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집적형 박막 태양전지 및 그의 제조 방법
- 기술번호 : KST2015113491
- 담당센터 :
- 전화번호 :
| 요약 | 본 발명의 집적형 박막 태양전지의 제조 방법은 소정간격 이격된 트렌치들과, 상기 인접한 트렌치들 사이에 위치한 홈이 형성된 기판을 준비하는 단계, 상기 트렌치들 각각의 밑면 일부 및 일측면에 제1 도전성 물질을 일측으로부터 비스듬히 증착하여 제1 전극층을 형성하는 단계, 상기 기판 및 상기 제1 전극층 상에 태양전지층을 형성하는 단계, 상기 태양전지층상에 제2 도전성물질을 상기 일측의 맞은 편 타측으로부터 비스듬히 증착하여 제2 전극층을 형성하는 단계, 상기 제1 전극층이 노출되도록 상기 트렌치들에 형성된 태양전지층을 식각하고, 상기 홈들에 형성된 태양전지층을 식각하는 단계 및 상기 노출된 제1 전극층과 상기 제2 전극층이 전기적으로 연결되도록 제3 도전성 물질을 상기 제2 전극층 상에 비스듬히 증착하여 도전층을 형성하는 단계를 포함한다. 트렌치, 집적화, 박막 태양전지, 투명전극, 증착 |
|---|---|
| Int. CL | H01L 31/0445 (2014.01) |
| CPC | |
| 출원번호/일자 | 1020090045804 (2009.05.26) |
| 출원인 | 한국철강 주식회사, 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1028971-0000 (2011.04.06) |
| 공개번호/일자 | 10-2010-0127381 (2010.12.06) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20110419) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2009.05.26) |
| 심사청구항수 | 38 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국철강 주식회사 | 대한민국 | 경상남도 창원시 성산구 |
| 2 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 임굉수 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 전진완 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김성호 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국철강 주식회사 | 대한민국 | 경상남도 창원시 성산구 |
| 2 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0314873-76 |
| 2 | 보정요구서 Request for Amendment |
2009.06.08 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2009-0037376-14 |
| 3 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2009.07.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0416629-12 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2009.08.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150204-36 |
| 5 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2009.08.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0484563-14 |
| 6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2009.09.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0552729-25 |
| 7 | [출원인변경]권리관계변경신고서 [Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status |
2009.09.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0569708-64 |
| 8 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2009.10.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0612825-07 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2010.08.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2010-5148637-13 |
| 10 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.11.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 11 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.12.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0075551-62 |
| 12 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.01.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0040319-05 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 19 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 소정간격 이격된 트렌치들이 형성된 기판을 준비하는 단계; 상기 트렌치들 각각의 밑면 일부 및 일측면에 제1 도전성물질로 제1 전극층을 형성하는 단계; 상기 제1 전극층이 형성되지 않은 트렌치의 일부분 및 상기 제1 전극층 상에 태양전지층을 형성하는 단계; 상기 태양전지층상에 제2 도전성물질을 비스듬히 증착하여 제2 전극층을 형성하는 단계; 상기 제1 전극층이 노출되도록 상기 트렌치들에 형성된 태양전지층을 식각하는 단계; 및 상기 노출된 제1 전극층과 상기 제2 전극층이 전기적으로 연결되도록 제3 도전성 물질을 상기 제2 전극층 상에 비스듬히 증착하여 도전층을 형성하는 단계를 포함하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 2 |
2 제1항에 있어서, 상기 제1 전극층은 상기 트렌치에 인접한 기판 표면 상에 형성된 별도의 전극층과 연결되는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 3 |
3 제2항에 있어서, 상기 별도의 전극층은 프린팅법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 4 |
4 제2항에 있어서, 상기 제1 전극층의 저항은 상기 별도의 전극층의 저항보다 작은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 5 |
5 제1항에 있어서, 상기 제2 전극층을 마스크로 사용하여 상기 태양전지층을 식각하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 6 |
6 제1항에 있어서, 상기 트렌치의 밑면과 일측면이 이루는 각도는 90°보다 큰 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 7 |
7 제1항에 있어서, 상기 태양전지층을 식각한 후 상기 트렌치와 인접한 또다른 트렌치 상에 절연물질을 매립하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 8 |
