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고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정방법
- 기술번호 : KST2015114596
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정방법에 관한 것으로서, 반도체 기판 상부에 상호 접속되도록 제작된 p형 오믹 금속층 또는 n형 오믹 금속층를 증착하며, p형 오믹 금속층 또는 n형 오믹 금속층 상부에 증작한 제1 기둥(pole)이 외기에 노출되도록 제1 유전막을 도포하는 (a) 단계와, 제1 유전막 상부로 노출된 p형 오믹 금속층 또는 n형 오믹 금속층 및 제1 기둥(pole) 상부에 제1 금속을 증착하고, 제1 금속 및 제1 유전막 상부에 도포함과 아울러 제1 금속이 외기에 노출되도록 절연물질에 via-hole을 형성하여 제1 금속 및 절연물질 상부에 제2 금속을 증착하는 (b) 단계, 및 제2 금속 상부에 제2 기둥(pole)을 증착시킴과 아울러 제2 기둥(pole)이 외기에 노출되도록 절연물질 및 제2 금속 상부로 제2 유전막을 도포하고, 제2 기둥(pole) 상부에 마이크로스트립라인(microstrip-lin,) 및 스파이럴 인덕터를 포함하는 신호선(signal line)을 증착하는 (c) 단계를 포함한다. 유전막, 다층구조, 능동소자, 공정 |
|---|---|
| Int. CL | H01L 27/06 (2006.01) |
| CPC | H01L 27/06(2013.01) H01L 27/06(2013.01) H01L 27/06(2013.01) H01L 27/06(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020090062888 (2009.07.10) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1042266-0000 (2011.06.10) |
| 공개번호/일자 | 10-2011-0005381 (2011.01.18) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20110617) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2009.07.10) |
| 심사청구항수 | 8 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 양경훈 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 김문호 | 대한민국 | 서울특별시 중랑구 |
| 3 | 양정길 | 대한민국 | 경기도 안양시 만안구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 이은철 | 대한민국 | 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소) |
| 2 | 유완식 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, **층 *T 국제특허법률사무소 (역삼동, 여삼빌딩)(*T국제특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.07.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0420261-53 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.12.22 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2011.01.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0002303-02 |
| 4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.01.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0040440-11 |
| 5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.02.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0107089-45 |
| 6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.02.15 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0107090-92 |
| 7 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.05.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0293992-68 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법에 있어서, 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법에 있어서, (a) 갈륨비소(GaAs), 인듐인(InP) 또는 실리콘 게르마늄(SiGe) 중에 어느 하나로 구성되는 반도체 기판(105, 303)을 구비하는 단계; (b) 금속증착을 통해 상기 반도체 기판(105, 303) 상부에 p형 오믹 금속층(101, 301)과 n형 오믹 금속층(102, 302)을 증착하고, 습식식각을 통해 순수 반도체층(103)을 외기에 노출시킴과 아울러 상기 반도체 기판(105, 303) 상부에 저항(TFR: Thin Film Resistor)(104, 305)을 증착하는 단계; (c) 상기 반도체 기판(105, 303) 상부에 제1 기둥(pole, 106, 302, 306)과의 접속을 위한 접지면(107, 304)을 증착하고, 상기 접지면(107, 304) 상부에 상기 제1 기둥(pole, 106, 302, 306)을 증착함과 아울러 n형 오믹 금속층(102, 302) 상부에 제1 기둥(pole, 106, 302, 306)을 증착하는 단계; (d) 상기 제1 기둥(pole, 106, 302, 306)이 외기에 노출되도록 반도체 기판(105, 303) 상부로 제1 유전막(108, 307)을 도포하는 단계; (e) 상기 제1 유전막(108, 307) 상부로 노출된 상기 p형 오믹 금속층(101, 301) 또는 n형 오믹 금속층(102, 302) 및 제1 기둥(pole, 106, 302, 306) 상부에 제1 금속(201, 308)을 증착하고, 상기 제1 금속(201, 308) 및 제1 유전막(108, 307) 상부에 도포하되, 상기 제1 금속(201, 308)이 외기에 노출되도록 절연물질(SiNx, 202, 309)에 via-hole을 형성하여 상기 제1 금속(201, 308) 및 절연물질(SiNx, 202, 309) 상부에 제2 금속(204, 310)을 증착하는 단계; 및 (f) 상기 제2 금속 상부에 제2 기둥(pole, 311)을 증착시킴과 아울러 상기 제2 기둥(pole, 311)이 외기에 노출되도록 상기 절연물질(SiNx, 202, 309) 및 제2 금속(204, 310) 상부로 제2 유전막(312)을 도포하고, 상기 제2 기둥(pole, 311) 상부에 마이크로스트립라인(microstrip-lin, 313) 및 스파이럴 인덕터(314)를 포함하는 신호선(signal line)을 증착하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법 |
