 PCB의 내부에 형성된 상기 제1도선으로 동작 신호를 공급하기 위한 신호 공급 회로; 및상기 PCB의 내부에 형성된 상기 제2도선으로부터 출력되는 신호를 감지하기 위한 신호 감지 회로를 더 포함하는 입력 장치
6 6
제5항에 있어서, 상기 입력 장치는,상기 입력 장치의 동작을 제어하기 위한 프로세서; 및상기 감지 회로의 출력 신호를 무선 신호로 변환하고 무선 신호를 리더로 전송하기 위한 무선 인터페이스를 더 포함하는 입력 장치
7 7
PCB 내부에 제1도선과 제2도선을 형성하는 단계;제1접속 단자를 상기 제1도선과 접속시키고 제2접속 단자를 상기 제2도선과 접속시키는 단계;평탄화 물질을 이용하여 상기 PCB의 상부에 노출된 상기 제1접속 단자의 일부와 상기 제2접속 단자의 일부 사이를 평탄화하는 단계; 및도체 박막을 이용하여 상기 제1접속 단자의 일부와 상기 제2접속 단자의 일부를 전기적으로 접속하는 단계를 포함하는 입력 장치 제조 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 PCB 내부에 제1도선과 제2도선을 형성하는 단계는 동일한 층 또는 서로 다른 층에 상기 제1도선과 상기 제2도선을 형성하는 입력 장치 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 KAIST 산업원천기술개발사업 무전원/저전력 통신 기술 및 입출력 장치 개발