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태양전지용 금속 그리드 라인 형성 방법
- 기술번호 : KST2014047236
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 인쇄법 혹은 포토리소그라피 공정을 통해 금속 그리드 라인을 제조할 경우 발생하는 금속 그리드 라인의 가장자리에서의 패턴 들뜸 현상을 방지하고 표면의 접촉면의 품질을 향상시키는 고정밀 태양전지용 금속그리드 라인 형성 방법에 관한 것이다. |
|---|---|
| Int. CL | H01L 31/18 (2014.01) H01L 31/04 (2014.01) H01L 31/0224 (2014.01) |
| CPC | H01L 31/022433(2013.01) H01L 31/022433(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020110019499 (2011.03.04) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1115399-0000 (2012.02.06) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20120215) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2011.03.04) |
| 심사청구항수 | 6 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 안성일 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 최경철 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 3 | 이성의 | 대한민국 | 경기도 성남시 분당구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 특허법인충정 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.03.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0158725-60 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2011.12.19 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2012.01.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0005536-82 |
| 4 | 등록결정서 Decision to grant |
2012.01.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0058923-62 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 p형 반도체와 n형 반도체를 포함하는 구조물의 하부에 후면전극이 형성된 기판 상에 인쇄법을 이용하여 감광성 전극 페이스트로 예정 금속 그리드 라인을 형성하는 단계; 및상기 예정 금속 그리드 라인을 감광 물질로 이용하여 포토리소그래피 공정으로 상기 예정 금속 그리드 라인에 대응되는 목표 금속 그리드 라인을 형성하되, 상기 예정 금속 그리드 라인 보다 폭이 작은 상기 목표 금속 그리드 라인을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 방법 |
| 2 |
2 p형 반도체와 n형 반도체를 포함하는 구조물의 하부에 후면전극이 형성된 기판 상에 인쇄법을 이용하여 예정 금속 그리드 라인을 형성하는 단계; 및포토레지스트를 이용한 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 상기 예정 금속 그리드 라인에 대응되는 목표 금속 그리드 라인을 형성하되, 상기 예정 금속 그리드 라인 보다 폭이 작은 상기 목표 금속 그리드 라인을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 방법 |
| 3 |
3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 예정 금속 그리드 라인의 폭은 상기 목표 금속 그리드 라인의 폭 보다 100㎛ 내지 200㎛ 더 큰 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 방법 |
| 4 |
4 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 인쇄법은 스크린 인쇄법 또는 잉크젯 인쇄법인 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 방법 |
| 5 |
5 p형 반도체와 n형 반도체를 포함하는 구조물의 하부에 후면전극을 포함하고, 상기 구조물의 상부에 형성된 금속 그리드 라인을 포함하며,상기 금속 그리드 라인은, 상기 구조물의 상부에 인쇄법을 이용하여 감광성 전극 페이스트로 예정 금속 그리드 라인을 형성한 후, 상기 예정 금속 그리드 라인을 감광 물질로 이용하여 포토리소그래피 공정으로 상기 예정 금속 그리드 라인 보다 폭이 작게 형성된 금속 전극인 것을 특징으로 하는 태양 전지 |
| 6 |
6 p형 반도체와 n형 반도체를 포함하는 구조물의 하부에 후면전극을 포함하고, 상기 구조물의 상부에 형성된 금속 그리드 라인을 포함하며,상기 금속 그리드 라인은, 상기 구조물의 상부에 인쇄법을 이용하여 예정 금속 그리드 라인을 형성한 후, 포토레지스트를 이용한 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 상기 예정 금속 그리드 라인 보다 폭이 작게 형성된 금속 전극인 것을 특징으로 하는 태양 전지 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
| 공개전문 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1115399-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20110304 출원 번호 : 1020110019499 공고 연월일 : 20120215 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20120131 청구범위의 항수 : 6 유별 : H01L 31/042 발명의 명칭 : 태양전지용 금속 그리드 라인 형성 방법 존속기간(예정)만료일 : 20200207 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 139,500 원 | 2012년 02월 07일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 120,400 원 | 2015년 01월 27일 | 납입 |
| 제 5 - 7 년분 | 금 액 | 540,360 원 | 2016년 01월 28일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 164,000 원 | 2019년 02월 01일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.03.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0158725-60 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2011.12.19 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2012.01.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0005536-82 |
| 4 | 등록결정서 | 2012.01.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0058923-62 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술번호 | KST2014047236 |
|---|---|
| 자료제공기관 | NTB |
| 기술공급기관 | 한국과학기술원 |
| 기술명 | 태양전지용 금속 그리드 라인 형성 방법 |
| 기술개요 |
본 발명은 인쇄법 혹은 포토리소그라피 공정을 통해 금속 그리드 라인을 제조할 경우 발생하는 금속 그리드 라인의 가장자리에서의 패턴 들뜸 현상을 방지하고 표면의 접촉면의 품질을 향상시키는 고정밀 태양전지용 금속그리드 라인 형성 방법에 관한 것이다. |
| 개발상태 | 기술개발완료 |
| 기술의 우수성 | |
| 응용분야 | 전지 제조 공정 기술 |
| 시장규모 및 동향 | |
| 희망거래유형 | 기술매매,라이센스, |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1345150586 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2010-0009890 |
| 연구과제명 | 플렉시블 디스플레이 소자의 신뢰성 및 투명도 향상 기술 연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200709~201602 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1345156758 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0073187 |
| 연구과제명 | DAS 방법을 이용한 전자재료의 합성과 응용 연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 신라대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200905~201204 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
특허성과
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