8 제7항에 있어서, 상기 태양전지층 내부에 제4 도전성 물질로 형성된 중간층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 9 |
9 제1항에 있어서, 상기 트렌치들 중 하나 이상의 트렌치들에 도전성 페이스트가 매립되는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 10 |
10 제1항에 있어서, 상기 트렌치들 중 서로 인접한 일부 트렌치들에 도전성 페이스트가 매립되며, 상기 도전성 페이스트가 매립되는 트렌치들 사이의 거리는 태양전지 영역의 트렌치들 사이의 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 11 |
11 제1항에 있어서, 상기 트렌치들은 일 방향으로 기울어진 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 12 |
12 제1항에 있어서, 상기 기판은 유리기판이나 폴리머기판 또는 나노 복합체 기판 중 어느 하나이며, 상기 유리기판, 상기 폴리머기판 또는 상기 나노 복합체 기판을 용융시킨 상태에서, 상기 유리기판이나 상기 폴리머기판 또는 상기 나노 복합체 기판 등이 굳기 전에 엠보싱 가공으로 상기 트렌치를 형성하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 13 |
13 제1항에 있어서, 상기 기판은 유리기판이나 폴리머기판 또는 나노 복합체 기판 중 어느 하나이며, 상기 유리기판이나 폴리머기판 또는 나노 복합체 기판에 핫-엠보싱법으로 상기 트렌치를 형성하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 14 |
14 제1항에 있어서, 상기 기판은 글라스 및 상기 글라스 상에 코팅된 폴리머 또는 나노 복합체 재질의 박막을 포함하며, 핫 엠보싱법을 사용하여 상기 폴리머 또는 상기 나노 복합체 재질의 박막에 트렌치들을 형성하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 15 |
15 제1항에 있어서, 상기 기판은 글라스 및 상기 글라스 상에 코팅된 폴리머 또는 나노 복합체 재질의 박막을 포함하며, 상기 글라스 상에 상기 폴리머 또는 상기 나노 복합체 재질의 박막이 코팅되는 과정에서 엠보싱법을 사용하여 상기 폴리머 또는 상기 나노 복합체 재질의 박막에 트렌치를 형성하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 16 |
16 소정간격 이격된 트렌치들과, 상기 인접한 트렌치들 사이에 위치한 홈이 형성된 기판을 준비하는 단계; 상기 트렌치들 각각의 밑면 일부 및 일측면에 제1 도전성 물질을 일측으로부터 비스듬히 증착하여 제1 전극층을 형성하는 단계; 상기 제1 전극층이 형성되지 않은 트렌치의 일부분 및 상기 제1 전극층 상에 태양전지층을 형성하는 단계; 상기 태양전지층상에 제2 도전성물질을 상기 일측의 맞은 편 타측으로부터 비스듬히 증착하여 제2 전극층을 형성하는 단계; 상기 제1 전극층이 노출되도록 상기 트렌치들에 형성된 태양전지층을 식각하고, 상기 홈들에 형성된 태양전지층을 식각하는 단계; 및 상기 노출된 제1 전극층과 상기 제2 전극층이 전기적으로 연결되도록 제3 도전성 물질을 상기 제2 전극층 상에 비스듬히 증착하여 도전층을 형성하는 단계를 포함하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 17 |
17 제16항에 있어서, 상기 홈은 상기 트렌치보다 폭이 작고 깊이는 같은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 18 |
18 제16항에 있어서, 상기 홈은 상기 트렌치보다 깊이는 깊고 폭은 같은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 19 |
19 제16항에 있어서, 상기 제2 전극층을 마스크로 사용하여 상기 태양전지층을 식각하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 20 |
20 제16항에 있어서, 상기 홈들에 형성된 태양전지층의 식각을 통하여 상기 기판이 노출되는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 21 |
21 제16항에 있어서, 상기 트렌치들 중 하나 이상의 트렌치들에 도전성 페이스트가 매립되는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 22 |
22 제16항에 있어서, 상기 트렌치들 중 서로 인접한 일부 트렌치들에 도전성 페이스트가 매립되며, 상기 도전성 페이스트가 매립되는 트렌치들 사이의 거리는 태양전지 영역의 트렌치들 사이의 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 23 |
23 제16항에 있어서, 상기 기판은 유리기판이나 폴리머기판 또는 나노 복합체 기판 중 어느 하나이며, 상기 유리기판, 상기 폴리머기판 또는 상기 나노 복합체 기판을 용융시킨 상태에서, 상기 유리기판이나 상기 폴리머기판 또는 상기 나노 복합체 기판 등이 굳기 전에 엠보싱 가공으로 상기 트렌치를 형성하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 24 |
24 제16항에 있어서, 상기 기판은 유리기판이나 폴리머기판 또는 나노 복합체 기판 중 어느 하나이며, 상기 유리기판이나 폴리머기판 또는 나노 복합체 기판에 핫-엠보싱법으로 상기 트렌치를 형성하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 25 |
25 제16항에 있어서, 상기 기판은 글라스 및 상기 글라스 상에 코팅된 폴리머 또는 나노 복합체 재질의 박막을 포함하며, 핫 엠보싱법을 사용하여 상기 폴리머 또는 상기 나노 복합체 재질의 박막에 트렌치들을 형성하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 26 |
26 제16항에 있어서, 상기 기판은 글라스 및 상기 글라스 상에 코팅된 폴리머 또는 나노 복합체 재질의 박막을 포함하며, 상기 글라스 상에 상기 폴리머 또는 상기 나노 복합체 재질의 박막이 코팅되는 과정에서 엠보싱법을 사용하여 상기 폴리머 또는 상기 나노 복합체 재질의 박막에 트렌치를 형성하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 27 |
27 소정 간격 이격된 트렌치들이 형성된 기판; 상기 트렌치들 각각의 밑면 일부 및 일측면에 형성된 제1 전극층; 상기 제1 전극층의 일부가 노출되도록 상기 기판 및 상기 제1 전극층 상에 형성된 태양전지층; 상기 태양전지층 상에 형성된 제2 전극층; 상기 노출된 제1 전극층과 상기 제2 전극층을 연결하며, 상기 제2 전극층 상에 형성된 도전층 을 포함하는 집적형 박막 태양전지 |
| 28 |
28 제27항에 있어서, 상기 제1 전극층은 상기 트렌치에 인접한 기판 표면 상에 형성되어 상기 제1 전극층과 연결되는별도의 전극층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 29 |
29 제27항에 있어서, 상기 트렌치의 밑면과 일측면이 이루는 각도는 90°보다 큰 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 30 |
30 제27항에 있어서, 상기 트렌치와 인접한 트렌치 상에 매립된 절연물질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 31 |
31 제30항에 있어서, 상기 태양전지층 내부에 제4 도전성 물질로 형성된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 32 |