| 2 |
2 삭제 |
| 3 |
3 제 1 항에 있어서, 습식식각을 통해 노출된 순수 반도체층(103)과, 반도체 기판(105, 303) 상부에 증착된 p형 오믹 금속층(101, 301) 및 n형 오믹 금속층(102, 302)의 구성을 통해 고주파용 PIN 다이오드의 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법 |
| 4 |
4 제 1 항에 있어서, 상기 (e) 단계는, (e-1) 제1 유전막(108, 307) 상부로 노출된 p형 오믹 금속층(101, 301) 및 제1 기둥(pole, 106, 302, 306) 상부에 MIM(Metal-Insulator-Metal) 구조의 커패시터 구성을 위한 제1 금속(201, 308)을 증착하는 단계; (e-2) 상기 제1 금속(201, 308) 및 제1 유전막(108, 307) 상부에 절연물질(SiNx, 202, 309)을 도포하고, 상기 제1 금속(201, 308)이 외기에 노출되도록 절연물질(SiNx, 202, 309)의 소정부위에 via-hole(203)을 형성하는 단계; 및 (e-3) 상기 via-hole(203)을 통해 외기에 노출된 상기 제1 금속(201, 308) 및 절연물질(SiNx, 202, 309) 상부에 제2 금속(204, 310)을 증착하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법 |
| 5 |
5 제 1 항에 있어서, 상기 (f) 단계는, (f-1) p형 오믹 금속층(101, 301) 및 제1 기둥(pole, 106, 302, 306) 상부에 각각 증착된 제1 금속(201, 308)과 증착을 통해 접속된 제2 금속(204, 310)의 상부에 제2 기둥(pole, 311)을 증착하는 단계; (f-2) 상기 제2 기둥(pole, 311)이 외기에 노출되도록 절연물질(SiNx, 202, 309) 및 제2 금속(204, 310) 상부로 제2 유전막(312)을 도포하는 단계; 및 (f-3) 상기 제2 기둥(pole, 311) 상부에 마이크로스트립라인(microstrip-lin, 313) 및 스파이럴 인덕터(314)를 포함하는 신호선(signal line)을 증착하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법 |
| 6 |
6 제 1 항에 있어서, 상기 제1 유전막 및 제2 유전막은, 소자들간의 커플링현상을 방지하기 위해 유전상수가 낮은 BCB(Benzo Cyclo Butene) 또는 polyimide 중에 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법 |
| 7 |
7 제 5 항에 있어서, 상기 신호선은, 그 하단에 증착된 제2 기둥(pole, 311)으로부터 상기 제2 금속(204, 310) 및 제1 금속(201, 308)과 접지되는 경우, 제1 금속(201, 308), 절연물질(309) 및 제2 금속(204, 310)이 순차적으로 적층된 스파이럴 구성에 의해 인덕터(314)의 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법 |
| 8 |
8 제 5 항에 있어서, 상기 신호선은, 그 하단에 제2 기둥(pole, 311)을 제외한 반도체 기판(105, 303) 상부에 증착된 접지면(107, 304)과 수직을 이루는 경우, 마이크로스트립라인의 기능을 수행 하는 것을 특징으로 하는 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법 |
| 9 |
9 제 5 항에 있어서, RF 신호가 상기 신호선의 마이크로스트립라인을 통과할 경우, 최소한의 삽입 손실을 얻기 위해 상기 신호선의 특성저항(characteristic impedance)을 50Ω으로 적용하고, 이에 따라 접지면(107, 304)과 상기 신호선의 거리 및 상기 신호선의 너비가 가변되는 것을 특징으로 하는 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정 방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1042266-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20090710 출원 번호 : 1020090062888 공고 연월일 : 20110617 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110531 청구범위의 항수 : 8 유별 : H01L 27/06 발명의 명칭 : 고주파 단일 집적회로 제작을 위한 다층구조 공정방법 존속기간(예정)만료일 : 20150611 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 178,500 원 | 2011년 06월 13일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 216,000 원 | 2014년 05월 21일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.07.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0420261-53 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.12.22 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2011.01.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0002303-02 |
| 4 | 의견제출통지서 | 2011.01.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0040440-11 |
| 5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.02.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0107089-45 |
| 6 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.02.15 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0107090-92 |
| 7 | 등록결정서 | 2011.05.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0293992-68 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1345097648 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 과C6A1611 |
| 연구과제명 | 전자통신기술사업단 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200603~201302 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
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