32 제30항에 있어서, 상기 트렌치들 중 서로 인접한 일부 트렌치들에 도전성 페이스트가 매립되며, 상기 도전성 페이스트가 매립되는 트렌치들 사이의 거리는 태양전지 영역의 트렌치들 사이의 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 33 |
33 제30항에 있어서, 상기 트렌치들은 일 방향으로 기울어진 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 34 |
34 소정간격 이격된 트렌치들과, 상기 인접한 트렌치들 사이에 위치한 홈이 형성된 기판; 상기 트렌치들 각각의 밑면 일부 및 일측면에 형성된 제1 전극층; 상기 트렌치의 상기 제1 전극층과 상기 홈의 기판이 노출되도록 상기 기판 및 상기 제1 전극층 상에 형성되는 태양전지층; 상기 태양전지층 상에 형성된 제2 전극층; 및 상기 노출된 제1 전극층과 상기 제2 전극층이 전기적으로 연결되도록 상기 제2 전극층 상에 형성된 도전층을 포함하는 집적형 박막 태양전지 |
| 35 |
35 제34항에 있어서, 상기 홈은 상기 트렌치보다 폭이 작고 깊이는 같은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 36 |
36 제34항에 있어서, 상기 홈은 상기 트렌치보다 깊이는 깊고 폭은 같은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 37 |
37 제34항에 있어서, 상기 트렌치들 중 하나 이상의 트렌치들에 도전성 페이스트가 매립되는 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지의 제조 방법 |
| 38 |
38 제34항에 있어서, 상기 트렌치들 중 서로 인접한 일부 트렌치들에 도전성 페이스트가 매립되며, 상기 도전성 페이스트가 매립되는 트렌치들 사이의 거리는 태양전지 영역의 트렌치들 사이의 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 집적형 박막 태양전지 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | CN101901853 | CN | 중국 | FAMILY |
| 2 | EP02256828 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
| 3 | JP22278441 | JP | 일본 | FAMILY |
| 4 | US20100300525 | US | 미국 | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
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| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1028971-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20090526 출원 번호 : 1020090045804 공고 연월일 : 20110419 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110121 청구범위의 항수 : 38 유별 : H01L 31/042 발명의 명칭 : 집적형 박막 태양전지 및 그의 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국철강 주식회사 경상남도 창원시 성산구... |
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 1,527,000 원 | 2011년 04월 07일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 876,000 원 | 2014년 03월 28일 | 납입 |
| 제 5 - 7 년분 | 금 액 | 3,131,200 원 | 2015년 03월 26일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 1,544,000 원 | 2018년 04월 06일 | 납입 |
| 제 9 년분 | 금 액 | 1,544,000 원 | 2019년 04월 02일 | 납입 |
| 제 10 년분 | 금 액 | 2,330,000 원 | 2020년 03월 26일 | 납입 |
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0314873-76 |
| 2 | 보정요구서 | 2009.06.08 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2009-0037376-14 |
| 3 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2009.07.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0416629-12 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2009.08.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150204-36 |
| 5 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2009.08.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0484563-14 |
| 6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2009.09.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0552729-25 |
| 7 | [출원인변경]권리관계변경신고서 | 2009.09.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0569708-64 |
| 8 | [출원서등 보정]보정서 | 2009.10.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0612825-07 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2010.08.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2010-5148637-13 |
| 10 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.11.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 11 | 선행기술조사보고서 | 2010.12.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0075551-62 |
| 12 | 등록결정서 | 2011.01.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0040319-05 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 17 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 18 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 19 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1345097648 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 과C6A1611 |
| 연구과제명 | 전자통신기술사업단 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200603~201302 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
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